ES2237379T3 - Banda de transferencia intermedia con costura para la formacion de imagenes con revestimiento. - Google Patents

Banda de transferencia intermedia con costura para la formacion de imagenes con revestimiento.

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ES2237379T3
ES2237379T3 ES00127191T ES00127191T ES2237379T3 ES 2237379 T3 ES2237379 T3 ES 2237379T3 ES 00127191 T ES00127191 T ES 00127191T ES 00127191 T ES00127191 T ES 00127191T ES 2237379 T3 ES2237379 T3 ES 2237379T3
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Abstract

Una banda (40) de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes, que comprende: un sustrato (10) con costura formado por la unión de los extremos de una banda en una costura (11), en el que el sustrato con costura tiene una región de costura alrededor de dicha costura y una región alejada de dicha costura; y un revestimiento (38) sobre dicho sustrato (10) con costura que tiene una superficie portadora de tóner; en la que dicha región de costura tiene una correspondencia con las propiedades eléctricas con dicha región alejada para mantener una diferencia entre un campo de transferencia en dicha región de costura y un campo de transferencia en dicha región alejada menor del 20% de dicho campo de transferencia en dicha región alejada, y en la que dichas regiones de costura y alejada tienen una resistividad lateral mayor de 108 ohm/cuadrado.

Description

Banda de transferencia intermedia con costura para la formación de imágenes con revestimiento.
Campo de la invención
La presente invención se refiere a máquinas de impresión electrofotográfica que tienen bandas de trasferencia intermedia con costura.
Antecedentes de la invención
La impresión electrofotográfica es un procedimiento bien conocido y usado normalmente para copiar o imprimir documentos. La impresión electrofotográfica se realiza exponiendo una representación de imagen de luz de un documento deseado sobre un fotorreceptor cargado sustancialmente de forma uniforme. En respuesta a dicha imagen de luz el fotorreceptor se descarga, creando una imagen latente electrostática del documento deseado sobre la superficie del fotorreceptor. Posteriormente, el tóner es depositado sobre la imagen latente formando una imagen de tóner. La imagen de tóner es posteriormente transferida desde el fotorreceptor sobre un sustrato receptor, como por ejemplo una hoja de papel. La imagen de tóner transferida es posteriormente fundida con el sustrato, usando normalmente calor y/o presión. La superficie del fotorreceptor es posteriormente limpiada del material revelado residual y recargada en preparación para la producción de otra imagen.
Lo anterior describe generalmente máquinas de impresión electrofotográficas en blanco y negro. Una impresión electrofotográfica podrá también producir imágenes en color al repetir el procedimiento anterior para cada tóner de color que se usa para hacer la imagen de color. Por ejemplo, la superficie fotorreceptora podrá ser expuesta a una imagen de luz que represente un primer color, digamos negro. La imagen electrostática resultante podrá ser posteriormente revelada con partículas de tóner negras para producir una capa de tóner negro que será transferida subsecuentemente a un sustrato receptor. Posteriormente, el procedimiento podrá ser repetido para un segundo color, digamos amarillo, posteriormente para un tercer color, digamos violáceo, y finalmente para un cuarto color, digamos cian. Cuando las capas de tóner son colocadas en contacto superpuesto, se forma la imagen de tóner compuesta en color deseada y fundida sobre el sustrato receptor.
El procedimiento de impresión en color descrito anteriormente supropone las capas de tóner de color directamente sobre un sustrato. Otros sistemas de impresión electrofotográfica usan bandas de transferencia intermedias. En dicho sistemas, las capas de tóner sucesivas son transferidas electrostáticamente en contacto superpuesto desde del fotorreceptor sobre una banda de transferencia intermedia. Solamente después de que la imagen de tóner compuesta es formada sobre la banda de transferencia intermedia es que la imagen es transferida y fundida sobre el sustrato. Evidentemente, algunos sistemas de impresión electrofotográfica usan bandas de transferencia intermedias múltiples, transfiriendo el tóner hacia y desde las bandas en la forma requerida para cumplir con los requisitos de la arquitectura general de la máquina.
En operación, una banda de transferencia intermedia es puesta en contacto con un miembro soporte de la imagen de tóner, como por ejemplo una banda fotorreceptora. En la zona de contacto, un dispositivo generador de campo electrostático, como por ejemplo un corotron, un rodillo de transferencia polarizado, una cuchilla polarizada, o similares, crea campos electrostáticos que transfieren tóner sobre la banda de transferencia intermedia. Subsecuentemente, la banda de transferencia intermedia es puesta en contacto con un receptor. Dispositivos generadores de campo electrostático similares transfieren posteriormente el tóner desde la banda de transferencia intermedia hasta el receptor. En función del sistema, un receptor podrá ser otro miembro de transferencia intermedia o un sustrato sobre el cual el tóner se fije eventualmente. En cualquier caso, el control de los campos electrostáticos en, y en las proximidades de, la zona de transferencia es un factor significativo en la transferencia del tóner.
Bandas de transferencia intermedia adoptan a menudo la forma de bandas con costura fabricadas uniendo dos extremos de material de banda conjuntamente, como por ejemplo mediante soldadura, cosido, cosido con alambre, grapado o pegado. Mientras que las bandas de transferencia intermedia sin costura son posibles, éstas requieren procesos de fabricación que las hacen mucho más costosas que las bandas de transferencia intermedia con costura similares. Esto es particularmente cierto cuando la banda de transferencia intermedia es muy larga. Mientras que las bandas de transferencia intermedia con costura tienen un coste relativamente bajo, la costura introduce una discontinuidad que interfiere con las propiedades eléctricas, térmicas y mecánicas de la banda. Mientras que resulta posible sincronizar la operación de la impresora con el movimiento de la banda de transferencia intermedia, de forma que el tóner no sea transferido electrostáticamente sobre la costura, dichas sincronización añade costos y complejidad a la impresora, dando como resultado una pérdida de productividad. Adicionalmente, dado que las impresoras electrofotográficas de alta velocidad producen normalmente imágenes sobre hojas de papel que son cortadas de una "banda continua" de papel, si se evita la costura, la parte no utilizada resultante de la banda continua de papel debe ser cortada, produciendo residuos. Además, incluso con sincronización, los problemas mecánicos relacionados con la discontinuidad, como por ejemplo el excesivo desgaste del elemento limpiador y las vibraciones mecánicas todavía perduran.
Las bandas de transferencias intermedias aceptables requieren una resistencia de la costura suficiente para conseguir una vida de operación deseada. Mientras que la vida de operación deseada depende de la aplicación específica, normalmente será de al menos 100.000 ciclos operativos y más preferentemente de 1.000.000 ciclos. Considerando que una banda de transferencia intermedia con costura sufre tensiones mecánicas procedentes de la tensión de la banda que se desplaza sobre los rodillos, se mueve a través de las áreas de contacto de transferencia y el paso a través de los sistemas de limpieza, la consecución de una larga vida operativa no es trivial. De dicha forma, las limitaciones en conflicto de la vida larga y el tamaño topográfico limitado de la costura sitúan un premio en la resistencia del adhesivo y la buena construcción de la costura.
El enfoque de la técnica anterior de "corte tipo puzzle" para bandas de transferencias intermedias con costura reduce significativamente los problemas mecánicos al producir una costura mecánica mejorada. La patente de los Estados Unidos número 5.514.436, concedida el 7 de mayo de 1996, titulada "Banda con costura cortada tipo puzzle", la patente de los Estados Unidos número 5.549.193 titulada "Banda con costura sin fin con escasas diferencias de grosor entre la costura y el resto de la banda", y la patente de los Estados Unidos número 5.487.707, concedida el 30 de enero de 1996 titulada "Banda con costura con corte en puzzle con unión entre superficies adyacentes mediante un adhesivo curado con UV", enseñan del enfoque de corte tipo puzzle. Mientras que los cortes tipo puzzle reducen los problemas mecánicos, todavía permanecen otras dificultades con la transferencia del tóner sobre, y el desprendimiento del mismo de, la costura de una banda de transferencia intermedia con costura.
Para que la transferencia del tóner sobre, y el desprendimiento de, la costura sea aceptable, la imagen final producida a través de la costura deberá ser de una calidad comparable a las imágenes formadas a través del resto de la banda. Esta tarea es dificultosa debido a un número de factores interrelacionados. Alguno de dichos factores se refiere al hecho de que la costura no debería impactar grandemente en los campos electrostáticos usados para transferir el tóner. Sin embargo, los campos de transferencia electrostáticos son en sí mismos función de las propiedades eléctricas de la banda de transferencia intermedia. Mientras que esta dependencia es compleja y subsecuentemente será dada una explicación más detallada de este tema, expresado con brevedad existen unas condiciones en las que los campos de transferencia son muy sensibles a la resistida y al grosor del material usado con las diversas capas de la banda de transferencia intermedia. Bajo otras condiciones, los campos de transferencias electrostáticos son relativamente insensibles a dichos factores. Similarmente, existen condiciones en las que los campos de transferencia electrostáticos son muy sensibles a las constantes dieléctricas de los materiales usados para las capas de la banda de transferencia intermedia, y otras condiciones en las que los campos de transferencia electrostáticos son insensibles a las constantes dieléctricas. Por lo tanto, para transferir con éxito el tóner sobre una banda de transferencia intermedia con costura, y desprenderlo de la misma, las propiedades eléctricas a través y alrededor de la costura deberían controlarse cuidadosamente para producir una relación apropiada con el resto de la banda. Dado que las propiedades eléctricas dependen de factores interrelacionados de la geometría de la costura, la construcción de la costura (como por ejemplo el adhesivo más allá de la costura), la topografía de la costura, el grosor de la costura, la presencia de un revestimiento y diversos factores que deberán ser tomados en consideración para una aplicación dada.
De lo anterior podrá apreciarse que si el tóner no se debe transferir sobre una costura y desprenderse de la misma, las propiedades críticas en la región de la costura deberán controlarse, de forma que los campos de transferencia electrostáticos a través de la costura deberán ser cercanos a los que están alejados de la costura. Mientras condiciones que consiguen esto se explican con más detalle en lo que sigue, genéricamente dichas condiciones implica el uso de "intervalos de resistividad prohibidos". Sin embargo, debe hacerse notar que sólo se necesita suministrar unas condiciones de la costura que den como resultado unos campos de transferencia electrostáticos "suficientemente cercanos". Suficientemente cercano depende de la tolerancia de un sistema dado a diferencias en los campos de transferencia electrostáticos. La experiencia muestra que algunos sistemas podrán tolerar más de un 20% de diferencias en los campos de transferencia electrostática sin una diferencia significativa en la imagen final. Sin embargo, sistemas de color de alta calidad normalmente deberán tener menos de un 10% de diferencia para evitar problemas apreciables. Sin embargo "suficientemente cercano" se determina mejor mediante experimentación.
Incluso si las propiedades eléctricas de una banda de transferencia intermedia con costura son apropiadas para producirán imágenes aceptables a través de la región de la costura, permanecen otros problemas. Por ejemplo, con las bandas de transferencia intermedia con costura de la técnica anterior se considera aceptable una limpieza y transferencia relativamente pobre alrededor de la costura. Sin embargo, si el tóner debe ser transferido sobre la región de la costura y desprenderse de la misma, la costura debe ser limpiada apropiadamente. De dicha forma, las propiedades de liberación y fricción del tóner a través de la región de la costura deberían ser comparables con las del resto de la banda. Además, la mayoría de las bandas de trasferencia intermedia con costura de la técnica anterior tienen un "escalón" significativo donde la banda se superpone para formar la costura. Dicho escalón puede ser tan grande como 25 micrómetros. Una escalón como el mencionado interfiere significativamente con la trasferencia y limpieza. De dicha forma, si el tóner que va a ser transferido sobre la costura y desprendido de la misma, la topografía, liberación del tóner y fricción de la costura están mucho más limitadas que dichas otras bandas de trasferencia intermedia con costura.
De lo anterior, podrá apreciarse que la topografía de la costura es muy importante si se desea transferir tóner sobre una región de la costura y desprenderlo de la misma, sin una degradación significativa de la imagen final. La topografía de la costura incluye no solamente la propia costura, sino también cada desbordamiento de adhesivo usado en la costura. Este desbordamiento se puede producir tanto en el lado que soporta el tóner como en el lado posterior de la banda. El desbordamiento del adhesivo es importante dado que la resistencia de la costura de la banda podrá depender de dicho desbordamiento. Sin embargo, un desbordamiento excesivo incrementa los diversos problemas mecánicos, eléctricos y xerográficos. Además, las características eléctricas del adhesivo permanecen importantes.
Cuando se intenta transferir tóner sobre una región de la costura y desprenderlo de la misma, la topografía de la costura introduce perturbaciones espaciales que se clasifican convenientemente como perturbaciones de "corta longitud de onda" y perturbaciones de "larga longitud de onda". Mientras que dichas perturbaciones se refieren tanto a la distancia media entre defectos espaciales cresta a valle, las perturbaciones de corta longitud de onda son menores, por ejemplo menores de 3 milímetros, mientras que las perturbaciones de larga longitud de onda son grandes, por ejemplo mayores de 3 milímetros. Mientras que ambas perturbaciones deben ser suficientemente controladas, las perturbaciones de corta longitud de onda requieren normalmente un control más riguroso que las perturbaciones de larga longitud de onda. Las perturbaciones de corta longitud de onda en el lado de soporte del tóner de la banda son mucho más significativas que en el lado posterior de la misma.
Las perturbaciones de cortas longitudes de onda incluyen, por ejemplo, baches, valles o escalones, pliegues o distorsiones y rugosidades cresta a valle. Dichos defectos son el resultado del tipo de costura, derrames de adhesivo, fabricación de la costura, lijado o pulido. Uno de los problemas con las perturbaciones de longitudes de onda corta es que introducen pequeños espacios de aire no deseados en las áreas de contacto de trasferencia. Debido a la rigidez de la banda se produce algo de "efecto de tienda de campaña" es debido a la topografía de las longitudes de onda cortas y los espacios de aire extra originados por la topografía de las cortas longitudes de onda podrán extenderse bastante lejos, más allá de la localización de la distorsión entre valles. Los espacios de aire no deseados podrán ser reducidos mediante presión en el área de contacto de transferencia. De dicha forma, un dispositivo de generación de campo de transferencia presurizado, como por ejemplo un rodillo de transferencia polarizado conformable se prefiere generalmente a un dispositivo de generación de campo de transferencia sin presión, como por ejemplo un corotron.
Pequeños espacios de aire no deseados se podrán reducir usando una banda de transferencia intermedia que tenga un revestimiento conformable. Sin embargo, un revestimiento conformable podrá introducir otros problemas, como por ejemplo fricción o una pobre liberación electrostática del tóner. Además para perturbaciones de longitudes de onda muy cortas, como por ejemplo un gran bache en la costura, la presión necesaria para eliminar los espacios de aire no deseados que es normalmente impracticable incluso si se utiliza un revestimiento conformable.
En el lado de soporte del tóner, espacios de aire no deseados podrán limitar significativamente los campos de transferencia electrostática debido a la rotura de aire de Paschen. Como se conoce en la técnica, para espacios de aire entre aproximadamente 5 y 100 micrómetros, el campo máximo E_{c} que se puede soportar antes de una rotura en el espacio de aire d_{A} disminuye a medida que se incrementa el espacio vacío de aire. A esto se denomina la rotura de aire Paschen y se puede expresar aproximadamente como E_{c} = [6,2 voltios/m + (312 voltios)/d_{A}]. Cuando se aplica un campo electrostático en un espacio de aire trata de situarse por encima de E_{c}, se produce una carga de rotura de aire que limita el campo próximo a, o por debajo de, E_{c}. Dado que un espacio de aire de 5 a 15 micrómetros pueden estar presente cerca de los bordes y dentro de una imagen de tóner, espacios de aire extras reducirán el campo electrostático máximo que puede estar presente durante la transferencia electrostática del tóner. Por ejemplo, si los espacios de aire en una capa de tóner son de aproximadamente 15 micrómetros, la rotura de aire Paschen limitará los campos electrostáticos aplicados a aproximadamente 27 voltios/micrómetros. Sin embargo, si un espacio de aire no deseado de 10 micrómetros es introducido por la costura, el espacio de aire total se incrementa hasta 25 micrómetros y el campo eléctrico transferido estará limitado a aproximadamente 18,7 voltios/micrómetro. Mientras que un campo electrostático de transferencia depende de muchos factores, los campos electrostáticos de transferencia del espacio de aire están por encima de aproximadamente 20 voltios/micrómetro y a menudo por encima del 35 voltios/micrómetro.
Además de los problemas de transferencia, las perturbaciones de longitud de onda corta podrán degradar la efectividad de los sistemas de limpieza. Los sistemas de limpieza por cuchilla tienden a trabajar mejor con pequeños perturbaciones de longitudes de onda corta. Por ejemplo perturbaciones de longitudes de onda corta de aproximadamente 0,1 micrómetros podrán dar como resultado una fricción reducida entre la cuchilla y la superficie de limpieza, ayudando de dicha forma a la limpieza.
Por lo tanto, cuando se intenta transferir tóner sobre una región de la costura y desprenderlo de la misma, la topografía de la costura no debería introducir espacios de aire en el área de contacto de transferencia por encima de aproximadamente 10 micrómetros. Preferentemente, espacios de aire no deseados deberían ser menores que aproximadamente 5 micrómetros, y más preferentemente menores de aproximadamente de 1 micrómetro.
Cuando se intenta transferir tóner sobre una región de la costura y desprenderlo de la misma sin impactar de forma grave la imagen final, las perturbaciones de longitudes de onda larga en la costura deberán también estar controladas lo suficientemente para producir una imagen final aceptable. Ejemplos de perturbaciones de longitudes de onda larga incluye "rizos en la banda" o "ondulaciones en la banda" mayores de 3 milímetros. Las perturbaciones de longitudes de onda larga normalmente son menos importante que las perturbaciones de longitudes de onda corta a causa de que la baja presión relativa sobre la banda podrá aplanar las perturbaciones de longitudes de onda larga. De dicha forma, se prefiere usar un dispositivo de generación de campo de trasferencia presurizado, como por ejemplo un rodillo de trasferencia polarizado formadoro de un área o línea de contacto. También se consideraba beneficioso tensar la banda en las zonas de limpieza, de forma que la banda sea relativamente plana.
Mientras que perturbaciones pequeñas pueden ser significativas en el lado de soporte del tóner de una banda, grandes perturbaciones en la parte posterior podrá normalmente ser toleradas. En primer lugar, esto es a causa de que los espacios de aire introducidos por las perturbaciones en el lado posterior no originan normalmente espacios de aire no deseados en el lado de soporte del tóner de la banda. Por lo tanto, una rotura de aire Paschen introducida en el lado posterior no da como resultado un problema grave. En segundo lugar, dado que una buena limpieza en el lado posterior no es normalmente requerida, las limitaciones topográficas relacionadas con la limpieza no son normalmente un problema. Finalmente, para una banda conformable, la conformidad de la banda podrá prevenir huelgos en el lado posterior de la banda sin resultar un problema significativo. En general, la topografía en el lado posterior no debería introducir espacios de aire superiores a 10 micrómetros, y preferentemente deberían ser menores de 5 micrómetros.
Mientras que las bandas intermedias con costura sin revestimiento son relativamente fáciles de fabricar a un costo relativamente bajo, un revestimiento sobre la superficie portadora del tóner podrá asegurar que la región de la costura tiene las mismas propiedades de liberación del tóner y definición que el resto de la banda. Esto permite usar un número más amplio de adhesivos. Por lo tanto, las bandas de transferencia intermedias con costura incluyen normalmente una capa sustrato y un revestimiento formado de una o más capas de revestimiento. Dichas capas tienen propiedades eléctricas que previenen altas caídas de tensión a través de la banda, que previenen altos campos de transferencia con anterioridad al área de contacto de transferencia por medio de una conducción lateral de la banda que evitar la acumulación de cargas y el flujo de altas corrientes.
Mientras que las propiedades eléctricas de las bandas de transferencia intermedia con costura deberían controlarse para integrar dicha banda con otros subsistemas electrofotográficos de la impresora, resistividades aceptables de la banda deberían ser menores de 1 x 10^{13} ohm-cm de resistividad volumétrica y más de 1 x 10^{8} ohm/cuadrado de resistividad lateral. La resistividad lateral se define como la resistividad volumétrica en la dirección del movimiento de la banda dividido por el grosor de la capa. En algunos casos, la resistividad de la banda es sensible al campo aplicado. En dichos casos, la resistividad volumétrica debería ser referenciada a la de un rango correspondiente de campos aplicados. Mientras que el campo aplicado depende del diseño del sistema particular, el límite superior de la resistividad volumétrica se mide genéricamente en un campo correspondiente entre 10 y 100 voltios a través del grosor de la capa, y el límite inferior de la resistividad lateral de interés se mide genéricamente entre 500 y 2000 voltios/cm.
Las bandas de transferencia intermedia con costura podrán tener también limitaciones en el límite inferior de su resistividad volumétrica en la dirección del grosor. Típicamente dichas limitaciones se producen en sistemas en los que la banda intermedia hace contacto o se mueve demasiado próximo a la superficie resistiva en una zona de transferencia en la que existe la posibilidad de una alta resistividad o flujo de densidad de corriente de descarga de corona entre la banda y la superficie de baja resistencia. Un ejemplo de un sistema como el mencionado es un fotorreceptor de tambor que tiene arañazos o agujeros de alfiler en un revestimiento del tambor que debería ser aislante. Una banda de transferencia intermedia podrá momentáneamente ponerse muy cercana o incluso tocar el sustrato del tambor altamente conductor en los arañazos o agujeros de alfiler en la zona de transferencia. Otro ejemplo es un sistema que transfiere tóner desde una banda de transferencia intermedia a un segundo receptor de transferencia intermedio relativamente conductor. En sistemas como los mencionados si la resistencia compuesta R_{comp} del sistema intermedio en el área de contacto de transferencia es demasiado baja, podrán producirse problemas debido al flujo de densidad de corriente localmente alto entre la superficie de la banda de transferencia intermedia y las superficies de contacto de baja resistividad en el área de contacto de transferencia. Problemas podrán incluir un "cortocircuito" local entre la superficie de la banda de transferencia intermedia y el receptor que puede originar pérdidas momentáneas del campo de transferencia electrostático aplicado localmente, y de dicha forma dar como resultado una transferencia de degradada de tóner. La resistencia compuesta, R_{comp} en el área de contacto de transferencia es la suma de todos los recorridos de resistencia de "cortocircuito" en los contactos de transferencia. El recorrido de resistencia compuesta incluye, por ejemplo, el recorrido eficaz de la resistencia del dispositivo generador del campo de transferencia, el recorrido de transferencia del sustrato de banda intermedio y el recorrido de resistencia del revestimiento de la banda intermedio.
Las cuestiones del cortocircuito podrán resolverse asegurando que existe un recorrido resistencia compuesta "suficientemente alta" dentro de los contactos de transferencia. Si una resistencia compuesta es "suficientemente alta" depende del sistema, y especialmente del tipo del suministro de potencia usado por el sistema generador de campo. La cuestión del cortocircuito se produce cuando el flujo de la corriente de fuga de cortocircuito en los contactos de transferencia intermedia es demasiado alto. El flujo de corriente de resistencia de cortocircuito es la diferencia de potencial aplicado en el área de contacto de transferencia dividido por la resistencia compuesta. Por ejemplo, la corriente será "demasiado alta" cuando exceda la capacidad de la corriente de suministro. Suministros de potencia típicos usados para los sistemas de transferencia limitan la corriente a menos de 2 miliamperios, de forma que corrientes de cortocircuito son "demasiado altas" para la mayoría de los sistemas. Otros suministros de potencia usados en los sistemas de transferencia usan un control de suministro de potencia de corriente constante. En dicho sistemas, los campos de transferencia aplicados están relacionados con la parte de la corriente controlada que no es una corriente de fuga de cortocircuito. De dicha forma, cualquier corriente de fuga de cortocircuito tiende a reducir significativamente los campos de transferencia. Típicamente, con un control de corriente constante, la corriente de fuga de cortocircuito será "demasiado alta" cuando la corriente de fuga exceda próximamente del 20% del control de corriente constante nominal. El límite de la resistividad inferior permitido de una banda de transferencia intermedia también depende de otras entradas al sistema. Por ejemplo, el problema de cortocircuito originado por defectos del fotorreceptor dependen del tamaño de los defectos que están presentes en el sistema. De dicha forma, en sistemas que mantienen unas capas de revestimiento del tambor con una resistencia dieléctrica alta libre de defectos, el cortocircuito debido a los defectos en el tambor podrán evitarse incluso con bandas de transferencia intermedia con resistividad volumétrica extremadamente baja. De dicha forma, el límite inferior permitido para la resistividad volumétrica podrá variar ampliamente. Todavía, la experiencia sugiere recomendaciones para evitar problemas de cortocircuitos. Para evitar problemas en sistemas que tienen una "pequeña área de contacto de cortocircuito" en el área de contacto de transferencia, como en el ejemplo de defectos en el tambor, la resistividad volumétrica de la capa más superior de la banda de transferencia intermedia debería estar por encima de 10^{7} ohm-cm, con preferencia por encima de 10^{8} ohm-cm. Los valores de resistividad aplicados para espesores de la capa de material intermedio es al menos alrededor de 25 micrómetros de grosor o mayores. Si la resistividad de los materiales usados para la banda de transferencia intermedia son sensibles al campo aplicado, la resistividad volumétrica debería medirse con un potencial aplicado a través de la banda de transferencia similar a la diferencia de potencia aplicada usada en el sistema de transferencia. Como materiales intermedios de baja resistividad, esto es normalmente alrededor de 200 a 1000 voltios a través del grosor del material de banda intermedia.
Los expertos en la técnica de la transferencia electrostática podrán apreciar que las propiedades eléctricas permitidas para una aplicación de banda de transferencia intermedia particular podrá depender de muchos factores. De dicha forma, algunos sistemas podrán conseguir rendimientos de transferencia intermedia aceptables con capas de material de banda de transferencia intermedia que tengan una resistividad mucho más alta de 1 x 10^{13} ohm-cm y con capas de materiales que tengan una resistividad lateral muy inferior 1 x 10^{8} ohm/cuadrado. Por ejemplo, un problema con capas de materiales intermedios de alta resistividad es la acumulación de cargas entre las estaciones de transferencia o ciclos de la banda. Sin embargo, problemas de acumulación de cargas podrán dirimirse con capas de material de banda que tengan una resistividad mucho más altas de 1 x 10^{13} ohm-cm si se suministran dispositivos de acondicionamiento de carga apropiados, como por ejemplo corotrones o escorotrones, a lo largo de la circunferencia de la configuración de la banda de transferencia intermedia para reducir y nivelar las acumulaciones de carga no deseadas. Generalmente, con capas de materiales intermedios de alta resistividad, en sistemas de color, los dispositivos de acondicionamiento de carga son necesarios pero no suficientes. Para ser totalmente eficaces, el grosor dieléctrico total en cualquier capa de banda de alta resistividad deberá mantenerse bajo, normalmente menor de 25 micrómetros y preferentemente menor de 10 micrómetros. Costes no deseados y complejidad se introducen por la necesidad de disponer de dispositivos de acondicionamiento de cargas cíclicas, y por lo tanto sistemas intermedios normalmente más preferidos son materiales intermedios de baja resistividad.
Similarmente, aunque no preferentemente, algunos sistemas podrán usar bandas de transferencia intermedia que tengan capas de material sobre la banda con una resistividad lateral menor de 1 x 10^{8} ohm/cuadrado. Dichas bandas normalmente no son deseadas dado que si cualquier capa de una banda de transferencia intermedia tiene una resistividad lateral algo menor de 1 x 10^{8} ohm/cuadrado, campos de transferencia altamente electrostáticos podrán producirse en la región anterior al área de contacto de las zonas de transferencia antes del contacto de la banda con el tóner. Altos campos anteriores al área de contacto de transferencia podrán originar transferencias de tóner a través de grandes espacios de aire en la región anterior al área de contacto de transferencia y esto podrá dar como resultado perturbaciones indeseables en el tóner o salpicaduras en el tóner más allá de los bordes de la imagen. También, debido a la conducción lateral de la carga alejada del área de contacto de transferencia de contacto, cualquier incremento en los campos de transferencia en el área de contacto de transferencia de contacto incrementa automáticamente los campos en la región anterior al área de contacto. Esto podrá originar roturas de aire en la zona anterior al área de contacto de transferencia entre el tóner y la banda intermedia anterior al área de contacto de transferencia de contacto. El intercambio de cargas debido a la roturas de aire anteriores al zona del área de contacto de transferencia limita los campos de transferencia aplicados y tiende a invertir la polaridad de cualquier tóner no transferido en la región anterior al área de contacto de transferencia. Esto podrá limitar la eficacia de transferencia y podrá originar defectos en la imagen debidos a la naturaleza no un informe de la roturas de aire anteriores al área de contacto de transferencia críticas. Sin embargo, si la adhesión del tóner en un sistema particular es baja, de forma que los campos de transferencia electrostáticos requeridos en el área de contacto de transferencia para una buena transferencia son bajos, problemas de campos en la zona anterior al área de contacto de transferencia originados por la conducción lateral podrán ser una cuestión menor. Entonces, algunos sistemas podrán conseguir rendimientos de transferencia aceptables a pesar de tener una resistividad lateral interna banda intermedia baja.
Una complicación para habilitar la transferencia del tóner sobre una región de la costura y desprenderlo de la misma de una banda de transferencia intermedia con costura es que las propiedades eléctricas de una banda de transferencia intermedia y la banda no son genéricamente constantes. Por ejemplo, la resistividad de la mayoría de los materiales usados para bandas de transferencia intermedia con costura depende de los campos dentro del material. Dichas propiedades eléctricas podrán depender también del medio, envejecimiento y uso. Además, muchos procedimientos de fabricación podrán producir una distribución muy amplia de valores de resistividad para materiales de película debidos a variaciones pequeñas en los factores del control de resistividad en los procedimientos de fabricación. Dicha forma, los material usado para bandas de transferencia intermedias y para los adhesivos de la costura podrán tener resistividades que varían por más de un factor de 100. Por lo tanto, un sistema transferencia en el cual el tóner es transferido sobre una región de la costura y desprendido de la misma de una banda de transferencia intermedia con costura deberá estar diseñado para operar en una amplia gama de propiedades eléctricas.
Un procedimiento para compensar las amplias variaciones de las propiedades eléctricas de bandas de transferencia intermedias es el uso de un enfoque del "control del punto de establecimiento". Por ejemplo, un punto de establecimiento, como por ejemplo una tensión aplicada o un dispositivo generador de campo, podrá ajustarse para compensar los efectos ambientales, por ejemplo la temperatura y la humedad relativa que en caso contrario cambiarían las propiedades eléctricas de la banda de transferencia intermedias. Dicho enfoque es eficaz dado que cambios en las propiedades eléctricas debidos al medio ambiente son sustancialmente los mismos en todos los puntos a lo largo de la banda. En general, el enfoque de control del "punto de establecimiento" permite una tolerancia más amplia en las propiedades eléctricas de la banda de transferencia intermedia, para prever que dichas propiedades no varían grandemente a lo largo de la periferia de la banda. Sin embargo, el enfoque del control del punto de establecimiento pierde efectividad cuando las propiedades eléctricas de la banda de transferencia intermedia varían respecto a pequeñas distancias, como por ejemplo a través del huelgo de la costura. Por lo tanto, una banda de transferencia intermedia con costura apropiada para recibir y transferir tóner sobre una región de la costura y desprenderlo de la misma podrá requerir generalmente unas propiedades eléctricas de la costura que mantengan una relación cercana con las propiedades eléctricas cambiantes del resto de la banda. Esto presenta un problema dado que las propiedades eléctricas de muchos adhesivos para costuras en cualquier otro caso buenos podrán no tener las mismas respuestas que en el resto de la banda.
Por lo tanto, en vista de la deseabilidad de transferir tóner sobre una región de la costura y desprenderlo de la misma de una banda de transferencia intermedia con costura sin una degradación significativa de la imagen final, y en vista de las limitaciones de las bandas de transferencia intermedia con costura de la técnica anterior, una nueva banda de transferencia intermedia con costura sería beneficiosa.
Sumario de la invención
El objeto de la presente invención es mejorar una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes respecto a prevenir la degradación de la imagen final. Este objeto se consigue suministrando una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes según la reivindicación 1.
Breve de descripción de los dibujos
Otras características de la presente invención se volverán patentes a medida que procede la descripción siguiente y haciendo referencia a los dibujos, en los que:
La figura 1 es una representación isométrica de una capa sustrato con costura cortada en forma de puzzle.
La figura 2 muestra una pauta de lengüeta cortada en forma de puzzle usada en la capa sustrato de la figura 1.
La figura 3 ilustra la lengüeta cortada en forma de puzzle usada en la capa sustrato de la figura 2 interbloqueada conjuntamente.
La figura 4 ilustra la lengüeta cortada en forma de puzzle usada en la capa sustrato de la figura 3 con el escalón de la figura 3 relleno con un adhesivo.
La figura 5 es una vista recortada de una banda de trasferencia intermedia en la cual un adhesivo se aplica sobre una capa sustrato para formar un revestimiento externo.
La figura 6 es una vista recortada la de una banda de transferencia intermedia en la cual un adhesivo se aplica a la costura y un revestimiento se añade sobre la capa sustrato y el adhesivo para formar un revestimiento.
La figura 7 es una vista lateral cerrada de una banda de transferencia intermedia en la cual un adhesivo se aplica a los extremos superpuestos de un sustrato.
Y la figura 8 es una representación esquemática de una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes en un área de contacto de transferencia.
Descripción detallada de la invención
Aunque los principios de la presente invención se describen en lo que sigue en conexión con diversas formas realización, debe sobrentenderse que la presente invención no está limitada a dichas formas de realización. Por el contrario, la presente invención pretende cubrir todas las alternativas, modificaciones y equivalentes que puedan estar incluidas dentro del espíritu y ámbito de las reivindicaciones adjuntas.
Los principios de la presente invención suministran una banda de transferencia intermedia con costura que es apropiada para recibir tóner, incluido sobre la región de la costura y para la transferencia subsecuente de dicho tóner sobre un receptor en el procedimiento de producir una imagen final. Dicha banda de transferencia intermedia es subsecuentemente denominada como banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes. Dicha banda comienza con una capa sustrato 10 en la forma mostrada en la figura 1. En la práctica, dicha capa sustrato es usualmente semiconductora. El sustrato tiene sus extremos unidos conjuntamente para formar un miembro continuo usando un adhesivo aplicado externamente. Alternativamente, el miembro continuo podría estar formando fundiendo los extremos del sustrato conjuntamente usando soldadura por calor, soldadura por disolvente u otros métodos de unión. La región alrededor de los extremos unidos podrá tener propiedades que son significativamente diferentes de las regiones alejadas de la región de la costura de la banda unida. Dichas regiones adyacentes locales se denominarán como la región del "huelgo".
De forma beneficiosa, los extremos son unidos usando lengüetas "de corte en forma de puzzle" cortadas mecánicamente que forman una costura 11. Aunque la costura se ilustra cómo siendo perpendicular a dos lados paralelos de la capa sustrato, la costura podría estar en forma de ángulo o inclinada con respecto a los lados paralelos. Aunque la costura 11 está cortada en forma de puzzle podría también estar formada de otras formas, como por ejemplo usando una costura superpuesta (véase la figura 7). Sin embargo, el corte en forma de puzzle es el caso actualmente preferente. Se hace referencia a las patentes de los Estados Unidos 5.487.707, 5.514.436, 5.549.193, 5.721.032 para información adicional en las pautas en forma de puzzle. Normalmente, la costura 11 tiene una anchura de aproximadamente 6,35 mm.
La capa sustrato 10 podrá estar fabricada de un número de materiales diferentes, incluyendo poliésteres, poliuretanos, poliimidas, cloruros de polivinilo, poliolefinas (como polietileno y polipropileno) y/o poliamidas (como nilon, policarbonatos o acrílicos). Si se requiere, el material seleccionado se modifica por la elección de una carga apropiada, de forma que la capa sustrato tenga una conductividad eléctrica deseada. Cargas apropiadas podrán incluir por ejemplo carbón, carbón Accuflor y/o polianalina. El material de la capa sustrato debería tener unas características físicas apropiadas para una aplicación de transferencia intermedia, incluyendo una buena resistencia a la tracción (módulo de Young, normalmente de 1 x 10^{3} a 1 x 10^{6} newton/m^{2}) resistividad (típicamente inferior a 10^{13} ohm-cm de resistividad volumétrica, de resistividad lateral mayor de 10^{8} ohm/cuadrado), una conductividad térmica, una estabilidad térmica, una resistencia a la flexión y una longevidad a alta temperatura. Más información respecto a la conductividad eléctrica se da en lo que sigue.
La figura 2 ilustra una pauta de lengüeta cortada en forma de puzzle. Cada lengüeta comprende un cuello 14 y un nodo 16 que encaja dentro de partes de interbloqueo hembras 15. Las lengüetas podrán estar formadas usando cualquier técnica de conformación convencional, como por ejemplo corte con troquel, corte con láser, o corte con rueda. La lengüeta de interbloqueo encaja de forma correspondiente para reducir la concentración de esfuerzos entre los elementos de interbloqueo y para permitir un fácil desplazamiento alrededor de los miembros curvos, como por ejemplo los rodillos 12 mostrados en la figura 1. Aunque la figura 2 muestra una pauta de corte en forma de puzzle, otras pauta son posibles. Se ha referencia al documento de patente US-A-5 997 974 o EP-A-905 570 titulado "Banda electroestratográfica con costura invisible" para otras pautas de corte en forma de puzzle.
La figura 3 ilustra las lengüetas cortadas en forma de puzzle de la figura 2 bloqueadas conjuntamente. El interbloqueo físico de las lengüeta cortadas en forma de puzzle podrá requerir presión cuando encajan conjuntamente las lengüeta. El interbloqueo produce un hueco entre los elementos que encajan mutuamente que se llama una entalladura 20. En la forma mostrada en la figura 4 las lengüetas de interbloqueo son mantenidas conjuntamente usando un adhesivo 22 que rellena la entalladura. El adhesivo está diseñado para ser compatible física, química, térmica, mecánica y eléctricamente con el material de la capa sustrato. Costuras con una entalladura de 25 micrómetros han sido típicas para una costura con corte de puzzle mientras que una entalladura menor de aproximadamente 5 micrómetros podrá ser preferente.
Para ser compatible con el material de la capa sustrato, el adhesivo debería producir una costura que sea resistente, lisa y mecánicamente uniforme. La resistencia y flexibilidad mecánicas de la costura deberían ser tales que la banda opere satisfactoriamente por al menos 100.000 ciclos, pero preferentemente más de 1.000.000 de ciclos. Además, los parámetros topográficos, como por ejemplo la diferencia de altura entre la costura y las partes sin costura de la capa sustrato y la distorsión cresta valle de la parte superior y de la parte inferior de la costura deberán estar por debajo de niveles críticos. Los niveles de parámetros de topografía aceptables podrán depender de los factores del sistema, de las propiedades eléctricas del adhesivo y si se aplica o no un revestimiento a la banda intermedia una vez que se ha producido la costura, todo lo cual será explicado en lo que sigue. Sin embargo, la costura debería estar normal y sustancialmente libre de grandes "baches", "valles" y otras distorsiones de corta longitud de onda.
En la práctica, el adhesivo 22 debería tener una viscosidad tal que penetre fácilmente dentro de la entalladura. Adicionalmente, la energía superficial del adhesivo debería ser compatible con el material de la capa sustrato, de forma que el adhesivo monje y se extienda adecuadamente en la entalladura. Además, el adhesivo debe permanecer flexible y se debe adherir bien al material de la capa sustrato. Finalmente, el adhesivo debería tener un escaso encogimiento durante su curado. Prácticas de fabricación apropiadas deberían usarse para prevenir perturbaciones excesivas de largas longitudes de onda y cortas longitudes de onda. Como ejemplo, el adhesivo podrá ser un adhesivo fundido en caliente que es calentado y presionado dentro de la costura, de forma que el adhesivo se aplana, haciéndose mecánicamente uniforme, en lo posible, con la capa sustrato 10. Alternativamente, el adhesivo debe ser un material similar a epoxi, adhesivos que se puede curar por UV, incluyendo epoxis acrílicos, polivinilbutiral, o similares. Además, el "adhesivo" podrá ser sustancialmente el propio material de sustrato, bien aplicado durante una etapa de aplicación de adhesivo separada o fundiendo los dos extremos lo suficiente para originar la adhesión de los elementos que concuerdan mutuamente. Tras la aplicación del adhesivo, la costura podrá ser acabada mediante, pulido con rueda de trapo, lijado o micropulido para conseguir una topografía suave.
Conseguir una topografía suave es importante para una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes. Como se ha explicado previamente, topografías suficientemente lisas a corta longitud onda y larga longitud de onda se requieren en el lado portador del tóner para evitar problemas de transferencia y de limpieza. También se necesita una topografía suficientemente lisa en el lado posterior para evitar problemas de transferencia. Las perturbaciones en la costura de cortas longitudes de onda para el lado posterior de la banda deberían ser menores de 10 micrómetros para evitar problemas de transferencia. En el lado portador del tóner las perturbaciones en la costura de cortas longitudes de onda deberían ser menores de 10 micrómetros, más preferentemente menores de aproximadamente 5 micrómetros, y más preferentemente menores de 1 micrómetro. Si se utiliza un sistema de limpieza por cuchilla, una superficie portadora del tóner más lisa, se considera preferente unas perturbaciones de la costura a cortas longitudes de onda de 1 micrómetro. En resumen, la topografía de la costura para una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes debería ser preferentemente sustancialmente la misma que la topografía de la banda en regiones alejadas de la costura. Sin embargo, podrá tolerarse algún grado de topografía degradada de la costura en tanto en cuanto la topografía de la costura esté dentro del las limitaciones permitidas para una aplicación particular. Por lo tanto, aunque los parámetros de topografía de la costura explicados previamente son una guía razonable, los parámetros reales serán determinados mejor de forma experimental para una aplicación particular.
Las propiedades eléctricas relativas del adhesivo y el sustrato son muy importantes a causa de que afectan significativamente las características de transferencia de la costura resultante en comparación con las características de transferencia del resto de la banda. Por lo tanto, el adhesivo debería producir una costura que tenga propiedades eléctricas que se correspondan con las de la capa sustrato. Es decir, en condiciones operativas una costura debería crear un campo de transferencia electrostática en las zonas de transferencia del tóner que estén dentro de al menos el 20%, preferentemente dentro del 10%, del campo de transferencia electrostático que está presente para el resto de la banda. Idealmente, las propiedades eléctricas de la costura son sustancialmente las mismas que la capa sustrato y tienen sustancialmente la misma dependencia de las propiedades eléctricas que el sustrato de todos los factores importantes, como por ejemplo el medio ambiente, el campo aplicado y el envejecimiento. Sin embargo, diferencias significativas en las propiedades eléctricas podrían permitir algunas condiciones de la banda capaz de formar imágenes en la forma explicada subsecuentemente. Las propiedades eléctricas del adhesivo podrán complementarse mezclando cargas o aditivos con el adhesivo. Por ejemplo, un adhesivo podrá contener plata, óxido de estaño indio, CuI, SnO_{2}, TCNQ, Quinoline, negro de humo, NiO y/o complejos iónicos como sales de amonio cuaternario, óxidos metálicos, grafito y cargas conductoras.
Con el adhesivo en la costura cortada en forma de puzzle, se aplica en uno o más revestimientos usando procesos convencionales, como por ejemplo revestimientos por inmersión, revestimientos por flujo y revestimientos por pulverización. En la forma mostrada en la figura 5, una banda 40 de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes podrá tener un revestimiento 38 que esté compuesto del propio adhesivo 22. Sin embargo, dado que las bandas de transferencia intermedia tienen unos requerimientos de liberación del tóner estrictos, podrá ser deseable usar un revestimiento 42 de liberación especial sobre la capa sustratos 10 y sobre el adhesivo 22, en la forma mostrada recortada en la figura 6. Una capa o capas de revestimiento adicionales podrán ser ventajosas por diversas razones. Un revestimiento podrá reforzar la resistencia de la costura. También podrá reducir las perturbaciones del campo de transferencia electrostático originados por acoplamientos entre las propiedades eléctricas del adhesivo y el sustratos. Los revestimientos podrán asegurar que también la fricción y las propiedades de liberación del tóner en la región de la costura son las mismas que sobre el resto de la banda. Esto incrementa el rango de adhesivos adaptables y previene las diferencias en transferencia y limpieza que podrían ocurrir en caso contrario. Finalmente, los revestimientos podrán alisar la región de la costura y reducir de dicha forma los problemas topográficos de la costura. Sin embargo, los revestimientos incrementan el coste y la complejidad de la fabricación de una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes.
Mientras que anteriormente se ha descrito el uso de lengüetas cortadas tipo puzzle, los principios de la presente invención se pueden poner en la práctica con otros tipos de uniones. Por ejemplo, la figura 7 ilustra una vista recortada de una banda 60 de transferencia intermedia. Dicha banda incluye una capa sustrato 62 que tiene unos extremos 64 y 66 que se superponen. Entre la superposición, y extendiéndose sobre la parte superior e inferior de la capa sustrato, se encuentra un adhesivo 68. De forma beneficiosa, el adhesivo se ahusada alejándose del área de superposición, de forma que se realizará una transición suave. Una transición suave es necesaria para evitar los problemas de topografía explicados anteriormente, y también para mejorar las características mecánicas de la banda de 60 de transferencia intermedia cuando pasa sobre un área de contacto. Sobre el lado superior de la banda existe un revestimiento 70.
Los revestimientos explicados con referencia a las figuras 5 a 7, de forma beneficiosa tienen unas características de baja fricción y buena liberación del tóner para permitir una buena transferencia y limpieza. Un coeficiente de fricción menor de aproximadamente 1,0, y preferentemente menor de 0,5 es apropiado. Materiales de revestimiento preferentes incluyen materiales de baja energía superficial libre, como por ejemplo fluoropolímeros TEFLON (marca registrada), incluyendo copolímeros de propileno etileno fluorinados (FEP), politetrafluoroetileno (PTFE), polifluoroalcoxy politetrafluoroetileno (PFA TEFLON (marca registrada)), fluoroelastómeros como los comercializados por DuPont con la marca comercial VITON (marca registrada), y materiales de silicona como fluorosiliconas cauchos de silicona.
Con referencia de nuevo la figura 6, en una forma de realización preferente de la banda 41 de transferencia intermedia, la capa sustrato 10, el adhesivo 22 y el revestimiento 42 son todos semiconductores. En sistemas de transferencia intermedia, una carga significativa se deposita sobre la banda cuando pasa a través de una zona de transferencia. Si la resistividad del revestimiento es demasiado alta, la caída de tensión a través del revestimiento crecerá tras cada una de las pasadas sucesivas a través de la zona de transferencia. Esto podrá interferir de forma adversa con el rendimiento de la transferencia. Un revestimiento de baja resistividad suficiente podrá disipar la caída de tensión a través del grosor del revestimiento, vía conducción durante el tiempo de parada entre pasadas sucesivas a través de las zonas de transferencia del tóner. La resistividad preferente pc para esta disipación de carga deseada depende del "tiempo de relajación de la carga cíclica". El tiempo de relajación de la carga cíclica T_{pcyC} debería ser preferentemente menor que una característica de "tiempo de parada cíclica" T_{dcy} que señala el tiempo que una sección de la banda de transferencia intermedia requiere para desplazarse entre zonas de transferencia sucesivas. El tiempo de parada cíclica es la distancia entre transferencias sucesivas dividido por la velocidad de la banda.
Si la resistividad del revestimiento es independiente del campo aplicado, el decaimiento exponencial de la carga a través del grosor del revestimiento se producirá y T_{pcyC} es dado por T_{pcyC} = K_{C}p_{C}e_{0}, donde K_{C} es la constante dieléctrica del revestimiento, pc es la resistividad volumétrica del grosor del revestimiento y eo es la permeabilidad del aire. Si se producen cambios en la resistividad del revestimiento con el campo aplicado no se producirá un decaimiento de la carga exponencial simple. Sin embargo, como una aproximación, las característica en el tiempo de relajación de la carga cíclica característica podrán usarse en la expresión T_{pcyC} = K_{C}p_{C}e_{0}, que podrá ser útil si la resistividad del revestimiento se especifica a un campo de interés aplicado que evite una caída de tensión demasiado grande a través del grosor. Para materiales de revestimiento que tienen una resistividad sensible al campo, la resistividad del revestimiento que debería usare en la expresión de relajación de la carga cíclica debería ser preferentemente la determinada a un campo aplicado correspondiente a menos de 100 voltios y más preferentemente a menos de 10 voltios a través del grosor de revestimiento. Una resistividad suficientemente baja en tales campos asegurará que existirá una baja caída detención a través de revestimiento. Como ejemplo, si un revestimiento tiene K_{C} = 3, un sistema de trasferencia intermedia con una velocidad de proceso próxima a 25,4 cm/s y una distancia entre trasferencia sucesivas de alrededor de 25,4 cm, la resistividad del revestimiento para la disipación de la carga debería ser de aproximadamente pc menor de 3,8 10^{12} ohm-cm. Para una velocidad de proceso diferente próxima a 7,62 cm y con las demás condiciones similares, la resistividad del revestimiento para la disipación de la carga debería ser preferentemente de aproximadamente pc menor de 10^{13} ohm-cm. Resistividades de revestimiento próximas al rango superior de los límites de alta resistividad son principalmente aceptables cuando el grosor dieléctrico del revestimiento D_{C} es suficientemente pequeño, preferentemente menor de aproximadamente 25 micrómetros. El grosor dieléctrico de un revestimiento es el grosor de revestimiento real dividido por la constante dieléctrica del revestimiento K_{C}. Como se explicará en lo que sigue, revestimientos gruesos podrán introducir problemas de trasferencia adicionales, y revestimientos gruesos tienden a trabajar mejor con una resistividad menor que los límites superiores explicados hasta el momento.
Un revestimiento suficientemente grueso, por ejemplo un grosor que es al menos comparable a aproximadamente la mitad del huelgo de la entalladura y preferentemente algo mayor que el tamaño del huelgo de la entalladura de la costura, podrán permitir algunas condiciones de la banda capaz de formar imágenes que no permitirían en otro caso. Como se explicará adicionalmente en lo que sigue, grosores de revestimiento mayores tienden a "ocultar" el efecto de las propiedades eléctricas del adhesivo en otros casos inaceptables. Esto es a causa del efecto perturbador sobre los campos electrostáticos de las propiedades eléctricas del huelgo de la banda tienden a hacerse menor con la distancia desde el huelgo de la banda. Los detalles de esto se explicarán en más tarde. Por ahora debe hacerse notar que podrá haber un interés en usar revestimientos gruesos para permitir ciertas condiciones de la banda capaz de formar imágenes opcionales.
Podrá haber rangos de la resistividad de revestimiento más preferentes si el grosor dieléctrico del revestimiento D_{c} es mayor, por ejemplo normalmente si D_{C} es próximo o algo mayor que aproximadamente 25 micrómetros. Si la resistividad del revestimiento está por encima de un valor crítico, el revestimiento comenzará a comportarse de forma similar a un "aislante" durante el tiempo de parada próximo a las áreas de contacto de trasferencia. Por lo tanto, como es bien conocido en la técnica de la electrostática, la caída de tensión a través del revestimiento en el área de contacto de transferencia se incrementará al incrementarse el grosor dieléctrico del revestimiento. Por lo tanto, para conseguir el mismo campo de trasferencia actuando sobre el tóner, las tensiones aplicadas sobre el dispositivo de generación del campo de trasferencia tendrán que incrementarse a medida que el grosor dieléctrico del revestimiento se incrementa para compensar las altas caída de tensión a través del revestimiento. Altas tensiones en los dispositivos de generación del campo de trasferencia no son deseadas dado que podrán tensionar el sistema de forma relativa para originar campos más altos no deseados en la región anterior al área de contacto de trasferencia, que tienden a añadir costes al suministro eléctrico y en extremos demasiados altos de tensiones podrán conducir a tensiones indeseadas en las distancias libres necesarias para evitar problemas de formación de arcos. Por lo tanto, si el grosor dieléctrico del revestimiento es demasiado alto entonces la resistividad del revestimiento es también es demasiado alta, las tensiones aplicadas podrán ser mayores que las deseadas. Si la resistividad del revestimiento es menor que un valor crítico, la conducción de cargas a través del grosor del revestimiento durante el tiempo de parada del área de contacto de trasferencia reduce las caídas de tensión a través del revestimiento durante el tiempo de parada del área de contacto de trasferencia. De dicha forma, el uso de una resistividad del revestimiento suficientemente baja podrá evitar el problema de tensiones de trasferencia indeseablemente grandes a pesar de grosores dieléctricos del revestimiento relativamente grandes.
La condición para una resistividad del revestimiento suficientemente baja podrá estimarse por la condición que un "tiempo de relajación de la carga del área de contacto" característico para el flujo de la carga a través del grosor del revestimiento en el área de contacto de trasferencia T_{pnipC} es al menos comparable y es preferentemente menor que un "tiempo de parada del área de contacto" eficaz característico que una sección de la banda intermedia se expande próximo a y en el área de contacto del dispositivo de generación del campo de trasferencia T_{dnip}. El tiempo de parada del área de contacto T_{dnip} podrá estimarse como la anchura W del área de contacto eficaz en el proceso de dirección de desplazamiento de la región del campo próxima al dispositivo de generación de campo polarizado en el área de contacto de trasferencia cuando los campos se están acumulando, dividido por la velocidad de la banda intermedia. Para un dispositivo de generación de campo del rodillo polarizado, la anchura W eficaz del área de contacto se estima como el tamaño de la anchura del área de contacto del rodillo más las anchuras en las regiones anterior y posterior al área de contacto donde los huelgos de aire anteriores y posteriores al área de contacto son de aproximadamente 50 micrómetros. Para un dispositivo de generación de corona simple, la anchura W eficaz del área de contacto se estima como la anchura del perfil de las densidades de corriente corona. Para un sistema de corotron, el parámetro T_{pnipC} se estima de la ecuación T_{pnip} = K_{C}p_{C}e_{0}. Para un sistema de área de contacto polarizado, el parámetro T_{pnip} se estima de la relación T_{pnip} = K_{C}p_{C}e_{0}[1 + D_{C}/\SigmaD_{1}], donde \SigmaD_{1} es la suma del grosor dieléctrico del tóner, capa de aire y otras capas aislantes distintas al revestimiento dentro del área de contacto de trasferencia. Para revestimientos que tienden una resistividad independiente del campo, la resistividad del revestimiento usada estimada se determinaría normalmente en un campo correspondiente menor de 100 voltios y más preferentemente alrededor de 10 voltios, a través del grosor del revestimiento. Como ejemplo, con un rodillo polarizado una anchura del área de contacto eficaz típica es de aproximadamente 2,54 mm y el parámetro \SigmaD_{1} es normalmente de alrededor de 20 micrómetros. Por ejemplo a una velocidad de proceso de 25,4 cm/s y con un revestimiento con una constante dieléctrica K = 3, una resistividad deseada para evitar altas caídas de tensión a través de un revestimiento de un grosor de 150 micrómetros es de aproximadamente menor o igual a 1 x 10^{10} ohm-cm. Como otro ejemplo, para un revestimiento de un grosor de 25 micrómetros y parámetros en otras formas similares al ejemplo previo, una resistividad deseada para evitar caídas de tensiones significativas a través del revestimiento durante el tiempo de parada de transferencia es de aproximadamente menor o igual 3 x 10^{10} ohm-cm. Para este último ejemplo, si la velocidad del proceso es de 7,62 cm/s, una resistividad del revestimiento deseada para evitar caídas de tensiones significativas a través del revestimiento durante el tiempo de parada del área de contacto de transferencia es de aproximadamente menor o igual a 10^{11} ohm-cm. Con un revestimiento que tiene un "tiempo de relajación de la carga" del área de contacto menor que un "tiempo de parada del área de contacto" eficaz característico existen limitaciones mínimas respecto del grosor del revestimiento. De los ejemplos, si se usa un revestimiento con un grosor dieléctrico moderadamente alto, la mayoría de los sistemas prefieren normalmente una resistividad del revestimiento menor de aproximadamente 10^{11} ohm-cm y más preferentemente prefieren una resistividad del revestimiento menor de aproximadamente 10^{10} ohm-cm si se usa un revestimiento con un grosor dieléctrico muy alto.
En la explicación anterior y en otras explicaciones de las propiedades eléctricas en la presente patente, las resistividades están diferenciadas. Sin embargo, normalmente una característica más fundamental son los "tiempos de relajación de la carga". Los tiempos de relajación de la carga se pueden medir directamente en un sistema usando técnicas conocidas en la técnica de la electrostática y los tiempos de relajación de la carga podrán ser una forma más preferente de especificar las propiedades eléctricas apropiadas para bandas de transferencia intermedias con costuras capaces de formar imágenes.
Los rangos de resistividad anteriormente definidos donde el "tiempo de relajación de la carga del área de contacto" es menor que el "tiempo de parada del área de contacto" eficaz característico es también una propiedad eléctrica deseable de un adhesivo de la costura cuando se produce un rebosamiento significativo de adhesivo sobre la capa sustrato. Las expresiones dadas previamente para el tiempo de relajación del área de contacto estimado son las mismas a las del rebosamiento del adhesivo si la resistividad p_{OA}, el grosor dieléctrico D_{OA} y la constante dieléctrica K_{OA} del rebosamiento se usan en vez de la resistividad y de la constante dieléctrica del revestimiento.
Para comprender los efectos indeseables de un derrame de adhesivo de alta resistividad, se hace referencia de nuevo a la figura 5 que muestra un derrame de adhesivo en la parte posterior de una banda. El derrame de adhesivo añade un grosor de adhesivo en la región de la costura que no está presente alejándose de la costura. Si la resistividad del adhesivo p_{OA} es demasiado alta, el adhesivo actúa como un "aislante" durante el tiempo de parada característico invertido en la región de generación del campo de transferencia dentro del área de contacto de transferencia, y ocasionará una caída de tensión significativa a través del adhesivo en el área de contacto de transferencia. Como es conocido la técnica electrostática, la caída de tensión a través de un adhesivo "aislante" de alta resistividad se incrementará al incrementarse el grosor dieléctrico D_{OA} del derrame. Esto reduce la caída de tensión a través del tóner y por lo tanto reduce el campo de transferencia en la región del derrame. Con grosores dieléctricos D_{OA} demasiado altos, la perturbación en el campo de transferencia en la región del derrame debida a un derrame "aislante" de alta resistividad excede el nivel del 10% que es normalmente preferido para una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes. Sin embargo, si el "tiempo de relajación de la carga en el área de contacto" del derrame T_{pnipOA} es menor que el "tiempo de parada del área de contacto" eficaz característico T_{dnip} para el sistema de transferencia, la caída de tensión a través del derrame será pequeña. Por lo tanto, la condición de resistividad definida por la condición de derrame en la que el "tiempo de relajación de la carga en el área de contacto" es menor que el "tiempo de parada del área de contacto" de transferencia efectiva, T_{pnipOA} << T_{dnip} es más preferente en sistemas de banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes que tienen un significante derrame del adhesivo. Esto es significativo dado que del derrame de adhesivo es beneficioso porque incrementa la resistencia de la banda.
Aunque revestimientos conductores en los rangos de resistividad mencionados anteriormente son útiles y preferentes para la mayor parte de sistemas de trasferencia intermedios con costura capaz de formar imágenes, los sistemas con costura capaz de formar imágenes podrán tener también revestimientos de resistividad relativa mayores y materiales adhesivos de la costura que los explicados anteriormente, con algunas limitaciones. En algunos sistemas de trasferencia intermedia, el uso de revestimientos con resistividades mayores tiene algunas ventajas. Por ejemplo, materiales con alta resistividad relativa que tienen buenas propiedades de liberación del tóner y costes bajos están a menudo más disponibles que materiales que tienen algún grado de control eléctrico. Como otro ejemplo, los revestimientos con alta resistividad relativa que tienen altas fuerzas dieléctricas podrán eliminar sustancialmente las cuestiones de cortocircuito, incluso cuando la capa sustrato de la banda intermedia es relativamente conductora. Esto es útil en sistemas que usan una capa sustrato en la que la resistividad es apropiada en bajos campos aplicados pero que tenga una resistividad indeseablemente baja en condiciones de altos campos de aplicación, por ejemplo de 500 a 1000 voltios de caída de tensión a través de la banda. Un revestimiento de alta resistividad suficiente podrá reducir las cuestiones de cortocircuito en el área de contacto de trasferencia al incrementar la resistencia compuesta en el área de contacto de trasferencia.
Si un "tiempo de relajación de la carga cíclico", T_{pcyC} del revestimiento es mucho mayor que el "tiempo de parada cíclico" T_{dcy} característico para sistemas de trasferencia intermedia, entonces el revestimiento comenzará a comportarse como un "aislante" durante el tiempo de parada cíclico. Por lo tanto, la carga crecerá en el revestimiento "aislante" después de cada zona de trasferencia. Esta acumulación de carga podrá originar problemas de trasferencia en zonas de trasferencias subsecuentes si la caída de tensión a través del revestimiento es demasiado alta. También, la reposición de la carga en el lado del revestimiento una vez que pasa a través de las zonas de trasferencia es generalmente debido a roturas de aire en la zonas de trasferencia que podrán ser parcialmente no uniformes. Esto podrá originar problemas de trasferencia adicionales con revestimientos de muy alta resistividad, especialmente si la caída de tensión a través del revestimiento es grande. Sin embargo, es conocido en la técnica electrostática que la caída de tensión a través del revestimiento es proporcional al grosor dieléctrico del revestimiento, D_{C}. Por lo tanto, un revestimiento con bajo grosor dieléctrico podrá reducir los problemas de trasferencia relacionados con revestimientos de muy alta resistividad. Además, la uniformidad y magnitud de la carga en el revestimiento podrá mejorarse parcialmente usando dispositivos de nivelación de la carga de corona conocidos en la técnica, como corotrones y escorotrones. Por lo tanto, la combinación de grosores dieléctricos de revestimiento "suficientemente pequeñas", típicamente D_{C} < 25 micrómetros y más preferentemente menores de aproximadamente 10 micrómetros, y el uso de dispositivos de neutralización de la carga podrán permitir el uso de revestimientos relativamente aislantes.
Si se aplica más de una capa de revestimiento a una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes, las propiedades de cada capa deben tomarse en consideración. La suma de las contribuciones de las capas individuales en el grosor dieléctrico eficaz del revestimiento compuesto debería cumplir los niveles de grosores dielécticos preferentes. Por ejemplo si T_{pcyC} >> T_{dcy} se aplica para todas las capas, entonces todas las capas se comportan como "aislantes" y los valores de los grosores dielécticos explicados previamente se aplican a la "suma de los grosores dielécticos" de cada una de las capas individuales. La suma de los grosores dielécticos individuales (grosores divididos por la constante dieléctrica) de las capas debería estar normalmente en menos de aproximadamente 25 micrómetros, y más preferentemente deberían ser menores de aproximadamente 10 micrómetros para un revestimiento de grosor dieléctrico de alta resistividad en el sistema de transferencia intermedia de múltiples colores. Con revestimientos multicapa también será posible que alguna de las capas tengan una resistividad suficientemente alta para comportarse como "aislante" mientras que algunas de las capas podrán tener una resistividad suficientemente baja que no tenga una caída de tensión significativa a través de dicho grosor de la capa. Si la condición T_{pcyC} >> T_{dcy} se aplica a cualquiera de las capas, dichas capas se comportan como relativamente aislantes durante el tiempo de parada cíclico y dicho grosor dieléctrico de la capa debería añadirse al grosor dieléctrico eficaz total. Si la condición explicada previamente
T_{pnipC} << T_{dnip} se aplica para cualquier otra capa, dicha capa no experimentará sustancialmente caída de tensión a través de la misma una vez que el tiempo de parada cíclico y dicho grosor dieléctrico de la capa debería tomarse como efectivamente cero a objeto de las cuestiones de área de contacto de transferencia explicadas previamente originados por altos grosores dieléctricos. Las condiciones entre dichos extremos se deducen de dichos ejemplos.
Se considera importante elegir un adhesivo de la costura que tenga propiedades eléctricas que estén en "buena correspondencia" con las propiedades eléctricas de la capa sustrato. Buena correspondencia no significa "las mismas" propiedades eléctricas. Por el contrario, una buena correspondencia implica que las propiedades eléctricas producen unas perturbaciones de campo suficientemente bajas alrededor de la costura para permitir que el tóner será transferido sobre una región de la costura y desprendido de la misma sin una degradación significativa de la imagen transferida. Como se ha explicado previamente, esto normalmente significa que el campo de transferencia en la región de la costura debería estar dentro del 20%, y más preferentemente debería estar dentro del 10% del campo de transferencia en regiones alejadas de la costura.
Para comprender buena correspondencia es útil usar las características descritas previamente de "tiempos de relajación de la carga en el área de contacto" y "tiempos de parada del área de contacto" característicos. Las relaciones de resistividad deseadas entre el sustrato y el adhesivo dependen de diversos parámetros del sistema que están mejor determinados a partir de dichos tiempos característicos. El tiempo de relajación de la carga en el área de contacto del sustrato alejada del huelgo de la costura T_{pnipS} es de interés dado que influencia los campos de transferencia que están presentes "alejados" de la costura. Normalmente, "alejados" de la costura significará normalmente distancias de la costura a lo largo de la superficie de la banda que son mucho mayores que el tamaño de la región de la costura que tiene propiedades eléctricas perturbadas con relación a la región alejada. Por ejemplo en una costura capaz de formar imágenes cortada en forma de puzzle si el adhesivo en el huelgo de entalladura de la costura tiene propiedades eléctricas perturbadas con relación al sustrato y a los "pétalos" del corte en forma de puzzle del sustrato circundantes tienen las mismas propiedades eléctricas que el material del sustrato alejado de la costura, "alejado" significará distancias mucho mayores que el huelgo de la entalladura del corte en forma de puzzle. Por otra parte, si las propiedades eléctricas de los pétalos cortados en forma de puzzle del sustrato circundante con las regiones cercanas de la costura son perturbadas con relación a la región alejada, "alejada" significará distancias mucho mayores que el tamaño de dicha región perturbada. Dichas perturbaciones de las regiones circundantes o próximas al sustrato de la costura podrán a veces producirse por ejemplo debido a parámetros de proceso de la costura químicos, mecánicos o de otra índole, como por ejemplo el calentamiento local que pueda ser usado para conseguir una buena adhesión de unión de la costura. A distancias "alejadas" de la región eléctrica perturbada de la costura, las perturbaciones de los campos de transferencia debidos a propiedades eléctricas perturbadas de la región de la costura son genéricamente pequeños. El parámetro T_{pnipS} que es el tiempo de relajación de la carga característico que se requiere en el área de contacto de transferencia para que la caída de tensión atraviese el grosor de la capa sustrato debida a la conducción de la carga a través del grosor del sustrato. Las expresiones aproximadas para T_{pnipS} son las mismas que las descritas durante la explicación del decaimiento de la carga a través del grosor del revestimiento. La resistividad del sustrato p_{s}, el grosor dieléctrico D_{s} y la constante dieléctrica K_{s} se sustituyen ahora para las propiedades del revestimiento correspondientes explicadas previamente. Las explicaciones previas de la influencia de la resistividad dependientes del campo se aplican también aquí para tanto en sustratos como los materiales de adhesivo.
La transferencia del tóner sobre la banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes se explica con ayuda de la figura 8, que ilustra una situación casielectrostática con un área de contacto de transferencia. Era la forma mostrada, un fotorreceptor comprende un conductor 80 de tierra y una superficie fotoconductora 82 que retiene una capa de tóner compuesta de partículas de tóner 84. Separado de la capa de tóner por un espacio de aire 86 se encuentra una banda 41 de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes (se hace referencia a la figura 6) que descansa sobre un rodillo conductor 88. Los campos de transferencia en la región de la costura están influenciados por el tiempo T_{pgap} de relajación de la costura característico. Este es el tiempo característico que requiere una carga para fluir a través del adhesivo 48 en el huelgo 20 de la costura. La descripción del tiempo T_{pgap} de relajación de la carga en el huelgo de la costura es algo más complejo que para la región del sustrato alejada de la costura a causa de las dimensiones del huelgo de la costura son típicamente comparables al grosor del sustrato. Aproximaciones de placa paralela simple podrán haber sido utilizadas para los tiempos de relajación aproximados de las capas de materiales intermedios alejadas de la costura, pero esta simple aproximación no se aplica alrededor del huelgo de la costura. La relajación de la carga característica en el área de contacto a través del huelgo de la costura es aún proporcionan a la resistividad del adhesivo. Sin embargo, el tiempo de relajación de la carga del área de contacto para el adhesivo en la pequeña región del huelgo de la costura está algo influenciado por las propiedades circundantes del sustrato y por la geometría de la costura. En general, necesita determinarse usando medidas o cálculos numéricos.
Si el tiempo de relajación de la carga del sustrato del área de contacto alejada de la costura es mucho menor que el tiempo de parada del área de contacto, es decir si T_{pnipS} << T_{dnip}, no habrá sustancialmente caída de tensión a través del sustrato 10 durante el tiempo de parada en el área de contacto de transferencia en las regiones de la banda a alejadas de la costura (\DeltaV_{S} = 0. Esto es debido a la conducción a través del sustrato durante el tiempo de parada del área de contacto. Por otra parte, si el tiempo de relajación de la carga para el adhesivo en la región de separación de la costura es mucho mayor que el tiempo de parada del área de contacto, es decir si T_{pgap} >> T_{dnip}, entonces el adhesivo 48 comienza a comportarse como un "aislante" durante el tiempo de parada del área de contacto de transferencia. Entonces, podrá haber una caída significativa de la tensión \DeltaV_{gap} a través del adhesivo en el huelgo de la costura durante el tiempo de parada. De dicha forma, la caída de tensión a través de la banda de transferencia intermedia será algo mayor en la región de la costura que en las regiones alejadas de la región de la costura. Por lo tanto, se deduce que el campo de transferencia será menor en la región del huelgo de la costura que en la regiones alejadas de la costura. Como explicará a continuación, si las propiedades eléctricas están o no en "buena correspondencia" para este caso podrán depender de factores tales como la constante dieléctrica del material de adhesivo K_{A}, la anchura del huelgo de la entalladura y el grosor del revestimiento.
Si el tiempo de relajación de la carga del área de contacto sustrato alejada de la costura es mucho mayor que el tiempo de parada del área de contacto, es decir si T_{pnipS} >> T_{dnip}, se producirá entonces una caída de tensión \DeltaV_{S} a través del sustrato durante el tiempo de parada en las regiones del área de contacto de transferencia alejadas de la costura. La caída de tensión a través del sustrato es proporcional al grosor dieléctrico D_{S} del sustrato. Sin embargo, si el tiempo de relajación de la carga para el adhesivo 48 es mucho menor que el tiempo de parada del área de contacto, es decir si T_{pgap} << T_{dnip}, entonces debido a la conducción no existirá sustancialmente caída de tensión a través del adhesivo durante el tiempo de parada (\DeltaV_{gap} = 0). En este caso, se deduce que el campo de transferencia será algo mayor en la región del huelgo de la costura en las regiones alejadas del área de contacto. Las propiedades eléctricas del adhesivo no están de dicha forma en "buena correspondencia" con las propiedades eléctricas del sustrato. Si las propiedades eléctricas están o no en buena correspondencia podrá depender de la constante dieléctrica del material del sustrato, el huelgo de la entalladura y el grosor del revestimiento.
Si el tiempo de relajación de la carga del área de contacto del sustrato alejada de la costura es mucho menor que el tiempo de parada del área de contacto, es decir si T_{pnipS} << T_{dnip}, no existirá de nuevo caída de tensión sustancial a través del sustrato (\DeltaV_{S} = 0) durante el tiempo de parada en las regiones de la banda alejadas de la costura. Pero, si el tiempo de relajación de la carga para el adhesivo en la reacción del huelgo de la costura es mucho menor que el tiempo de parada del área de contacto, es decir si T_{pgap} << T_{dnip}, entonces no existirá tampoco una caída de tensión sustancial (\DeltaV_{gap} = 0) a través del adhesivo durante el tiempo de parada en el área de contacto de transferencia. En este caso, la caída de tensión a través de la región del huelgo la costura y la caída de tensión a través de las regiones del sustrato alejadas de la costura son aproximadamente las mismas (próximas a cero) en el área de contacto de transferencia. Por lo tanto, los campos de transferencia, E_{far} y E_{gap} en dichas dos regiones son sustancialmente los mismos. En este caso, las propiedades eléctricas del adhesivo y del sustrato están dentro de las condiciones precedentes de "buena correspondencia". Se hace notar que en este caso, las propiedades eléctricas del adhesivo y del sustrato podrán ser muy diferentes y todavía está en el régimen más favorable de "buena correspondencia". Principalmente, estar en "buena correspondencia" en las resistividades del adhesivo y del sustrato de la costura podrán ser significativamente diferentes en tanto en cuanto esté en ambas por debajo de un nivel de umbral. Evidentemente, como se ha explicado anteriormente, un sistema de transferencia intermediaria podrá tener también limitaciones adicionales en el límite inferior de la resistividad del material del sustrato y el adhesivo, debido normalmente a "cortocircuitos" y problemas de conducción natural. Por lo tanto, para estar en "buena correspondencia" el sistema sometido a "cortocircuitos" y problemas de conducción lateral, las resistividades del adhesivo y del sustrato de la costura debería estar por debajo de los valores definidos por los tiempos de transferencia de carga y deberían estar normalmente por encima de aproximadamente los valores umbral de conducción de cortocircuito y lateral para el sistema.
Para estimar el tiempo de relajación de la carga para la región del huelgo de la costura se hace referencia de nuevo a Figura 8. La parte inferior de una banda de trasferencia intermedia en la región de la costura del área de contacto de trasferencia se asume que está súbitamente conmutada del potencial a tierra a un potencial de polarización fijo en el tiempo = 0. Los materiales de sustrato y de adhesivo podrán ser entonces tratados como "dieléctricos en fuga" con una resistencia y capacitancia en paralelo. Esto es una buena aproximación para la conducta eléctrica de materiales de transferencia intermedia típicos en los contactos de transferencia. La caída de tensión a través del centro de la costura podrá ser calculada numéricamente como una función del tiempo una vez que la tensión es aplicada para permitir un estimado del tiempo de relajación de la carga T_{pgap}. Para huelgos de costura grandes en comparación con el grosor del sustrato, el tiempo de relajación de la carga para el adhesivo podrá aproximarse mediante una fórmula de placa paralela simple T_{pA} = K_{A}p_{A}e_{0}[1+D_{A}/\SigmaD_{1}]. Evidentemente, la aproximación de placa paralela simple podrá usarse a menudo incluso para pequeños huelgos.
En cualquier caso, el tiempo de relajación de la carga T_{pgap} puede estimarse numéricamente. Por ejemplo, una anchura del área de contacto de trasferencia eficaz de 5,08 mm y una velocidad de 25,4 cm/s da un tiempo de relajación de la carrera del área de contacto T_{dnip} = 0,020 s. Entonces, unas resistividades del adhesivo de aproximadamente iguales o menores de 2 x 10^{10} ohm-cm podrán conseguir la condición T_{pgap} << T_{dnip}. Otro ejemplo, si la velocidad de la banda se hace descender a 5,08 cm/s, el tiempo de parada es de T_{dnip} = 0,100 s. La condición T_{pgap} << T_{dnip} se producirá entonces en resistividades del adhesivo de aproximadamente iguales o menores de 1 x 10^{11} ohm-cm. Para muchos sistemas, la condición T_{pgap} << T_{dnip} se producirá normalmente para resistividades del adhesivo próximas o por debajo del rango de resistividades de aproximadamente 10^{10} ohm-cm. Sin embargo, esto debería estimarse para cada sistema específico. De dicha forma, esta condición de "buena correspondencia" es principalmente una condición de un sustrato relativamente semiconductor con un adhesivo relativamente semiconductor.
Como se ha mencionado anteriormente, las condiciones T_{pnipS} << T_{dnip} y T_{pgap} << T_{dnip} son un régimen preferente para una buena correspondencia donde los campos de transferencia son sustancialmente los mismos en la costura y en las regiones alejadas de la costura. Sin embargo, con objeto de que las propiedades eléctricas del sustrato y el adhesivo que estén en buena correspondencia bajo todas las situaciones, dichas condiciones tienen que producirse sobre todo el rango de variables de las propiedades eléctricas del sustrato y el adhesivo. Por ejemplo, las condiciones necesitan aplicarse a pesar de los cambios en las condiciones ambientales, de tolerancia de fabricación y de envejecimiento de los materiales que se producen en el sistema de transferencia intermedia. Afortunadamente, las condiciones para T_{pnipS} << T_{dnip} y T_{pgap} << T_{dnip} de buena correspondencia podrán permitir una tolerancia significativa de la banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes a pesar de las diferencias en las propiedades eléctricas de los dos materiales. Por ejemplo, en un sistema intermedio de banda capaz de formar imágenes donde las cuestiones de "cortocircuito" requieren mayor o igual 10^{7} ohm-cm para los materiales de banda de transferencia intermedia, la resistividad del sustrato y el adhesivo podrán estar sustancialmente dentro del rango de tolerancia de 10^{7} ohm-cm a 10^{10} ohm-cm. Para evitar cuestiones de conducción lateral, la resistividad lateral debería estar normalmente por encima de 10^{8} ohm/cuadrado, preferentemente por encima de 10^{10} ohm/cuadrado. En resumen, las condiciones de "buena correspondencia" de las propiedades eléctricas del adhesivo y del sustrato de la banda capaz de formar imágenes definida por T_{pnipS} << T_{dnip} y T_{pgap} << T_{dnip} son más favorables debidas a altas tolerancias para diferencias en la resistividad del sustrato y el adhesivo.
En general, la condición de resistividad del sustrato definida por T_{pnipS} << T_{dnip} es la más favorable para bandas de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes. Esta condición del sustrato podrá incluso permitir una tolerancia mayor a la resistividad del adhesivo si la constante dieléctrica del material de adhesivo está por encima de un valor crítico. Por ejemplo, esta condición de resistividad del sustrato podrá permitir al material de adhesivo ser sustancialmente "aislante" durante el tiempo de parada del área de contacto de transferencia mientras que se consigue aún la condición deseada de "buena correspondencia". Para comprender esto, ha de hacerse notar que un adhesivo relativamente aislante origina alguna caída de tensión a través del adhesivo, pero la condición del sustrato preferente no tiene sustancialmente caída de tensión durante el tiempo de parada del área de contacto transferencia. Esta es una causa fundamental de la perturbación del campo de transferencia en la región de la costura. Sin embargo, como es bien conocido en la técnica electrostática, la caída de tensión a través del adhesivo "aislante" en el huelgo de la costura también disminuye cuando incrementa la constante dieléctrica del adhesivo. Por lo tanto, se deduce que si la constante dieléctrica del adhesivo es suficientemente grande, la caída de tensión resultante a través del adhesivo en el espacio de separación podrá hacerse suficientemente pequeña para conseguir la perturbación del campo menor del 10% deseada a pesar de la alta resistividad del adhesivo. Por ejemplo, consideremos un adhesivo relativamente aislante (10^{12} ohm-cm; T_{pgap} >> T_{dnip}). Si un sustrato definido por la condición T_{pnipS} << T_{dnip} se utiliza entonces los adhesivos a aislantes tienen una constante dieléctrica K_{A} > 12, la perturbación deseada < 10% se consigue cuando la entalladura es de alrededor de 25 micrómetros. Se deduce de la explicación anterior que con una entalladura inferior a 25 micrómetros la perturbación del campo < 10% deseada podrá conseguirse usando una K_{A} algo menor de 12. Además, para sistemas que pueden tolerar perturbaciones de campo algo mayores del 10%, se podrá obtener una buena correspondencia con una K_{A} menor. Aún, sistemas de banda intermedia con costura capaz de formar imágenes que deseen operar bajo condiciones de un adhesivo relativamente aislante explicado anteriormente preferirán normalmente que la región de la costura tenga una K_{A} mayor de aproximadamente 5.
Otra limitación en el límite superior de la resistividad del adhesivo es una acumulación de la carga cíclica. Una acumulación de la carga cíclica se produce si la resistividad del adhesivo p_{A} es tan alta que interfiere con la transferencia subsecuente. Para prevenir esto, el tiempo de relajación de la carga cíclica del adhesivo debería ser menor que el tiempo de parada cíclico entre transferencias (T_{pcyA} << T_{dcy}). Sin embargo esto añade una tolerancia significativamente extra para la resistividad del adhesivo de la costura. Por ejemplo, para extensiones de estimaciones previas, la resistividad del adhesivo deseada para una costura capaz de formar imágenes debería estar normalmente alrededor de 10^{13} ohm-cm para la mayoría de las condiciones del sistema y deberían estar preferentemente por debajo de aproximadamente 10^{12} ohm-cm para sistemas con velocidad del proceso alta que tienen una pequeña distancia entre las estaciones de formación de imágenes.
En resumen, la condición de "buena correspondencia" para conseguir perturbaciones de campo aceptablemente bajas para un sustrato de la costura capaz de formar imágenes semiconductor definido por T_{pnipS} << T_{dnip} podrá permitirse una amplia tolerancia para la resistividad del adhesivo si la resistividad del adhesivo es suficientemente baja (T_{pgap} << T_{dnip}) e incluso una tolerancia mayor para la resistividad del adhesivo (hasta un huelgo de la costura T_{pcy} << T_{dcy}) si la constante dieléctrica del adhesivo es moderadamente alta, normalmente K_{a} > 5.
Un efecto similar de la constante dieléctrica se puede producir para la correspondencia T_{pnipS} >> T_{dnip} y T_{pgap} << T_{dnip} de la propiedad eléctrica no favorable. En este caso, la resistividad del sustrato es lo suficientemente alta para que se comporte sustancialmente como un "aislante" durante el tiempo de parada de trasferencia, pero el adhesivo tiene una resistividad suficientemente baja, de forma que no existe sustancialmente caída de tensión a través del huelgo de la costura. De forma similar a la explicación anterior, la caída de tensión a través del sustrato se volverá más pequeña a medida que la constante dieléctrica del sustrato se vuelve mayor en estimaciones de la perturbación del campo para este caso como función de la constante dieléctrica K_{s} del sustrato sugiere que con objeto de conseguir la perturbación deseada del campo < 10%, se desea a una K_{s} muy alta. La K_{s} deseada para una perturbación baja de campo, y por lo tanto una correspondencia buena aceptablemente de las propiedades eléctricas podría ser normalmente mayor de aproximadamente 25 bajo algunas condiciones extremas de una capa de revestimiento muy delgada como por ejemplo una capa de 5 micrómetros de grosor, bajo una condición de un desigualdad muy grande de las resistividades del sustrato y la costura. La K_{s} deseada para conseguir una buena correspondencia de las propiedades eléctricas para este caso disminuye con por ejemplo que a medida que se incrementa el grosor de revestimiento, pero la K_{s} deseada es normalmente mayor que aproximadamente 5 para la mayoría de los sistemas.
Otro caso de sustrato de "alta resistividad" es la condición en la cual T_{pgap} >> T_{dnip} y T_{pnipS} >> T_{dnip}. Bajo esta condición, los tiempos de relajación de cargas para el sustrato y el adhesivo son mucho mayores que el tiempo de parada del área de contacto respecto a todo el rango de la variabilidad de los materiales. Sin embargo, ésta no es una condición suficiente para asegurar una buena correspondencia. En este caso, el sustrato y el adhesivo podrán actuar sustancialmente como "aislantes" durante el tiempo de parada de los contactos de transferencia. Cuando los materiales actúan como aislantes durante el tiempo de parada del área de contacto de transferencia, la caída de tensión a través de la banda es proporcional al grosor dieléctrico de los materiales de la banda. Debido a esto, una buena correspondencia incluye la limitación de que las constantes y eléctricas del adhesivo K_{a} y de sustrato K_{s} son similares, típicamente de aproximadamente el 30%, y más preferentemente las constantes y eléctricas son sustancialmente las mismas. Además, para limitaciones incluso adicionales existe la necesidad de una buena correspondencia. En particular, la resistividad de sustrato y el adhesivo tienen que elegirse para evitar cantidades diferentes de acumulaciones de cargas críticas en el sustrato y el adhesivo entre estaciones de transferencia. De otra forma, el crecimiento de la cargas cíclica diferentes en la región de la costura comparado con regiones alejadas de la costura podrá originar perturbaciones de campo para transferencia de tóner subsecuentes. Existen dos formas básicas de enfocar este problema.
La forma preferente es que tanto el sustrato como el adhesivo tengan una resistividad suficientemente baja para que las descargas se produzcan entre estas opciones de transferencia. Por analogía con explicaciones anteriores, la condición deseada es T_{pcy} << T_{dcy} para el sustrato y el adhesivo, donde el tiempo de relajación de la carga cíclica para el sustrato y el adhesivo es mucho menor que el tiempo de parada cíclico entre estas estaciones de transferencia subsecuentes. Una condición alternativa es cuando las resistividades del sustrato y el adhesivo son lo suficientemente altas, de forma que la propia acumulación de la carga cíclica se produzca en el sustrato y el adhesivo. Mientras que una acumulación de la carga cíclica no se desea generalmente, podrá ser aceptable con limitaciones apropiadas. Al tener un acumulación de la carga cíclica similar entre estas estaciones de transferencia tanto el sustrato como el adhesivo evitarán al menos las perturbaciones de campo en estaciones de transferencia subsecuentes. Por analogía con explicaciones anteriores, una condición necesaria para acumulaciones de carga cíclica similares es T_{pcy} >> T_{dcy} para el sustrato y el adhesivo. Además, las constantes dieléctricas del sustrato y el adhesivo debería ser similares y una alta constante dieléctrica del sustrato y el adhesivo se necesitan normalmente para evitar problemas de transferencia asociados con materiales intermedios de altos grosores dieléctricos y alta resistividad.
Podrá deducirse de la explicación anterior que materiales (T_{pnipS} >> T_{dnip}) con sustrato de alta resistividad podrán permitir condiciones de costura capaz de formar imágenes. Sin embargo, por las razones explicadas, sustratos con propiedades eléctricas en el intervalo T_{pnipS} << T_{dnip} son más preferentes para sistemas de banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes.
Otras condiciones para las propiedades eléctricas del sustrato intermedio podrán hacer más difícil conseguir la "buena correspondencia" entre las propiedades eléctricas del sustrato y el adhesivo para producir las perturbaciones bajas de campo deseadas con una costura capaz deformar imágenes. Por ejemplo, una condición de sustrato dificultoso para una costura capaz de formar imágenes podrá producirse cuando la resistividad del sustrato varía entre condiciones en las cuales el tiempo de relajación de la carga del sustrato es algo más corto y a veces más largo que los tiempos de parada característicos. Consideremos un caso en el que la resistividad sustrato bajo un conjunto de condiciones extremas podrá ser lo suficientemente baja para tener T_{pnipS} << T_{dnip}, de forma que no exista una caída de tensión sustancial a través del sustrato en el tiempo de parada del área de contacto de transferencia para la condición extrema. Dicha condición extrema podrá ocurrir por ejemplo con sustratos en el extremo de baja resistividad para una tolerancia de fabricación y cuando es alto. Si la resistividad del sustrato en un conjunto opuesto de condiciones extremas es lo suficientemente alto, de forma que la condición T_{pnipS} >> T_{dnip} se produce, existirá una caída de tensión a través del sustrato en esta otra condición extrema.
Idealmente, las propiedades eléctricas nominales del adhesivo son relativamente cercanas a las propiedades eléctricas del sustrato dentro de las tolerancia de fabricación y tendrán una respuesta similar al medioambiente, envejecimiento y factores de campo aplicados. En caso contrario, los materiales del adhesivo y el sustrato podrán alejarse fácilmente donde las condiciones de "buena correspondencia" deseadas. Una forma de incrementar la tolerancia de un sistema de banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes a diferencias en las propiedades eléctricas del sustrato y el adhesivo es utilizar un revestimiento "suficientemente grueso". El uso de un revestimiento suficientemente grueso podrá permitir alguna de las condiciones menos favorables explicadas anteriormente, como por ejemplo la condición T_{pnipS} >> T_{dnip} para el sustrato mientras el material del adhesivo está en la condición
T_{pnipA} << T_{dnip}.
Lo revestimientos podrán reducir significativamente las perturbaciones de los campos de trasferencia originadas por una pobre correspondencia de las propiedades eléctricas del huelgo del adhesivo de la costura comparado con las propiedades eléctricas del sustrato. Es en los campos de la capa del tóner que accionan la transferencia del tóner. Una ventaja de un revestimiento es que mueve el huelgo de la costura alejándolo de la capa del tóner. Es bien conocido en la técnica electrostática que el efecto de los campos electrostáticos de un factor perturbador local se reduce típicamente con la distancia alejándose del factor perturbador. Por lo tanto, mover el huelgo de la costura perturbador del campo más allá de la capa de tóner podrá reducir grandemente las perturbaciones en el campo de transferencia que actúan sobre el tóner que se producirían en caso contrario si, por ejemplo, las propiedades eléctricas del adhesivo de la costura son también demasiado desiguales comparadas con las propiedades eléctricas del sustrato. En general, el buen efecto del revestimiento en minimizar las perturbaciones del campo de transferencia se incrementará con el incremento del grosor del revestimiento. Por lo tanto, un revestimiento grueso podrá permitir sistemas de costura capaz de formar imágenes que puedan desear usar propiedades eléctricas del sustrato y el adhesivo de la costura altamente desiguales. Un huelgo de la entalladura pequeño podrá ser también una ventaja respecto a huelgos de entalladura grandes, porque el efecto perturbador del huelgo de la costura disminuirá también generalmente más rápidamente con la distancia al alejarse del huelgo con huelgos de entalladura pequeños comparados con grandes huelgos.
Para estimar las propiedades de revestimiento deseadas y permitir unas propiedades eléctricas entre el sustrato altamente concordantes, los efectos de las propiedades del revestimiento en los campos de trasferencia deben ser estimados. El efecto del revestimiento podrá ser estimado usando simulaciones numéricas electrostáticas cuasiestáticas similares a las explicadas previamente para estimar los tiempos de relajación de la carga en el área de contacto. Por ejemplo, se asume una resistividad el sustrato de 10^{8} ohm-cm y un tiempo de relajación del área de contacto T_{psub} de aproximadamente 7 x 10^{-5} segundos. Con una resistividad del adhesivo de 10^{12} ohm-cm, el tiempo de relajación T_{pgap} del área de contacto en el huelgo del adhesivo podrá ser estimado en aproximadamente 0,7 segundos. Con un tiempo de parada del área de contacto de 0,01 segundos, las propiedades eléctricas del adhesivo son altamente concordantes con las propiedades eléctricas del sustrato T_{pnipSb} << T_{dnip}; T_{pgap} >> T_{dnip}. En este caso, el sustrato podrá considerarse como "suficientemente conductor" durante el tiempo de parada del área de contacto en el que la caída de tensión a través del grosor del sustrato es despreciable durante el tiempo de parada del área de contacto. Por otra parte, la capa de adhesivo en el huelgo de la costura actúa como relativamente "aislante" durante el tiempo de parada del área de contacto, de forma que existe algo de caída de tensión a través del grosor del adhesivo de la costura durante el tiempo de parada del área de contacto. Por lo tanto, los campos de transferencia en un pequeño huelgo de aire son perturbados por las propiedades eléctricas no concordantes con los campos de transferencia en la región del huelgo de la costura siendo menor que los campos alejados de la costura. Los campos de transferencia del huelgo de aire podrán estimarse del análisis electrostático numérico. Resulta de interés el porcentaje de perturbación del campo de P = 100[abs(E_{far} - E_{gap})]/E_{far}. El parámetro P es la perturbación del campo de la costura, que es el valor absoluto de la diferencia entre los porcentajes del campo de transferencia en regiones alejadas del huelgo de la costura comparado con el campo de transferencia en un centro del huelgo de la costura. Como se ha mencionado, para una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes debería ser normalmente menor del 20% para la mayoría de los sistemas y preferentemente debería ser menor del 10% para algunos de los sistemas.
A medida que el grosor del revestimiento d_{c} se incrementa, las perturbaciones de campo disminuyen. Asumamos una entalladura con una anchura de 25 micrómetros, las perturbaciones del campo aceptables normalmente podrán conseguirse con un revestimiento de aproximadamente de 12 micrómetros de grosor. En general, entalladuras más pequeñas podrán permitir revestimientos más delgados, como por ejemplo de 5 micrómetros. Normalmente, se producirán perturbaciones de campo aceptablemente bajas cuando el grosor del revestimiento sea comparable o más grueso que el huelgo de la entalladura de la costura. El efecto beneficioso en las perturbaciones del campo de transferencia se producirá sobre una gama relativamente amplia de resistividades del revestimiento. En general, revestimientos con resistividades menores dan como resultado menores perturbaciones de campo. En general, un revestimiento debería tener una resistividad suficientemente baja para evitar cuestiones entre cargas cíclicas sin dispositivos de neutralización cíclica adicionales. Es decir, el revestimiento debería tener la condición T_{pcyC} << T_{dcy}. Está resistividad del revestimiento también permite una concordancia relativamente amplia entre las propiedades eléctricas del adhesivo y del sustrato.
Una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes que use un material de sustrato con propiedades eléctricas dentro de la condición semiconductora preferente (T_{pnipS} << T_{dnip} podrá tolerar tanto materiales adhesivos suficientemente conductores y relativamente aislantes con la adición de un revestimiento "suficientemente grueso", en la forma definida anteriormente. Es decir, el revestimiento permite al huelgo del adhesivo de la costura comportarse como relativamente "aislante" en el área de contacto de transferencia (T_{pnipA} >> T_{dnip}) sin originar perturbaciones de campo de transferencia inaceptables. Nuevamente, un sustrato semiconductor definido por la condición (T_{pnipS} << T_{dnip} se considera más preferente para bandas de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes.
Un comentario adicional debería realizarse respecto a adhesivos aislantes. Si el tiempo de relajación de la carga para el adhesivo es más largo que el tiempo de parada entre las estaciones de transferencia, entonces la carga podrá acumulase sobre el lado posterior del adhesivo en el huelgo de la costura. Si se permite acumular, la carga del adhesivo podrá interferir con transferencias subsecuentes. Por lo tanto, si la resistividad del adhesivo de la costura es tal que T_{pcy} >> T_{dcy}, un enfoque neutralizador de la carga para el adhesivo de la costura será necesario para la parte posterior de la banda. Esto podrá realizarse usando dispositivos de eliminación de estáticos de contacto simple, como por ejemplo usando escobillas de contacto conectadas a tierra. Incluso más preferentemente, la resistividad del adhesivo se mantiene idealmente lo suficientemente baja de forma que T_{pcy} << T_{dcy}, y entonces dichos dispositivos de descarga no son necesarios. A partir de estimaciones previas, la resistividad del adhesivo deseada es normalmente menor de 10^{13} ohm-cm para la mayoría de los sistemas y preferentemente es menor de 10^{12} ohm-cm para muchos sistemas.
Otra condición de discordancia es un sustrato relativamente aislante y un adhesivo relativamente conductor, por ejemplo, un sustrato con una alta resistividad de forma que el tiempo de relajación del área de contacto T_{pnipS} sea de aproximadamente 0,7 segundos, y un adhesivo con una resistividad baja de forma que el tiempo de relajación T_{pgap} del adhesivo en el área de contacto sea de aproximadamente 7 x 10^{-5} segundos. Asumiendo un tiempo de parada del área de contacto de 0,01 segundos, esto representa un sustrato con una alta discordancia y la condición de la propiedad eléctrica del adhesivo T_{pnipS} >> T_{dnip}; T_{pgap} << T_{dnip}. El sustrato se comporta ahora sustancialmente como un "aislante" durante el tiempo de parada del área de contacto de transferencia, de forma que existe una caída de tensión a través de sustrato durante el tiempo de parada del área de contacto de transferencia. Sin embargo, el adhesivo en el huelgo de la costura actúa ahora como un "conductor" durante el tiempo de parada del área de contacto de transferencia, porque no existe caída de tensión a través de la capa del adhesivo del huelgo de la costura durante el tiempo de parada del área de contacto de transferencia. En este caso, los campos de transferencia son mayores en la región del huelgo de la costura comparado con las regiones alejadas de la costura. Un grosor del revestimiento mucho mayor se necesita normalmente para "ocultar" los efectos de las propiedades eléctricas del adhesivo y del sustrato altamente discordantes, en el caso en el que el sustrato es relativamente conductor y el adhesivo es relativamente aislante. En la mayoría de los casos, esto es a causa de que la conducción a través del adhesivo relativamente conductor conduce la parte superior de la capa del adhesivo al potencial aplicado y esto mueve la fuente de perturbación de campo más próxima a la capa de tóner.
En cualquier caso, cuando la resistividad del sustrato es relativamente alta (T_{pnipS} >> T_{dnip}) y la resistividad el adhesivo relativamente baja (T_{pgap} << T_{dnip}), un grosor del revestimiento por encima de aproximadamente 150 micrómetros podrá ser necesario para conseguir la perturbación de campo preferente de menos del 10% para una costura capaz de formar imágenes cuando el huelgo de la entalladura de la costura es de aproximadamente 25 micrómetros y el revestimiento tiene una resistividad próxima a 10^{12} ohm-cm. De nuevo, factores como un revestimiento de baja resistividad o un tamaño del huelgo de la entalladura inferior podrá reducir el grosor del revestimiento requerido. Sin embargo, normalmente el grosor del revestimiento mínimo deseado para reducir las perturbaciones de campo en este caso es normalmente mayor que el tamaño de la entalladura y es preferentemente de al menos tres veces el tamaño de la entalladura.
La resistividad volumétrica de un revestimiento podrá en general tener una resistividad diferente en la dirección lateral y en la dirección del grosor del revestimiento. Independientemente de la resistividad volumétrica en la dirección del grosor del revestimiento, una resistividad lateral suficientemente baja para un revestimiento podrá servir de ayuda para reducir las perturbaciones del campo que en caso contrario estarían causadas por una discordancia de las propiedades eléctricas de la región de la costura y en las regiones alejadas de la banda intermedia entre la costura capaz de formar imágenes. Esto es a causa de la conducción lateral en la región de la costura que tenderá a relajar cualquier tendencia de caída de tensión a lo largo de la superficie de la banda en la interfaz de transferencia del tóner con la banda intermedia con costura capaz de formar imágenes. Un revestimiento con una resistividad lateral suficientemente baja podrá ser también beneficioso para reducir la tendencia de las perturbaciones del tóner que se pueden producir cuando se usan materiales de sustrato con una resistividad lateral muy alta con sistemas de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes. Por ejemplo, pautas de carga no uniformes podrán formarse sobre una banda de transferencia intermedia debido al intercambio de cargas no uniformes entre la proximidad de los contactos de transferencia, y esto podrá conducir a una redistribución del tóner transferido en pautas que son normalmente denominadas como defectos de "perturbación del tóner". Cuando la resistividad lateral del sustrato es algo menor de aproximadamente 10^{12} ohm/cuadrado, dichas cargas no uniformes podrán ser disipadas por medio de la conducción lateral entre estaciones de transferencia subsecuentes y esto podrá reducir los problemas de perturbación del tóner. Incluso si la resistividad lateral del sustrato es algo por encima de aproximadamente 10^{12} ohm/cuadrado, en muchos sistemas se podrán reducir los problemas de perturbación del tóner con bandas de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes si el revestimiento usado tiene una resistividad lateral por debajo de aproximadamente 10^{12} ohm/cuadrado. La condición deseada depende de los detalles de la geometría del sistema de transferencia y las condiciones de velocidad del proceso. Preferentemente, para algunos sistemas, el revestimiento deberá estar próximo a, o por debajo de, aproximadamente 10^{11} ohm/cuadrado para esto y más preferentemente debería estar próximo a, o por debajo de, aproximadamente 10^{10} ohm/cuadrado cuando están presentes condiciones de alta velocidad del proceso. Estos mismos rangos de condiciones de resistividad lateral bajas para un revestimiento son también deseables para reducir las perturbaciones del campo originadas por condiciones de grandes discordancias de las propiedades eléctricas entre la costura y las regiones alejadas de la banda de transferencia intermedia por medio de la conducción lateral a lo largo de revestimiento en la región de la costura.
Si la resistividad lateral de la banda intermedia revestida compuesta está por debajo de una condición umbral, se podrá producir una conducción de la carga significativa lateralmente a lo largo de la banda durante el tiempo de parada que requiere una sección de la banda intermedia en desplazarse a través de las regiones de transferencias anterior y posterior de la zona de transferencia. La resistividad lateral compuesta podrá decirse que significa la resistividad lateral determinada al tratar la banda de capa múltiple como una capa simple compuesta equivalente. La condición del umbral de la resistividad lateral para la banda compuesta se incrementa con factores tales como con el incremento de la velocidad de proceso y con el incremento de la distancia entre el dispositivo generador del campo de transferencia y el comienzo de los espacios de aire entre la banda y las capas de tóner en las regiones anteriores y posteriores del área de contacto del sistema de transferencia. Una geometría de transferencia típica y los efectos de las condiciones de proceso significativas de la conducción lateral que pueden producirse si la resistividad lateral de la banda compuesta está por debajo de aproximadamente 10^{10} ohm/cuadrado. En la condición de baja resistividad lateral, los campos electrostáticos en las regiones anteriores y posteriores del área de contacto de las zonas de transferencia podrá afectarse por la proximidad lateral y esto podrá a su vez originar una dependencia de la transferencia en la resistida lateral. Por lo tanto, con una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes, si la conductividad lateral de la banda compuesta en regiones alejadas de la región de la costura de la banda está por debajo de aproximadamente 10^{10} ohm/cuadrado, las propiedades eléctricas internas de la banda intermedia revestida compuesta deberían elegirse para que tenga sustancialmente la misma resistividad lateral en la regiones de la costura como en la regiones alejadas de la costura. Alguna pequeña diferencia podrá permitirse normalmente en función del factores tales como las características de adhesión del tóner y la cantidad aceptable de perturbación del campo que podrá ser tolerada por el sistema antes de declarar un nivel inaceptable de la diferencia entre la imagen transferida en la regiones de la costura y en las regiones alejadas. Sin embargo, normalmente la resistividad lateral de la banda compuesta intermedia con costura capaz de formar imágenes en la región de la banda debería estar dentro de aproximadamente un factor de 4 de la resistividad lateral de la banda compuesta intermedia con costura capaz de formar imágenes en regiones alejadas más allá de las regiones de la costura cuando la resistividad lateral de la banda compuesta está por debajo de aproximadamente 10^{10} ohm/cuadrado en las regiones alejadas.
De todas las explicaciones anteriores se deduce que revestimientos suficientemente gruesos tienen resistividades optimizadas que permiten una amplia concordancia en las propiedades eléctricas del sustrato y el adhesivo. Sin embargo, si un revestimiento muy grueso se usa, la resistividad del revestimiento debería controlarse para reducir los problemas de transferencia. Normalmente, si el grosor dieléctrico del revestimiento está por encima de aproximadamente 25 micrómetros, la resistividad del revestimiento deberían ser preferentemente lo suficientemente baja para que el tiempo relajación de la carga en el área de contacto sea inferior que el tiempo de parada del área de contacto de transferencia para evitar altas caídas de tensión a través del revestimiento durante el tiempo de parada del área de contacto de transferencia. Podrá deducirse de la discusión anterior que la resistividad del revestimiento preferente estará nuevamente por debajo de aproximadamente 10^{10} ohm-cm, para dichos casos de altos grosores del revestimiento. Finalmente, debe mencionarse que en la práctica una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes experimenta tensiones mecánicas significativas. Por lo tanto, la costura debe de tener una resistencia de 1,69 Nm o superior.

Claims (10)

1. Una banda (40) de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes, que comprende:
un sustrato (10) con costura formado por la unión de los extremos de una banda en una costura (11), en el que el sustrato con costura tiene una región de costura alrededor de dicha costura y una región alejada de dicha costura; y
un revestimiento (38) sobre dicho sustrato (10) con costura que tiene una superficie portadora de tóner;
en la que dicha región de costura tiene una correspondencia con las propiedades eléctricas con dicha región alejada para mantener una diferencia entre un campo de transferencia en dicha región de costura y un campo de transferencia en dicha región alejada menor del 20% de dicho campo de transferencia en dicha región alejada, y en la que dichas regiones de costura y alejada tienen una resistividad lateral mayor de 10^{8} ohm/cuadrado.
2. Una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes según la reivindicación 1, en la que dicho revestimiento (38) tiene una resistividad volumétrica menor de 10^{13} ohm-cm.
3. Una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes según la reivindicación 1, en la que dicho revestimiento (38) tiene una resistividad lateral menor de 10^{12} ohm/cuadrado.
4. Una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes según la reivindicación 1, en la que dicho sustrato (10) tiene una resistividad lateral por encima de 10^{12} ohm/cuadrado y dicho revestimiento (38) tiene una resistividad lateral menor de 10^{11} ohm/cuadrado.
5. Una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes según la reivindicación 1, en la que dicho revestimiento (38) tiene un grosor mayor de 5 micrómetros.
6. Una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes según la reivindicación 5, en la que dicho revestimiento (38) tiene un grosor dieléctrico mayor de 25 micrómetros y la resistividad volumétrica de dicho revestimiento no es mayor de 10^{10} ohm-cm.
7. La banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes según la reivindicación 1, en la que dicho sustrato con costura tiene una entalladura (29) para formar dicha costura, en la que dicho sustrato con costura tiene dicha región de costura alrededor de dicha entalladura y dicha región alejada de dicha entalladura; y en la que dicho revestimiento (38) está dispuesto sobre la superficie del lado superior de dicho sustrato con costura.
8. Una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes según la reivindicación 7, en la que dicho revestimiento (38) tiene un grosor mayor que el doble de la anchura de dicha entalladura (20).
9. Una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes según la reivindicación 7, en la que la resistividad volumétrica de dicha región con costura es menor de 10^{10} ohm-cm y la resistividad volumétrica de dicha región alejada es mayor de 10^{10} ohm-cm, y dicho revestimiento (38) tiene un grosor mayor que tres veces la anchura de dicha entalladura (20).
10. Una banda de transferencia intermedia con costura capaz de formar imágenes según la reivindicación 7, que incluye además un adhesivo (22) dentro de dicha entalladura (20).
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