EP2870642A1 - Lichtreflektierendes substrat für led-anwendungen - Google Patents

Lichtreflektierendes substrat für led-anwendungen

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Publication number
EP2870642A1
EP2870642A1 EP13734767.0A EP13734767A EP2870642A1 EP 2870642 A1 EP2870642 A1 EP 2870642A1 EP 13734767 A EP13734767 A EP 13734767A EP 2870642 A1 EP2870642 A1 EP 2870642A1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
light
ceramic substrate
reflecting layer
led
upper side
Prior art date
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Withdrawn
Application number
EP13734767.0A
Other languages
English (en)
French (fr)
Inventor
Alexander Dohn
Alfred Thimm
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Ceramtec GmbH
Original Assignee
Ceramtec GmbH
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Publication date
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Withdrawn legal-status Critical Current

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    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10HINORGANIC LIGHT-EMITTING SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING POTENTIAL BARRIERS
    • H10H20/00Individual inorganic light-emitting semiconductor devices having potential barriers, e.g. light-emitting diodes [LED]
    • H10H20/80Constructional details
    • H10H20/85Packages
    • H10H20/855Optical field-shaping means, e.g. lenses
    • H10H20/856Reflecting means
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C18/00Chemical coating by decomposition of either liquid compounds or solutions of the coating forming compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating; Contact plating
    • C23C18/54Contact plating, i.e. electroless electrochemical plating
    • HELECTRICITY
    • H10SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • H10HINORGANIC LIGHT-EMITTING SEMICONDUCTOR DEVICES HAVING POTENTIAL BARRIERS
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    • HELECTRICITY
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    • H10H20/80Constructional details
    • H10H20/85Packages
    • H10H20/857Interconnections, e.g. lead-frames, bond wires or solder balls

Definitions

  • the invention relates to a ceramic substrate having an upper side and a lower side opposite the upper side, wherein on the upper side a
  • Metallization is applied, which is electrically connected to electrical connection elements of at least one LED.
  • Alumina substrates usually have a visible light reflectance of about 85-90%. It is for LED applications
  • the invention is therefore based on the object to improve a ceramic substrate according to the preamble of claim 1 so that over time, if possible during the entire life, the reflectance is increased.
  • this object is solved by the features of claim 1. Characterized in that a light-reflecting to the LED or the LED 's back layer is disposed on the underside, the light-reflecting layer is protected from atmospheric influences and can also be additionally easily protect from atmospheric agents and so permanently retains its light-reflecting effect. The reflectance is permanently increased.
  • the light reflecting layer is a reflective metal such as silver.
  • the light-reflecting layer is made of a high-white light-reflecting non-metallic material such as magnesium oxide or titanium dioxide.
  • the substrate is made of aluminum nitride or aluminum oxide or another white ceramic.
  • the substrate is made of aluminum nitride and the light-reflecting layer is an oxide layer.
  • oxide layers are white and have a high reflectance.
  • the thermal conductivity only decreases by about 5% during the conversion.
  • An oxide layer with a thickness of 5-10 ⁇ is advantageous because it has a good adhesion and a sufficient reflectance.
  • the substrate is polished on the upper side.
  • a polish of the bottom can support the targeted reflection at an angle of 90 ° to the bottom.
  • the metallization is preferably sintered on the substrate.
  • An inventive method for producing a ceramic substrate is characterized in that the light-reflecting layer on the underside by sputtering, screen printing or a galvanic process (electroplating) is applied or the light-reflecting layer as an oxide layer by conversion of the substrate in an oxygen-containing Atmosphere at a temperature of> 500 degrees C is applied.
  • This conversation is a Reaction of AIN to AI2O3. This conversion is done before the metallization.
  • An oxide layer is also understood to mean an oxide crust.
  • the sputtering with a silver target, the screen printing with a paste which is baked after application in air at 600 - 900 ° C and the galvanic process is an electroless deposition of silver.
  • FIG. 1 shows a substrate 1 made of aluminum oxide with an applied one
  • Metallization 2 is preferably sintered to the substrate 1 and forms conductor tracks for an electrical circuit, at least contacting points for the LED 3 or LED ' s 3.
  • On the underside 5 of the substrate 1 is one to the LED 3 and to the LEDs ' 3rd towards the light-reflecting layer 6 applied.

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Abstract

Die Erfindung betrifft ein keramisches Substrat (1) mit einer Oberseite (4) und einer der Oberseite (4) gegenüberliegenden Unterseite (5), wobei auf der Oberseite (4) eine Metallisierung (2) aufgebracht ist, die mit elektrischen Anschlusselementen zumindest einer LED (3) elektrisch leitend verbunden ist. Zur dauerhaften Erhöhung der Reflexion wird erfindungsgemäß vorgeschlagen, dass auf der Unterseite (5) eine zur LED (3) bzw. zu den LED´s (3) hin lichtreflektierende Schicht (6) angeordnet ist.

Description

Lichtreflektierendes Substrat für LED-Anwendungen
Die Erfindung betrifft ein keramisches Substrat mit einer Oberseite und einer der Oberseite gegenüberliegenden Unterseite, wobei auf der Oberseite eine
Metallisierung aufgebracht ist, die mit elektrischen Anschlusselementen zumindest einer LED elektrisch leitend verbunden ist.
Substrate aus Aluminiumoxid haben üblicherweise einen Reflexionsgrad im Bereich des sichtbaren Lichts von etwa 85-90%. Für LED-Anwendungen ist es
wünschenswert, diesen Reflexionsgrad noch weiter zu erhöhen. Hierbei sind auch kleine Erhöhungen von Vorteil. Aus diesem Grund ist es bekannt, auf der Oberseite des Substrats zwischen der LED und dem Substrat, außer auf die Metallisierung, eine lichtreflektierende Schicht aufzubringen. Nachteilig hieran ist, dass diese Schicht vor atmosphärischen Einflüssen ungeschützt ist und dadurch schon nach kurzer Zeit ihre lichtreflektierende Wirkung nachlässt und auf Dauer vollkommen verschwindet.
Der Erfindung liegt daher die Aufgabe zugrunde, ein keramisches Substrat nach dem Oberbegriff des Anspruchs 1 so zu verbessern, dass auf Dauer, wenn möglich während der gesamten Lebensdauer, der Reflexionsgrad erhöht ist.
Erfindungsgemäß wird diese Aufgabe durch die Merkmale des Anspruchs 1 gelöst. Dadurch, dass auf der Unterseite eine zur LED bzw. zu den LED's hin lichtreflektierende Schicht angeordnet ist, ist die lichtreflektierende Schicht vor atmosphärischen Einflüssen geschützt bzw. lässt sich auch zusätzlich leicht vor atmosphärischen Einflüssen schützen und behält so dauerhaft ihre lichtreflektierende Wirkung. Der Reflexionsgrad ist dauerhaft erhöht. ln einer Ausführungsform besteht die lichtreflektierende Schicht aus einem spiegelnden Metall, wie Silber.
In einer alternativen Ausführungsform besteht die lichtreflektierende Schicht aus einem hochweißen lichtreflektierenden nichtmetallischen Material, wie Magnesiumoxid oder Titandioxid.
Bevorzugt besteht das Substrat aus Aluminiumnitrid oder Aluminiumoxid oder einer anderen weißen Keramik .
In einer erfindungsgemäßen Ausgestaltung besteht das Substrat aus Aluminiumnitrid und ist die lichtreflektierende Schicht eine Oxidschicht. Derartige Oxidschichten sind weiß und haben einen hohen Reflexionsgrad. Die Wärmeleitfähigkeit sinkt bei der Konversion nur um etwa 5 %.
Eine Oxidschicht mit einer Stärke von 5-10 μιτι ist vorteilhaft, weil diese eine gute Haftfähigkeit und einen ausreichenden Reflexionsgrad aufweist.
Um diffuse Reflexion zu vermeiden, wird zusätzlich vorgeschlagen, das das Substrat auf der Oberseite poliert ist. Eine Politur der Unterseite kann die gezielte Reflexion im Winkel von 90° zur Unterseite unterstützen.
Zur Ableitung der durch die LED erzeugten Wärme ist bevorzugt die Metallisierung auf dem Substrat versintert.
Ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Herstellung eines keramischen Substrats, wie oben beschrieben, ist dadurch gekennzeichnet, dass die lichtreflektierende Schicht auf der Unterseite durch Sputtern, Siebdruck oder ein galvanisches Verfahren (Galvanik) aufgebracht wird oder die lichtreflektierende Schicht als Oxidschicht durch Konversion des Substrats in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre bei einer Temperatur von > 500 Grad C aufgebracht wird. Bei dieser Konversation erfolgt eine Reaktion von AIN zu AI2O3. Diese Konversion wird vor der Metallisierung durchgeführt. Unter Oxidschicht wird auch eine Oxidkruste verstanden.
Bevorzugt erfolgt das Sputtern mit einem Silbertarget, der Siebdruck mit einer Paste, die nach dem Auftragen an Luft bei 600 - 900°C eingebrannt wird und ist das galvanische Verfahren ein stromloses Abscheiden von Silber.
Figur 1 zeigt ein Substrat 1 aus Aluminiumoxid mit einer aufgebrachten
Metallisierung 2 auf der Oberseite 4 des Substrats, mit der die Anschlusselemente einer LED 3 bzw. mehrerer LED's elektrisch leitend verbunden sind. Die
Metallisierung 2 ist bevorzugt mit dem Substrat 1 versintert und bildet Leiterbahnen für eine elektrische Schaltung, zumindest Kontaktierungsstellen für die LED 3 bzw. LED's 3. Auf der Unterseite 5 des Substrats 1 ist eine zur LED 3 bzw. zu den LED's 3 hin lichtreflektierende Schicht 6 aufgebracht.

Claims

Ansprüche
1 . Keramisches Substrat (1 ) mit einer Oberseite (4) und einer der Oberseite (4) gegenüberliegenden Unterseite (5), wobei auf der Oberseite (4) eine
Metallisierung (2) aufgebracht ist, die mit elektrischen Anschlusselementen zumindest einer LED (3) elektrisch leitend verbunden ist, dadurch gekennzeichnet, dass auf der Unterseite (5) eine zur LED (3) bzw. zu den LED's (3) hin lichtreflektierende Schicht (6) angeordnet ist.
2. Keramisches Substrat nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die lichtreflektierende Schicht (6) aus einem spiegelnden Metall, wie Silber besteht.
3. Keramisches Substrat nach Anspruch 1 , dadurch gekennzeichnet, dass die lichtreflektierende Schicht (6) aus einem hochweißen lichtreflektierenden nichtmetallischen Material, wie Magnesiumoxid oder Titandioxid besteht.
4. Keramisches Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (1 ) aus Aluminiumnitrid oder Aluminiumoxid oder einer anderen weißen Keramik besteht.
5. Keramisches Substrat nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass das Substrat (1 ) aus Aluminiumnitrid besteht und die lichtreflektierende Schicht (6) eine Oxidschicht ist.
6. Keramisches Substrat nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass die lichtreflektierende Schicht (6) bzw. die Oxidschicht eine Stärke von 5-10 μιτι hat.
7. Keramisches Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass die Oberseite des Substrats (1 ) poliert ist.
8. Keramisches Substrat nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass die Metallisierung (2) auf dem Substrat (1 ) versintert ist.
9. Verfahren zur Herstellung eines keramischen Substrats (1 ) nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, dass die lichtreflektierende Schicht (6) auf der Unterseite (5) durch Sputtern, Siebdruck oder ein galvanisches Verfahren (Galvanik) aufgebracht wird oder die lichtreflektierende Schicht (6) als Oxidschicht durch Konversion des Substrats in einer sauerstoffhaltigen Atmosphäre bei einer Temperatur von > 500 Grad C aufgebracht wird.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, dass das Sputtern mit einem Silbertarget erfolgt, der Siebdruck mit einer Paste erfolgt, die nach dem Auftragen an Luft bei 600 - 900°C eingebrannt wird und das galvanische Verfahren ein stromloses Abscheiden von Silber ist.
EP13734767.0A 2012-07-09 2013-07-08 Lichtreflektierendes substrat für led-anwendungen Withdrawn EP2870642A1 (de)

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