EP2153960A3 - Träger, Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Wafern sowie Verwendung der hergestelllten Wafer - Google Patents

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EP2153960A3
EP2153960A3 EP09010524A EP09010524A EP2153960A3 EP 2153960 A3 EP2153960 A3 EP 2153960A3 EP 09010524 A EP09010524 A EP 09010524A EP 09010524 A EP09010524 A EP 09010524A EP 2153960 A3 EP2153960 A3 EP 2153960A3
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wafer
wafers
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hanging
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Michael Peip
Till Dr. Spehr
Andreas Lesche
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Fraunhofer Gesellschaft zur Forderung der Angewandten Forschung eV
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Schott Solar AG
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    • B28—WORKING CEMENT, CLAY, OR STONE
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    • B28D5/00—Fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material; apparatus or devices therefor
    • B28D5/0058—Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material
    • B28D5/0076—Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for removing dust, e.g. by spraying liquids; for lubricating, cooling or cleaning tool or work
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B28D5/0082—Accessories specially adapted for use with machines for fine working of gems, jewels, crystals, e.g. of semiconductor material for supporting, holding, feeding, conveying or discharging work

Abstract

Die vorliegende Anmeldung betrifft einen Träger (2) zur Herstellung von Wafern (5,-5x), die aus einem am Träger (2) angeklebten Materialblock (1) geschnitten sind, wobei der Träger (2) zumindest einen Durchlass (3) zum Zuführen von Reinigungsmittel zwischen die am Träger (2) hängenden Wafer (5,-5x) aufweist. Die vorliegende Anmeldung betrifft weiterhin ein Verfahren zum Herstellen von Wafern (5,-5x), welches die folgenden Verfahrensschritte umfasst:
- Ankleben eines Materialblocks (1) an einen Träger (2);
- Schneiden des Materialblocks (1) in am Träger (2) hängende Wafer (5,-5x);
- Reinigen der am Träger (2) hängenden Wafer (5,-5x) mit einem Reinigungsmittel;

wobei das Reinigungsmittel zumindest zeitweise von oben zwischen die hängenden Wafer (5,-5x) geführt wird. Die vorliegende Anmeldung betrifft ferner eine Vorrichtung zum Herstellen von Wafern (5,-5x) mit dem oben genannten Verfahren. Weiterhin betrifft die vorliegende Anmeldung eine Verwendung der mit dem Träger (2) und/oder mit dem oben genannten Verfahren und/oder mit der oben genannten Vorrichtung hergestellten Wafer (5,-5x) als Solarzelle, als Halbleiterwafer oder als Quarzwafer.
EP09010524A 2008-08-14 2009-08-14 Träger, Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Wafern sowie Verwendung der hergestelllten Wafer Withdrawn EP2153960A3 (de)

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EP2153960A2 EP2153960A2 (de) 2010-02-17
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