ES2200779T3 - Composicion sensible a la radiacion de infrarrojos y al calor y placa litografica recubierta con dicha composicion. - Google Patents

Composicion sensible a la radiacion de infrarrojos y al calor y placa litografica recubierta con dicha composicion.

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ES2200779T3 ES00202692T ES00202692T ES2200779T3 ES 2200779 T3 ES2200779 T3 ES 2200779T3 ES 00202692 T ES00202692 T ES 00202692T ES 00202692 T ES00202692 T ES 00202692T ES 2200779 T3 ES2200779 T3 ES 2200779T3
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Abstract

Composición sensible al láser de tipo positivo que comprende un aglutinante polimérico, un absorbente de infrarrojos y un inhibidor de la solubilidad capaz de convertir la composición en insoluble en un baño de revelado alcalino antes de la exposición a la radiación de infrarrojos y soluble en dicho baño de revelado alcalino después de la exposición a la radiación de infrarrojos, caracterizada porque dicho inhibidor de la solubilidad es un compuesto organometálico, una sal orgánica o un complejo orgánico de una sal inorgánica de un metal seleccionado de entre el grupo consistente en boro, titanio(IV), tungsteno(IV) y vanadio a condición que dicho inhibidor de la solubilidad no sea un metaloceno.

Description

Composición sensible a la radiación de infrarrojos y al calor y placa litográfica con dicha composición.
Campo de la invención
La presente invención se refiere a una composición sensible a la radiación de infrarrojos y al calor, y a una placa litográfica recubierta con dicha composición.
En particular, se refiere a una composición sensible a la radiación de infrarrojos y al calor que es útil para la preparación de una placa litográfica de tipo positivo.
Asimismo se refiere a una composición sensible a la radiación láser que es útil para la preparación de una placa litográfica de tipo positivo.
Antecedentes de la invención
Como es sabido, la técnica de impresión por medio de placas litográficas se basa en la división diferencial de las sustancias grasas y el agua. La sustancia grasa o tinta se retiene preferentemente por el área con imagen y el agua se retiene preferentemente en el área sin imagen. Cuando la superficie de una placa litográfica, preparada convenientemente, se humedece con agua y posteriormente se rocía con tinta, el área sin imagen retiene el agua y repele la tinta, mientras que el área con imagen acepta la tinta y repele el agua. Posteriormente, la tinta en el área con imagen se transfiere sobre la superficie de un material en el que se desea reproducir la imagen, como, por ejemplo, papel, tejido textil o similares.
En general, las placas litográficas utilizadas en los procesos de impresión están formadas por un soporte de aluminio recubierto con una composición sensible a la luz (fotosensible). Cuando una composición de este tipo se vuelve soluble en un baño de revelado alcalino a través de la acción del calor o de una radiación con una longitud de onda adecuada, el proceso de impresión se denomina "positivo". Inversamente, cuando la parte expuesta al calor o a la radiación con una longitud de onda adecuada se vuelve insoluble en un baño de revelado alcalino, el proceso de impresión se denomina "negativo". En ambos casos, el área con imagen restante es lipófilica y por lo tanto acepta la tinta, mientras que el área sin imagen es hidrofílica y acepta el agua.
Los progresos recientes en el campo de las placas litográficas se han encaminado hacia la búsqueda de composiciones sensibles a la luz láser, preferentemente próxima a la radiación de infrarrojos. En particular, a la luz de láser controlada por un programa informático, de tal forma que transfiere directamente la imagen creada por ordenador sobre la superficie de la placa. Dicha técnica tiene la ventaja de que elimina las películas fotográficas, con la consecuente reducción de la contaminación debida a las sustancias químicas utilizadas para la elaboración y producción de las mismas y la eliminación de todos los problemas que surgen al transferir la imagen sobre la placa mediante las películas fotográficas.
En primer lugar, una composición sensible a la radiación emitida por un láser podría proporcionar mayor fiabilidad al sistema.
En segundo lugar, sería posible trabajar bajo la iluminación ambiental, eliminando de este modo los sistemas automáticos de cargado o los cuartos oscuros.
Con el propósito de alcanzar dicho objetivo, en los recientes años se han investigado diversas composiciones que comprenden un aglutinante polimérico y un inhibidor de la solubilidad. Dicho inhibidor de la solubilidad posee la habilidad de convertir el aglutinante polimérico insoluble en un baño de revelado alcalino adecuado siempre y cuando no se haya expuesto a una cantidad de calor suficiente y convertirlo posteriormente en soluble en dicho baño de revelado después de dicha exposición al calor. Además de los compuestos citados anteriormente, diversas de las composiciones descritas hasta este punto también comprenden un denominado absorbente de radiación de infrarrojos, consistente normalmente en un compuesto capaz de absorber la radiación de infrarrojos y de transformar parte de la radiación absorbida en calor, suministrándolo al entorno circundante inmediato.
Técnica anterior
El documento US-A-4.568.728 da a conocer un aglutinante de fundición para la preparación de productos modelados en fundición que presenta una descomposición mejorada al calentarse a una temperatura de 1000ºF (aproximadamente de 538ºC) durante algunos minutos. Dicho aglutinante comprende (a) un compuesto de resina, una resina orgánica, resinas alquilo, resinas furano, resinas de estructura fenólica o resinas fenólicas portadoras de ácido y (b) una cantidad catalítica de un secador de metales. En uso, el aglutinante de fundición se mezcla con arena para formar unos moldes de arena para piezas fundidas y curadas (por ejemplo, entrecruzado) con una amina terciaria, particularmente TEA, es decir, trietilamina (col. 1, líneas 14-15; col. 8, líneas 25-32; col. 9, líneas 67-68; col. 10, líneas 59-60; reivindicaciones 3 y 4). Después de introducir el metal derretido en dichos moldes de arena, el calor del metal se transfiere a la mezcla arena-aglutinante durante la etapa de enfriamiento y provoca la rotura del aglutinante a un grado tal que permite extraer la arena.
El documento US-A-4.468.486 da a conocer y reivindica una resina recubierta de arena para operaciones de moldeado de la estructura que comprenden agregados de fundición recubiertos con una resina fenólica y una sal de ácido carboxílico de un elemento seleccionado de entre los grupos la, lb, lla, llb, llla, lVa, Va,Vllb o Vll de la Tabla Periódica de Elementos, en la que la sal de ácido carboxílico se selecciona de entre formato, acetato, butirato, benzoato, salicilato, fumarato, oxalato, acrilato, poliacrilato, metacrilato, polimetacrilato, adipato, lactato, citrato o succinato, y la proporción de sal del ácido carboxílico en la resina fenólica es de aproximadamente entre 0,5 y 40 partes en peso a 100 partes de resina fenólica.
El documento EP-A-0 903 225 da a conocer una composición sensible a la luz que comprende (i) un compuesto capaz de generar un ácido al ser expuesto a luz actínica, (ii) un compuesto que presenta un enlace químico capaz de ser descompuesto por un ácido y (iii) un compuesto que presenta un grupo entrelazado por un ácido, (iv) un absorbente de infrarrojos, (v) un polímero obtenido mediante la polimerización de una composición polimerizable que comprende un monómero etilenicamente insaturado que presenta un parámetro de la solubilidad (valor SP) de 13 o superior. Preferentemente, el compuesto capaz de generar un ácido por irradiación de una luz activa es un alquilo halogenado que contiene triacinas o un alquilo halogenado agregado que contiene oxadiazoles (página 9, línea 43, a página 12, línea 33).
El documento US-A-4.122.235 se refiere a una composición de resina aglutinante que comprende, en combinación, una resina resole y una de sal de metal aceleradora del proceso de curación proporcionando una composición aglutinante que presenta una tasa de curación mejorada de laminados de categoría eléctrica sin afectar negativamente sus propiedades eléctricas.
El documento US-A-1.571.447 se refiere a una composición moldeada que contiene resinas, tales como resinas furfural, que presentan unas propiedades adhesivas de una cantidad pequeña de un detergente metálico tal como estearato de zinc o palmitato de aluminio.
El documento WO-A-99 21 725 se refiere a un precursor, por ejemplo una placa de impresión, que presenta un recubrimiento de una composición sensible al calor, cuya solubilidad en un revelador acuoso se trata para aumentarla en las zonas calentadas. La composición contiene un compuesto que aumenta la resistencia de las zonas no calentadas de la composición sensible al calor para la disolución en un revelador acuoso, dicho compuesto se selecciona de entre los grupos que comprenden: (A) compuestos que incluyen una unidad poli(alquileno óxido); (B) siloxanos; y (C) ésteres, éteres y amidas de alcoholes polihídricos.
El documento WO-A-97 39894 se refiere a una base litográfica recubierta con un complejo de un revelador de resina fenólica insoluble y un compuesto que forma un complejo térmicamente débil con la resina fenólica. Dicho complejo es menos soluble en la solución de revelado que la resina fenólica sin el complejo. Sin embargo, cuando dicho complejo se calienta, en relación con la imagen, el complejo se rompe permitiendo así que la resina fenólica sin el complejo se disuelva en la solución de revelado. De este modo, la diferencia de la solubilidad entre las zonas calientes de la resina fenólica y las zonas no calientes aumenta cuando la resina fenólica forma el complejo. Preferentemente, también está presente en la base litográfica un material absorbente de la radiación láser. Ejemplos de compuestos que formen un complejo térmicamente frágil con la resina fenólica son los compuestos quinolinio, compuestos benzotiazolio, compuestos piridinio y compuestos imidazolino.
El documento EP-A-0 823 327 se refiere a una composición fotosensible positiva que presenta una diferencia en solubilidad en revelador alcalino entre una porción expuesta y una porción no expuesta, que comprende, como compuestos que inducen a la diferencia en solubilidad, (a) un material de conversión foto-térmica, y (b) un compuesto molecular de peso molecular elevado, en el que la solubilidad en un revelador alcalino es alterable debido básicamente a un cambio diferente de un cambio químico.
Objetivos de la invención
La presente invención tiene por objetivo proporcionar una composición sensible al calor y una placa litográfica de tipo positivo recubierta con dicha en la que el inhibidor de la solubilidad consiste en un compuesto organometálico.
La presente invención asimismo tiene por objetivo proporcionar una composición sensible a la radiación de infrarrojos y una placa litográfica de tipo positivo recubierta con dicha composición en la que el inhibidor de la solubilidad consiste en un compuesto órgano metálico.
La presente invención tiene por objetivo además proporcionar una composición sensible a la radiación láser y una placa litográfica de tipo positivo recubierta con dicha composición en la que el inhibidor de la solubilidad consiste en un compuesto órgano metálico.
Definiciones
El término "metalocenos" se utiliza para referirse a los compuestos organometálicos, también denominados compuestos "sándwich", formados por dos grupos ciclopentadienilos unidos a un átomo de metal.
\newpage
El término "placa litográfica" se refiere a un soporte recubierto con un revestimiento que, después de haber sido debidamente expuesto y revelado, se utiliza, como matriz planográfica, en los procesos de impresión en los que existe una partición diferencial entre las sustancias grasas y el agua.
Ejemplos típicos de materiales de soporte son los constituidos por placas de aluminio, zinc, cobre, poliéster y papel cubierto con un polímero. Preferentemente, el soporte es una lámina de aluminio granulado, oxidado y tratado adecuadamente para acoger la composición fotosensible.
El término "tipo positivo" significa que la porción del recubrimiento fotosensible expuesto a la radiación o al calor se vuelve soluble de tal manera que se pueden eliminar durante el proceso de revelado de la placa. Típicamente, el proceso de revelado se realiza en medios alcalinos que presentan una conductividad de entre 75 y 110 mS.
El término "aglutinante polimérico" se refiere a un polímero soluble en medios alcalinos, como por ejemplo una resina novolac, una resina resole, una resina vinilfenólica, sus derivados o sus mezclas.
Típicamente, una resina novolac es un producto de policondensación obtenido mediante una reacción en un ambiente ácido entre formaldehído y fenol y/o m-cresol y/o xilenol simétrico en un porcentaje molecular inferior a 1 (por ejemplo: formaldehído: fenol = 1: 2. Opcionalmente, el compuesto obtenido de éste modo se modifica de varias formas tal como, por ejemplo, por reacción con amidas.
Ejemplos típicos de resinas novolac comerciales son los productos LB 6564^{TM} (peso molecular medio en peso = 6000-10000) y LB 744^{TM} (peso molecular medio en peso = 8000-13000) de la empresa BAKELITE (Alemania); y R 7100 (peso molecular medio en peso = 8000-10000) de la empresa Rohner; PN 320 ^{TM} (peso molecular medio en peso = 3000-5000) y PN 430^{TM} (peso molecular medio en peso = 5000-9500) de la empresa Clariant; 010/129/2 (peso molecular medio en peso = 8700-9700), 010/129/1 (peso molecular medio en peso = 2200- 3200), 010/127/1 (peso molecular medio en peso = 800-1800), 76/159 (peso molecular medio en peso = 2900- 3900); 76/160 (peso molecular medio en peso = 2200 - 200), 76/190 (peso molecular medio en peso = 7500- 8500); de la empresa Rohner.
El término "composición sensible al calor" se refiere a una composición que incluye un aglutinante polimérico y presenta la propiedad de ser insoluble en un baño de revelado alcalino en tanto no se ha expuesto a cantidad suficiente de calor y posteriormente se hace soluble en dicho baño después de tal exposición al calor.
El término "inhibidor de la solubilidad" representa un compuesto que es capaz de transformar una composición sensible al calor que lo contiene en insoluble en un baño de revelado alcalino adecuado en tanto que dicha composición no se ha expuesto a una cantidad suficiente de calor y/o a una radiación láser y posteriormente convirtiéndola en soluble en dicho baño de revelado después de la exposición al calor y/o una radiación láser.
El término "absorbente de infrarrojos" representa un compuesto capaz de absorber una radiación de infrarrojos y de transformar parte de la radiación absorbida en calor y transmitirlo al entorno inmediatamente circundante. Preferentemente, dicho absorbente es soluble en agua, cetonas, glicoles, glicoéteres, alcoholes, ésteres y sus mezclas.
Ejemplos típicos de absorbentes son los productos comerciales KF 646^{TM}, KF 645^{TM}, KF 810^{TM}, KF 1003^{TM}, KF 1002^{TM}, IR HBB 812^{TM} y KF 818^{TM} de la empresa Riedel-de Haen/Allied/ Signal (Seelze, Alemania), los productos comerciales ADS 830A^{TM} y ADS 1060A^{TM}, ADS793EI^{TM}, ADS798MI^{TM}, ADS798MP^{TM}, ADS800 AT^{TM}, ADS805PI^{TM}, ADS805PP^{TM}, ADS805PA^{TM}, ADS805PF^{TM}, ADS812M^{TM}, ADS815E^{TM}, ADS818H^{TM}, ADS518 HT^{TM},
ADS822MT^{TM}, ADS838MT^{TM}, ADS840MT^{TM}, ADS845BI^{TM}, ADS905AM^{TM}, ADS956BGI^{TM}, ADS1040P^{TM},
ADS1054P^{TM}, ADS1050P^{TM}, ADS1120P^{TM}, de la empresa American Dye Source (Varennes, Québec, Canadá), los productos comerciales YKR-3070^{TM}, YKR-082^{TM}, D99-029^{TM} y D99-039^{TM} de la empresa Yamamoto Chemical Inc.; el producto comercial Projet 825 LDI^{TM} de la empresa Avecia Limited (ex Zeneca Specialties, Manchester, England). En la presente, por conveniencia, el producto Projet 825 se referirá a continuación en la presente memoria mediante la abreviación "Z".
Una familia de absorbentes particularmente interesante se caracteriza mediante la siguiente fórmula estructural
1
en la que X, Y, R, R' y R'' puede presentar diversos significados. Los ejemplos típicos de dichos significados son: un anillo heterocíclico simple o condensado para X, un anillo heterocíclico simple o fusionado para Z e Y junto con el átomo de carbono al que se unen, hidrógeno, C_{1-3} alquilo, SO_{3}- o COO- para R y R' independientemente uno del otro y H ó Cl para R''.
Los ejemplos particulares de dichos anillos heterocíclicos son:
2
Los ejemplos específicos de absorbentes son:
A
3
B
4
C
5 
\newpage
D
6
E
7
Z
8
El término "radiación de infrarrojos" significa una radiación de una longitud de onda de entre 780 a 1400 nm.
Un ejemplo típico de un dispositivo utilizado para generar una radiación de infrarrojos es un diodo de láser que emite a aproximadamente 830nm.
El término "radiación láser" significa una radiación de una longitud de onda de entre 600 a 1400 nm.
Son bien conocidos en la técnica los absorbentes capaces de absorber una radiación que presenta una longitud de onda de entre 600 a 780 nm. Ejemplos típicos de dichos absorbentes son los productos comerciales ADS640PP^{TM}, AD640HI^{TM}, ADS640HI^{TM}, ADS675MT^{TM}, ADS680BR^{TM}, ADS740PP^{TM}, ADS745HT^{TM}, ADS760MP^{TM},
ADS775MI^{TM}, ADS775MP^{TM}, ADS775HI^{TM}, ADS775PI^{TM}, ADS775PP^{TM}, ADS780MT^{TM} y ADS780BP^{TM} de la marca American Dye Source (Varennes, Quebec, Canadá).
El término "longitud de onda nominal" significa una longitud de onda de entre 805 a 830 nm.
El término "tinte" significa un compuesto o preparado coloreado capaz de teñir la composición foto-sensible para descubrir la imagen después de la exposición a la luz y/o después del revelado.
Ejemplos típicos de tinte son Basonyl^{TM} azul 636 (Índice de color 42595) de la marca Basf (Alemania), Amarillo de Sudán 150 (Índice de color 11021) de la marca Basf (Alemania), Solvente Verde 3 (Índice de color 61565), Solvente Azul 59 (Índice de color 61552), Solvente Azul 35 (Índice de color 61554) o sus mezclas.
El término "triacina" trata de englobar toda la familia de las triclorometil-s-triacinas sustituidas de tipo conocido.
El término "aditivo" significa un compuesto utilizado para mejorar o conferir las propiedades deseadas de la composición foto sensible como por ejemplo un agente reforzador del revelado, un pigmento, un viscosante capaz de hacer que la emulsión sea menos resistente al calor y por lo tanto más sensible, no obstante, sin que posea una función insolubilizadora, o un agente capaz de modificar la tensión superficial y/o la tensión interfacial y de este modo mejorar las características de propagación en el soporte y la facultad recubridora de la composición sensible al calor.
Ejemplos típicos de pigmentos son: Heliogen^{TM} Blue L6700 F (PB 15:6 índice de color 74160), Heliogen^{TM} Blue L 6875 F (PB 15:2 índice de color 74160) de la marca Basf (Alemania) y de las series Waxoline^{TM}: BLUE AP FW^{TM} (índice de color SB 36 PART 2 61551), VIOLET A FW^{TM} (índice de color SV 13 PART 2 60725), GREEN G FW^{TM} A (índice de color SB 3 PART 2 61565^{TM}) de la marca Avecia Limited (ex Zeneca Ltd.) o sus mezclas.
Ejemplos típicos de agentes capaces de modificar la tensión superficial y/o la tensión interfacial son los copolímeros poliéteres de dimetilpolisiloxano modificados, las mezclas de solventes aromáticos de alta ebullición, cetonas y ésteres y surfactantes fluorados. Ejemplos típicos de dichos agentes son los productos comerciales BYK 300^{TM}, 302^{TM} y 341^{TM}, BYKETOL^{TM} OK de la marca BYK Mallinckrodt y FC 430^{TM} y FC 431^{TM} de la marca 3M.
Sumario de la invención
En primer lugar, la presente invención se refiere a una composición sensible al láser de tipo positivo según la reivindicación 1.
En segundo lugar, la presente invención también se refiere a una placa litográfica de tipo positivo según las reivindicaciones 18 y 29.
Típicamente, el metal del grupo IIIA es aluminio y boro y el del grupo de transición es titanio(IV), hierro(III), cobre(II), cromo(II), cobalto(II), manganeso(II), tungsteno(IV), vanadio, zinc y circonio.
Los metales preferidos son titanio(IV), cobre(II) y hierro.
Dependiendo del número de valencias de los metales mencionados anteriormente los compuestos organometálicos mencionados comprenden, preferentemente, por lo menos 1 mitad orgánica seleccionada de entre el grupo que comprende grupos alifáticos que presentan de 1 a 10 átomos de C y grupos cicloalifáticos que presentan de 3 a 6 átomos de C.
Es preferible asimismo que dicho grupo sea un grupo alquilo, alcoxilo o alquilcarboxilo que presenta de 1 a 10 átomos de C.
Ejemplos típicos de compuestos orgánicos de aluminio son acetato de aluminio, acetilacetonato de aluminio, isopropóxido de aluminio, tri-sec-butóxido de aluminio, dietil-cloruro de aluminio, dietil-etóxido de aluminio, hidruro diisobutilo de aluminio y triisobutilo de aluminio.
Ejemplos típicos de compuestos orgánicos de boro son borato de triisopropilo, borato de tributilo, trietilborano, borato de trietilo, bromodimetil borano, trifenil borano, B-metoxi diisopino camfenil borano, DIP-cloruro, B- cloro diisopino camfenil borano, B-bromocatecol borano, 2-bromo-1,3,2-benzodioxaborole y bromo dimetil borano.
Ejemplos típicos de compuestos orgánicos de titanio(IV) son isopróxido de titanio(IV) (ortotitanato de tetraisopropilo), propóxido de titanio(IV) (ortotitanato de tetrapropilo), butóxido de titanio(IV) (titanato de tetrabutilo), etóxido de titanio(IV) (ortotitanato de tetraetilo), 2-etilhexóxido de titanio(IV) (tetrakis(2-etilhexil) ortotitanato), metóxido de titanio(IV) (ortotitanato de tetrametilo), bis(acetilacetonato) diisopropóxido de titanio y (trietanolaminato) de titanio(IV).
Ejemplos de compuestos orgánicos de titanio(IV) comerciales son Tyzor^{TM} TE, Tyzor^{TM} 131, Tyzor^{TM} GBA, Tyzor^{TM} TPT, Tyzor^{TM} TBT, Tyzor^{TM} TOT y Tyzor^{TM} AA.
Ejemplos típicos de complejos orgánicos de una sal inorgánica de titanio(IV) son tetracloruro tetrahidrofurano titanio y tetraclorobis (tetrahidrofurano) titanio.
Ejemplos típicos de compuestos orgánicos de cobre(II) son d-gluconato de cobre(II), acetato monohidrato de cobre(II), acetato hidrato de cobre(II), acetilacetonato de cobre(II), 2-etilhexanoato de cobre(II), ciclohexanobutirato de cobre(II), derivados de la 2,4-pentanodiona de cobre(II), acetato de cobre(II) y metóxido de cobre(II).
Ejemplos típicos de compuestos orgánicos de hierro son d-gluconato dihidrato de hierro(II), acetilacetonato de hierro(III), derivados de la 2,4-pentanodiona de hierro(III) y acetato de hierro(III).
Ejemplos típicos de compuestos orgánicos de zinc son acetilacetonato de zinc, acetilacetonato hidrato de zinc, acetato de zinc, acetato dihidrato de zinc, dietilzinc, dimetilzinc, difenilzinc, dicloro(N,N,N',N')-tetrametileno-diamino zinc, bis(2,2,6,6-tetrametil-3,5-heptanodionato) de zinc, ciclohexanobutirato de zinc y sal de zinc del ácido 3, 5-di-ter-butilsalicílico.
Ejemplos típicos de compuestos orgánicos de manganeso son acetato de manganeso, acetato dihidrato de manganeso, acetato tetrahidrato de manganeso, acetilacetonato de manganeso y ciclohexanobutirato de manganeso.
Ejemplos típicos de compuestos orgánicos de circonio son butóxido de circonio(IV) (circonato de tetrabutilo), ter-butóxido de circonio (circonato de tetra (ter-butilo)), etóxido zirconio (circonato de tetraetilo), propóxido de circonio (circonato de tertrapropilo), complejo de circonio(IV) isopropoxido isopropanol, acetato de circonio, acetato hidróxido de circonio, acetilacetonato de circonio (IV) y derivados de la 2,4-pentanediona de circonio(IV).
Ejemplos típicos de compuestos orgánicos de vanadio son isopropóxido vanadilo, acetilacetonato de vanadilo y acetilacetonato de vanadilo (III).
Preferentemente, dicho aglutinante polimérico comprende una resina novolac o su derivado que presenta un peso molecular medio en peso de entre 2 000 a 14.000.
Ventajosamente, dicho aglutinante polimérico es una mezcla de uno o más novolac. Preferentemente, el primer novolac presenta un peso molecular medio en peso de entre 3.000 a 5000 y un segundo novolac presenta un peso molecular medio en peso de entre 6.000 a 10.000.
En una primera forma de realización de la presente invención, la composición también comprende un absorbente de infrarrojos capaz de absorber una radiación de infrarrojos de entre 780 a 1.400 nm, preferentemente de entre 780 a 1.100 nm, y transformarla en calor.
La composición de la presente invención también puede comprender un tinte.
Típicamente dicho tinte es Basonyl^{TM} blue 636 (índice de color 42595) y está presente en cantidades suficientes únicamente para teñir la composición.
La composición de la presente invención puede asimismo comprender un viscosante, una triacina y otros aditivos convencionales. En particular, el cometido del viscosante es modificar la dureza y la fuerza de dicha composición mediante la variación de su sensibilidad al calor sin afectar de forma apreciable su sensibilidad hacia los reveladores.
Ventajosamente, la composición de la presente invención puede contener asimismo inhibidores de la solubilidad pertenecientes a otros tipos tales como, por ejemplo, un copolímero acrílico hidroxilado o su derivado en el que algunos grupos hidroxilos han sido esterificados con un ácido carboxílico alifático o con su derivado reactivo. Otros inhibidores de la solubilidad sensibles al calor son objeto de otra solicitud patente que se incluye en la presente memoria como referencia, presentada por el solicitante en la misma fecha. Típicamente, los copolímeros acrílicos hidroxilados mencionados son Macrynal^{TM} SM 510 N, SM 513, SM515 o SM 516 de la marca Hoechst o su derivado obtenido mediante una esterificación parcial con anhídrido maleico.
La presente invención se describe más extensamente a través de Ejemplos y Ensayos siguientes, cuyo propósito es meramente ilustrativo y no deben ser considerados como limitantes de la invención.
Experimentos Ejemplo 1 Preparación de composiciones sensibles al calor y a radiación de infrarrojos
Se disolvió la mezcla (6g) de los compuestos indicados en las Tablas siguientes a temperatura ambiente (aproximadamente 25ºC) en 94 g de una mezcla de acetona 30 : 70 (p/p): acetona : metoxipropanol, agitado hasta la completa disolución de sus compuestos.
La solución obtenida se filtró a través de papel utilizando un filtro del tipo 0860 de la marca Schleicher & Schuell (100 mm).
TABLA 1
Composición Nº 1 2 3 4 5 6
Compuesto %(p/p) %(p/p) %(p/p) %(p/p) %(p/p) %(p/p)
R 7100 ^{TM} 46,9 50,4 53,9 57,4 20,1 67
PN 320 ^{TM} 20,1 21,6 23,1 24,6 46,9 0
Tyzor ^{TM} TE (*) 30 25 20 15 30 30
"Z" 3 3 3 3 3 3
(*) isopropóxido de titanio trietanolaminado
TABLA 2
Composición Nº 7 8 9 10 11
Compuesto %( p/p) %(p/p) %(p/p) %(p/p) %(p/p)
LB 6564 ^{TM} 67 60,3 53,6 46,9 72
PN 320 ^{TM} 0 6,7 13,4 20,1 0
Tyzor ^{TM} TE (*) 30 30 30 30 25
"Z" 3 3 3 3 3
TABLA 3
Composición Nº 12 13 14
Compuesto %(p/p) %(p/p) %(p/p)
R 7100 ^{TM} 39,9 46,9 53,9
PN 320 ^{TM} 17,1 20,1 23,1
Macrymal ^{TM} SM 10 10 10
Tyzor ^{TM} TE (*) 30 20 10
"Z" 3 3 3
TABLA 4
Composición Nº 15 16 17
Compuesto %(p/p) %(p/p) %(p/p)
R 7100 ^{TM} 39,9 46,9 53,9
PN 320 ^{TM} 17,1 20,1 23,1
Macrymal ^{TM} SM 10 10 10
Tyzor ^{TM} TE (*) 30 20 10
"Z" 3 3 3
TABLA 5
Composición Nº 18 Composición Nº 19
Compuesto %(p/p) Compuesto %(p/p)
R7100 ^{TM} 44,8 R 7100 58,3
PN320 ^{TM} 22,2 PN 320 24,9
Tyzor ^{TM} TE (*) 30 Ti (IV) butóxido 13,7
ADS 1060 ^{TM} 3 "Z" 3
TABLA 6
Composición Nº 20 Composición Nº 21
Compuesto %(p/p) Compuesto %(p/p)
R7100 ^{TM} 53,9 R 7100 58,3
PN320 ^{TM} 23,1 PN 320 25,2
Ti (IV) etilhexóxido 20 Ti (IV) propóxido 13
"Z" 3 "Z" 3
TABLA 7
Composición Nº 22 Composición Nº 23
Compuesto %(p/p) Compuesto %(p/p)
R7100 ^{TM} 46,2 LB6564 88
PN320 ^{TM} 30,8 Basony Blu 636 1
Ti (IV) isopropóxido 20 Ti (IV) isopropóxido 8
"Z" 3 "Z" 3
TABLA 8
Composición Nº 24 Composición Nº 25
Compuesto %(p/p) Compuesto %(p/p)
R7100 ^{TM} 62,3 LB6564 88
PN320 ^{TM} 26,7 Ti (IV) isopropóxido 8
Ti (IV) isopropóxido 7 Basonyl Blu 636 1
Basonyl^{TM}Blu 636 1 "Z" 3
ADS 830 ^{TM} 3
Las mezclas anteriores de las Tablas 1-8, también, son completamente solubles en los solventes siguientes: metilcetona [MEK]; acetona/MEK (5/95 a 95/5 p/p); MEK/2-metoxiisopropanol (5/95 a 95/5 p/p); acetona/alcohol isopropílico [IPA] (5/95 a 95/5 p/p); MEK/IPA (5/95 a 95/5 p/p). (*) El Macrymal ^{TM} modificado se prepara tal como sigue:
Reactivos
Macrynal ^{TM} SM 510 N^{(1)} 32,0 kg (75,24% p/p)
[(1) Macrynal ^{TM} SM 510 N presenta un número de OH de aproximadamente 160]
Anhídrido maleico 2,4 kg (5,64% p/p)
Hidroquinona 22,5 g (0,053% p/p)
Trietilamina 108 g (0,25% p/p)
Acetato de butilo 8,0 kg (18,81% p/p)
Método
La hidroquinona se colocó en un recipiente reactivo de carga superior de 50 l equipado con un agitador mecánico de 0,45-0,5 kW de energía, con una pala rotante de teflón, un embudo vertedor de 3 l y un condensador de reflujo. Dicho reactor también estaba equipado con una manta de calor con un control térmico doble: uno situado en la base del reactor y otro en la parte superior de la manta.
Cuando se completó la adición, se encendieron el agitador y los reostatos, fijando el efecto de calor del primero a una temperatura de 78ºC y el segundo a 80ºC.
El anhídrido maleico se disolvió separadamente con calor (50ºC) en la mitad de volumen de acetato de butilo y se agitó, se evitó el contacto prolongado con el aire para evitar que la humedad contenida en él transformara el anhídrido a ácido.
Cuando la temperatura del reactivo alcanzó los 80ºC, se añadió la solución de anhídrido maleico durante un periodo de 15 minutos.
Se lavó el recipiente que contenía la solución de anhídrido maleico con una porción del acetato de butilo restante.
Separadamente, se preparó una solución que contenía la trietilamina y el acetato de butilo restante y se añadió lentamente a la mezcla de reacción por un periodo aproximado de 1 hora.
Cuando se completó la adición, la temperatura del primer reostato se restableció a 88ºC y el segundo reostato a 90ºC.
Se dejó la mezcla de reacción actuar durante 5 horas a una temperatura de 90ºC. Entonces se desconectaron los reostatos de calor y se dejó enfriar con agitación de la mezcla de reacción.
El producto obtenido de este modo podía utilizarse como tal para elaborar la composición de la presente invención y se componía básicamente del producto de esterificación deseado (50-60% p/p) y de acetato de butilo (40-50% p/p).
El producto de esterificación deseado presentaba las siguientes características:
Nº de acidez 75 \pm 10 mg KOH/g
Viscosidad (con copa nº3*) 200
(*) La viscosidad se midió mediante el método de la copa FORD a una temperatura de 25ºC.
Ejemplo 2 Elaboración de una placa litográfica de tipo positivo
Las composiciones del Ejemplo 1 anterior se esparcieron sobre un soporte de aluminio que se había tratado previamente mediante las técnicas convencionales. La placa revestida de este modo se secó en un horno de circulación forzada como el PID^{TM} sistema M80-VF^{TM} de la marca MPM^{TM} Instruments s.r.l. (Bermarggio, Milan, Italia) a una temperatura de 90ºC durante 8 minutos. El peso del revestimiento fotosensible es 1,5-2,0 g/cm^{2}.
Después de dejarlas reposar durante por lo menos 24 horas, las placas obtenidas de este modo se sometieron a los siguientes ensayos:
Ensayo 1 Resistencia a una solución al 10% de metasilicato sódico pentahidratado en agua desmineralizada
Una tira de la placa de 2x30 cm se sumergió en "etapas" sucesivas de 4 cm/10 seg en uncilindro graduado que contiene una solución de metasilicato sódico pentahidratado al 10% a una temperatura de 24ºC.
De este modo, se obtuvo una escala representativa de seis zonas con unos tiempos de inmersión de 10 segundos para la 1era etapa de la escala hasta 1 minuto para la última. Los resultados se presentan en la Tabla 9 siguiente.
TABLA 9
Etapas
1 2 3 4 5 6
Composición
1 X X
2 X
3 X
4 X
5 X
6 X X
7 X
8 X
9 X
10 X
11 X
12 X
13 X
14 X
15 X
16 X
17 X
18 X X
19 X
20 X
21 X
22 X
23 X
TABLA 9 (continuación)
Etapas
1 2 3 4 5 6
Composición
24 X
25 X X
Los valores indican la primera etapa visible independientemente del grosor del recubrimiento remanente; el valor 1 es equivalente a un tiempo de 10 segundos y el valor de 6 es equivalente a un tiempo de 60 segundos.
La resistencia de la composición a la solución utilizada es superior para el valor 6 e inferior o resistencia cero para el valor 1.
Ensayo 2 Resistencia al revelador LAP98 ^{TM}
Una tira de la placa de 2x30 cm se sumergió en "etapas" sucesivas de 4 cm/10 seg en un cilindro graduado que contiene una solución de LAP98 ^{TM} a una temperatura de 24ºC.
El LAP98 ^{TM} presenta la siguiente composición: agua (85% p/p), metasilicato sódico pentahidratado (13% p/p), surfactantes (0,5% p/p) y otros aditivos (1,5% p/p).
De este modo, se obtuvo una escala representativa de seis zonas con unos tiempos de inmersión de 10 segundos para la 1ª etapa de la escala hasta un minuto para la última. Los resultados se presentan en la Tabla 10 siguiente.
TABLA 10
Etapas
1 2 3 4 5 6
Composición
1 X
2 X
3 X
4 X
5 X
6 X
7 X
8 X
9 X
10 X
11 X
12 X
13 X
TABLA 10 (continuación)
Etapas
1 2 3 4 5 6
Composición
14 X
15 X
16 X
17 X
18 X X
19 X
20 X X
21 X
22 X X
23 X
24 X X
25 X
Los valores indican la primera etapa visible independientemente del grosor del recubrimiento remanente; el valor 1 es equivalente a un tiempo de 10 segundos y el valor de 6 es equivalente a un tiempo de 60 segundos.
La resistencia de la composición a la solución utilizada es superior para el valor 6 e inferior o resistencia cero para el valor 1.
Ensayo 3 Resistencia al alcohol isopropílico
Una tira de la placa de 2x30 cm se sumergió en "etapas" sucesivas de 4 cm/10 seg en un cilindro graduado que contiene una solución acuosa al 40% de alcohol isopropílico a una temperatura de 24ºC.
De este modo, se obtuvo una escala representativa de seis zonas con unos tiempos de inmersión de 1 minuto para la 1ª etapa de la escala hasta 6 minutos para la última. Después de la inmersión, se aplicó sobre la superficie de cada tira una banda adhesiva, que se retiró inmediatamente mediante tracción, con el fin de avaluar el grado de deterioro de la capa fotosensible causado por la solución de alcohol isopropílico. Los resultados se presentan en la Tabla 11 siguiente.
TABLA 11
Etapas
Composición 1 2 3 4 5 6
1 X
2 X
3 X
4 X
TABLA 11 (continuación)
Etapas
Composición 1 2 3 4 5 6
5 X
6 X
7 X
8 X
9 X
10 X
11 X
12 X
13 X
14 X
15 X X
16 X
17 X
18 X
19 X
20 X
21 X
22 X
23 X X
24 X
25 X
Los valores indican la primera etapa visible independientemente del grosor del recubrimiento remanente; el valor 1 es equivalente a un tiempo de 1 minuto y el valor de 6 es equivalente a un tiempo de 6 minutos. La resistencia de la composición a la solución utilizada es superior para el valor 6 e inferior o resistencia cero para el valor 1.
Ensayo 4 Exposición a la radiación de infrarrojos
Seis diferentes zonas de la placa presentando la misma distribución de peso por unidad de área se expusieron utilizando un haz de láser, controlado mediante un programa de ordenador y que presenta una longitud de onda de 830 nm (todas las composiciones excepto para la composición Nº18) y una longitud de onda nominal de 1060 nm (composición Nº18, únicamente), a los siguientes valores de energía/cm^{2}: 300 mJ/cm^{2}; 250 mJ/cm^{2}; 150 mJ/cm^{2};
100 mJ/cm^{2}; 75 mJ/cm^{2} y 50 mJ/cm^{2}.
Las placas expuestas se revelaron inmediatamente en una bandeja utilizando, como referencia, LAP98^{TM} de la marca Lastra S.p.A como revelador a una temperatura desde 24 a 25ºC durante 45 segundos de tiempo de inmersión con agitación más 15 segundos de secado con una almohadilla de algodón.
Los resultados del ensayo se presentan en la Tabla 12 y 12 bis.
TABLA 12
Limpieza de la Base
Composición A B A B A B
300 300 250 250 150 150
mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2}
1 sí sí sí no no no
2 sí sí sí sí no no
3 sí sí sí sí sí no
4 sí sí sí sí sí sí
7 sí sí sí sí no no
18 sí sí sí sí no no
19 sí sí sí sí sí sí
20 sí sí sí sí sí sí
21 sí sí sí sí sí sí
22 sí sí sí sí sí sí
23 sí sí sí sí sí sí
24 sí sí sí sí sí sí
25 sí sí sí sí sí sí
TABLA 12 bis
Limpieza de la Base
Composición A B A B A B
100 100 75 75 50 50
mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2}
1 no no no no no no
2 no no no no no no
3 no no no no no no
4 sí sí sí sí sí sí
7 no no no no no no
18 no no no no no no
19 no sí no no no no
20 sí sí sí sí sí sí
21 sí sí sí sí no no
TABLA 12 bis (continuación)
Limpieza de la Base
Composición A B A B A B
100 100 75 75 50 50
mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2} mJ/cm^{2}
22 no no no no no no
23 no no no no no no
24 sí sí sí sí no no
25 no no no no no no
A corresponde a un peso de emulsión de 1,6 - 1,8 g/m^{2}.
B corresponde a un peso de emulsión de 2,0 - 2,2 g/m^{2}.
El término "limpieza de la base" se utiliza para significar que el revelador ha eliminado la composición de las regiones que se han expuesto a las radiaciones láser.
Ensayo 5 Resistencia a la abrasión mecánica
Para simular la abrasión mecánica y química que sufre una placa durante el proceso de impresión, se fijaron a nivel de la superficie unas muestras de placas correspondientes a las composiciones de 1-4 y 7, 18-25 y se colocaron en estrecho contacto con una almohadilla de algodón empapada en una solución al 50% de alcohol isopropílico. La almohadilla se movía mediante un brazo unido a un sistema de aire comprimido capaz de suministrar un movimiento oscilatorio con la consiguiente fricción de las muestras examinadas. Para cada composición, se registró el número máximo de pases antes de la eliminación completa de la emulsión. Los resultados expresados en número de pases se reproducen en la Tabla 13 siguiente.
TABLA 13
Composición Número de pases
1 100
2 30
3 15
4 5
7 30
18 100
19 70
20 20
21 90
22 100
23 60
24 95
25 600

Claims (43)

1. Composición sensible al láser de tipo positivo que comprende un aglutinante polimérico, un absorbente de infrarrojos y un inhibidor de la solubilidad capaz de convertir la composición en insoluble en un baño de revelado alcalino antes de la exposición a la radiación de infrarrojos y soluble en dicho baño de revelado alcalino después de la exposición a la radiación de infrarrojos, caracterizada porque dicho inhibidor de la solubilidad es un compuesto organometálico, una sal orgánica o un complejo orgánico de una sal inorgánica de un metal seleccionado de entre el grupo consistente en boro, titanio(IV), tungsteno(IV) y vanadio a condición que dicho inhibidor de la solubilidad no sea un metaloceno.
2. Composición según la reivindicación 1, caracterizada porque dicho compuesto organometálico comprende por lo menos 1 mitad orgánica seleccionada de entre el grupo que comprende unos grupos alifáticos que presentan de 1 a 10 átomos de C y grupos cicloalifáticos que presentan de 3 a 6 átomos de C.
3. Composición según la reivindicación 2, caracterizada porque dicho grupo alifático es un grupo alquilo, alcoxilo o alquilcarboxilo que presenta de 1 a 10 átomos de C.
4. Composición según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 1 a 3, caracterizada porque el compuesto orgánico de titanio(IV) se selecciona de entre el grupo que comprende isopróxido de titanio(IV), propóxido de titanio, butóxido de titanio(IV), etóxido de titanio(IV), 2-etilhexóxido de titanio(IV), metóxido de titanio(IV), bis(acetilacetonato) diisopropóxido de titanio y (trietanolaminato) de titanio(IV).
5. Composición según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 1 a 4, caracterizada porque el complejo orgánico de una sal inorgánica de titanio(IV) es el complejo de tetracloruro de titanio con tetrahidrofurano o tetraclorobis (tetrahidrofurano) titanio.
6. Composición según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 1 a 3, caracterizada porque los compuestos orgánicos de boro se seleccionan de entre el grupo que comprende borato de triisopropilo, borato de tributilo, trietilborano, borato de trietilo, bromodimetil borano, trifenil borano, B-metoxi diisopino camfenil borano, DIP-cloruro,
B-cloro diisopino camfenil borano, B-bromocatecol borano, 2-bromo-1,3,2-benzodioxaborole y bromo dimetil borano.
7. Composición según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 1 a 3, caracterizada porque los compuestos orgánicos de vanadio se seleccionan de entre el grupo que compernde isopropóxido de vanadilo, acetilacetonato de vanadilo y acetilacetonato de vanadio(III).
8. Composición según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 1 a 7, caracterizada porque dicho aglutinante polimérico comprende una resina novolac.
9. Composición según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 8, caracterizada porque el absorbente de infrarrojos es capaz de absorber una radiación de infrarrojos comprendida entre 780 a 1.400 nm.
10. Composición según cualquiera de las reivindicaciones 1 a 9, caracterizada porque comprende además un inhibidor de la solubilidad que es un copolímero acrílico hidroxilado o su derivado en el que alguno de los grupos hidroxilos se han esterificado con un ácido carboxílico o su derivado reactivo.
11. Placa litográfica de tipo positivo recubierta con una composición sensible al calor que comprende un aglutinante polimérico y un inhibidor de la solubilidad, caracterizada porque dicho inhibidor de la solubilidad es un compuesto organometálico, una sal orgánica o un complejo orgánico de una sal inorgánica o un metal del grupo IIIA o grupo de transición de la tabla periódica de elementos, a condición de que dicho inhibidor de la solubilidad no sea metaloceno y que la composición no comprenda un compuesto capaz de generar un ácido ante la exposición a luz actínica.
12. Placa litográfica según la reivindicación 11, caracterizada porque el metal perteneciente al Grupo IIIA es aluminio o boro.
13. Placa litográfica según la reivindicación 11, caracterizada porque el metal perteneciente al grupo de transición es titanio(IV), hierro(II) y (III), cobre(II), cromo(III), cobalto(II), manganeso(II), tungsteno(IV), vanadio, zirconio o zinc.
14. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 11 a 13, caracterizada porque dicho compuesto organometálico comprende por lo menos 1 mitad orgánica seleccionada de entre el grupo que comprende unos grupos alifáticos que presentan de 1 a 10 átomos de C y grupos cicloalifáticos que presentan de 3 a 6 átomos de C.
15. Placa litográfica según la reivindicación 14, caracterizada porque dicho grupo alifático es un grupo alquilo, alcoxilo o alquilocarboxilo que presentan de 1 a 10 átomos de C.
\newpage
16. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 11 a 15, caracterizada porque el compuesto orgánico de titanio(IV) se selecciona de entre del grupo que comprende isopróxido de titanio(IV), propóxido de titanio, butóxido de titanio(IV), etóxido de titanio(IV), 2-etilhexóxido de titanio(IV), metóxido de titanio(IV), bis(acetilacetonato) diisopropóxido de titanio y (trietanolaminato) de titanio(IV).
17. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 11 a 17, caracterizada porque el complejo orgánico de una sal inorgánica de titanio(IV) es el complejo de tetracloruro de titanio con tetrahidrofurano o tetraclorobis (tetrahidrofurano) titanio.
18. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 11 a 15, caracterizada porque los compuestos orgánicos de cobre se seleccionan de entre el grupo que comprende d-gluconato de cobre(II), acetato monohidrato de cobre(II), acetato hidrato de cobre(II), acetilacetonato de cobre(II), 2-etilhexanoato de cobre(II), ciclohexanobutirato de cobre(II), derivados de la 2,4-pentanodiona de cobre(II), acetato de cobre(II) y metóxido de cobre(II).
19. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 11 a 15, caracterizada porque los compuestos orgánicos de hierro se seleccionan de entre el grupo que comprende d-gluconato dihidrato de hierro(II), acetilacetonato de hierro(III), derivados de la 2,4-pentanodiona de hierro(III) y acetato de hierro(II).
20. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 11 a 15, caracterizada porque los compuestos orgánicos de zinc se seleccionan de entre el grupo que comprende acetilacetonato de zinc, acetilacetonato hidrato de zinc, acetato de zinc, acetato dihidrato de zinc, dietilzinc, dimetilzinc, difenilzinc, dicloro (N,N,N',N')-tetrametileno-diamino zinc, bis(2,2,6,6-tetrametil-3,5-heptanodionato) de zinc, ciclohexanobutirato de zinc y sal de zinc del ácido 3,5-di-ter-butilsalicílico.
21. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 11 a 15, caracterizada porque los compuestos orgánicos de aluminio se seleccionan de entre el grupo que comprende acetato de aluminio, acetilacetonato de aluminio, isopropóxido de aluminio, tri-sec-butóxido de aluminio, dietil-cloruro de aluminio, dietil-etóxido de aluminio, hidruro diisobutilo de aluminio y triisobutilo de aluminio.
22. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 11 a 15, caracterizada porque los compuestos orgánicos de boro se seleccionan de entre el grupo que comprende borato de triisopropilo, borato de tributilo, trietilborano, borato de trietilo, bromodimetil borano, trifenil borano, B-metoxi diisopino camfenil borano, DIP-cloruro, B-cloro diisopino camfenil borano, B-bromocatecol borano, 2-bromo-1,3,2-benzodioxaborole y bromo dimetil borano.
23. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 11 a 15, caracterizada porque los compuestos orgánicos de manganeso se seleccionan de entre el grupo que comprende acetato de manganeso, acetato dihidrato de manganeso, acetato tetrahidrato de manganeso, acetilacetonato de manganeso y ciclohexanobutirato de manganeso.
24. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 11 a 15, caracterizada porque los compuestos orgánicos de circonio se seleccionan de entre el grupo que comprende butóxido de circonio(IV), etóxido de circonio, propóxido de circonio, complejo de circonio(IV) isopropoxido isopropanol, acetato de circonio, acetato hidróxido de circonio, acetilacetonato de circonio (IV) y derivados de la 2,4-pentanediona de circonio (IV).
25. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones 11 a 15, caracterizada porque los compuestos orgánicos de vanadio se seleccionan de entre el grupo que comprende isopropoxido de vanadilo, acetilacetonato de vanadilo y acetilacetonato de vanadio(III).
26. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones 11 a 25, caracterizada porque dicho aglutinante polimérico presenta una resina novolac.
27. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 11 a 26, caracterizada porque además comprende un absorbente de infrarrojos capaz de absorber una radiación de infrarrojos desde 780 a 1 400 nm.
28. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 11 a 27, caracterizada porque comprende además un inhibidor de la solubilidad que es un copolímero acrílico hidroxilado o su derivado en el que algunos grupos hidroxilos se han esterificado con un ácido carboxílico o su derivado reactivo.
29. Placa litográfica de tipo positivo recubierta con una composición sensible al calor que comprende un aglutinante polimérico y un inhibidor de la solubilidad, caracterizada porque dicho inhibidor de la solubilidad es un compuesto órgano metálico, una sal orgánica o un complejo orgánico de una sal inorgánica de un metal del grupo IIIA o un metal del grupo de transición de la tabla periódica de elementos seleccionada de entre el grupo que comprende titanio IV, cromo, cobalto, manganeso, tungsteno(IV), vanadio, circonio o zinc, a condición de que el inhibidor de la solubilidad no sea un metaloceno y que la composición no comprenda un compuesto capaz de generar un ácido al ser expuesto a luz actínica.
30. Placa litográfica según la reivindicación 29, caracterizada porque el metal perteneciente al Grupo IIIA es aluminio o boro.
31. Placa litográfica según la reivindicación 29, caracterizada porque dicho compuesto órgano metálico comprende por lo menos 1 mitad orgánica seleccionada de entre el grupo que comprende unos grupos alifáticos que presentan de 1 a 10 átomos de C y los grupos cicloalifáticos que presentan de 3 a 6 átomos de C.
32. Placa litográfica según la reivindicación 31, caracterizada porque dicho grupo alifático es un grupo alquilo, alcoxilo o alquilocarboxilo que presenta de 1 a 10 átomos de C.
33. Placa litográfica según las reivindicaciones 29, 31 ó 32, caracterizada porque el compuesto orgánico de titanio(IV) se selecciona de entre el grupo que comprende isopróxido de titanio(IV), propóxido de titanio, butóxido de titanio(IV), etóxido de titanio(IV), 2-etilhexóxido de titanio(IV), metóxido de titanio(IV), bis(acetilacetonato) diisopropóxido de titanio y (trietanolaminato) de titanio(IV).
34. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 29, 31 y 32, caracterizada porque el complejo orgánico de una sal inorgánico de titanio(IV) es el complejo de tetracloruro de titanio con tetrahidrofurano o tetraclorobis (tetrahidrofurano) titanio.
35. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 29, 31 y 32, caracterizada porque el compuesto orgánico de zinc se selecciona de entre el grupo que comprende acetilacetonato de zinc, acetilacetonato hidrato de zinc, acetato de zinc, acetato dihidrato de zinc, dietilzinc, dimetilzinc, difenilzinc, dicloro (N,N,N',N')-tetrametileno-diamino zinc, bis(2,2,6,6-tetrametil-3,5-heptanodionato) de zinc, ciclohexanobutirato de zinc y sal de zinc del ácido 3,5-di-ter-butilsalicílico.
36. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 29 a 32, caracterizada porque el compuesto orgánico de aluminio se selecciona de entre el grupo que comprende acetato de aluminio, acetilacetonato de aluminio, isopropóxido de aluminio, tri-sec-butóxido de aluminio, dietil-cloruro de aluminio, dietil-etóxido de aluminio, hidruro diisobutilo de aluminio y triisobutilo de aluminio.
37. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 29 a 32, caracterizada porque el compuesto orgánico de boro se selecciona de entre el grupo que comprende borato de triisopropilo, borato de tributilo, trietilborano, borato de trietilo, bromodimetil borano, trifenil borano, B-metoxi diisopino camfenil borano, DIP-cloruro, B-cloro diisopino camfenil borano, B-bromocatecol borano, 2-bromo-1,3,2-benzodioxaborole y bromo dimetil borano.
38. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 29, 31 y 32, caracterizada porque el compuesto orgánico de manganeso se selecciona de entre el grupo que comprende acetato de manganeso, acetato dihidrato de manganeso, acetato tetra hidrato de manganeso, acetilacetonato de manganeso y ciclohexanobutirato de manganeso.
39. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 29, 31 y 32, caracterizada porque el compuesto orgánico de circonio se selecciona de entre el grupo que comprende butóxido de circonio(IV), etóxido de circonio, propóxido de circonio, complejo de circonio(IV) isopropoxido isopropanol, acetato de circonio, acetato hidróxido de circonio, acetilacetonato de circonio (IV) y derivados de la 2,4-pentanediona de circonio(IV).
40. Placa litográfica según cualquiera de las reivindicaciones anteriores 29, 31 y 32, caracterizada porque el compuesto orgánico de vanadio se selecciona de entre el grupo que comprende isopropoxido vanadilo, acetilacetonato vanadilo y acetilacetonato de vanadio(III).
41. Placa litográfica según la reivindicación 29, caracterizada porque dicho aglutinante polimérico presenta una resina novolac.
42. Placa litográfica según la reivindicación 29, caracterizada porque además comprende un absorbente de infrarrojos capaz de absorber radiación de infrarrojos desde 780 a 1.400 nm.
43. Placa litográfica según la reivindicación 29, caracterizada porque comprende además un inhibidor de la solubilidad que es un copolímero acrílico hidroxilado o su derivado en el que algunos grupos hidroxilos se han esterificado con un ácido carboxílico o un derivado reactivo del mismo.
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