EP1573401A1 - Procede et systeme de mesure pour mesurer la qualite de reproduction d'un systeme de reproduction optique - Google Patents

Procede et systeme de mesure pour mesurer la qualite de reproduction d'un systeme de reproduction optique

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EP1573401A1
EP1573401A1 EP02798349A EP02798349A EP1573401A1 EP 1573401 A1 EP1573401 A1 EP 1573401A1 EP 02798349 A EP02798349 A EP 02798349A EP 02798349 A EP02798349 A EP 02798349A EP 1573401 A1 EP1573401 A1 EP 1573401A1
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Withdrawn
Application number
EP02798349A
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German (de)
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Inventor
Ulrich Wegmann
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Carl Zeiss SMT GmbH
Original Assignee
Carl Zeiss SMT GmbH
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Publication date
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70483—Information management; Active and passive control; Testing; Wafer monitoring, e.g. pattern monitoring
    • G03F7/70591—Testing optical components
    • G03F7/706—Aberration measurement

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  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Testing Of Optical Devices Or Fibers (AREA)

Abstract

L'invention concerne un procédé pour mesurer la qualité de reproduction d'un système de reproduction optique (10), selon lequel un masque de mesure comporte une structure (20) pouvant être disposée dans la zone d'une surface d'objet d'un système de reproduction. Une structure de référence (23) adaptée à la structure du masque est en outre à associer dans le champ d'image (12) du système de reproduction. Un support d'enregistrement (24) sensible au rayonnement et à extension plane est mis en position d'enregistrement de telle sorte qu'un modèle de superposition apparaissant lors de la reproduction de la structure du masque sur la structure de référence est saisi par le support d'enregistrement. Pour évaluer le support d'enregistrement, celui-ci est sorti de la position d'enregistrement et mis dans une position d'évaluation éloignée de la première position. Le procédé de mesure de l'invention et le système de mesure associé sont particulièrement adaptés pour effectuer une mesure rapide et très précise d'objectifs de projection à l'état monté dans des installations d'éclairage de projection en microlithographie.
EP02798349A 2002-12-19 2002-12-19 Procede et systeme de mesure pour mesurer la qualite de reproduction d'un systeme de reproduction optique Withdrawn EP1573401A1 (fr)

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