EP1568490B1 - Verfahren zur direkten Gravur von Näpfchen zur Aufnahme von Druckfarbe für den Tiefdruck - Google Patents

Verfahren zur direkten Gravur von Näpfchen zur Aufnahme von Druckfarbe für den Tiefdruck Download PDF

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EP1568490B1
EP1568490B1 EP04004470A EP04004470A EP1568490B1 EP 1568490 B1 EP1568490 B1 EP 1568490B1 EP 04004470 A EP04004470 A EP 04004470A EP 04004470 A EP04004470 A EP 04004470A EP 1568490 B1 EP1568490 B1 EP 1568490B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
engraving
printing
depth
pixels
engraved
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
EP04004470A
Other languages
English (en)
French (fr)
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EP1568490A1 (de
Inventor
Siegfried Dr. Beisswenger
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hell Gravure Systems GmbH and Co KG
Original Assignee
Hell Gravure Systems GmbH and Co KG
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Filing date
Publication date
Priority to EP04004470A priority Critical patent/EP1568490B1/de
Application filed by Hell Gravure Systems GmbH and Co KG filed Critical Hell Gravure Systems GmbH and Co KG
Priority to AT04004470T priority patent/ATE369977T1/de
Priority to ES04004470T priority patent/ES2293109T3/es
Priority to DE502004004634T priority patent/DE502004004634D1/de
Priority to JP2004105735A priority patent/JP2005238812A/ja
Priority to CNB2004100350904A priority patent/CN100421932C/zh
Priority to US10/895,555 priority patent/US20050188868A1/en
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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/02—Engraving; Heads therefor
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
    • B41C1/00—Forme preparation
    • B41C1/02—Engraving; Heads therefor
    • B41C1/04—Engraving; Heads therefor using heads controlled by an electric information signal
    • B41C1/05—Heat-generating engraving heads, e.g. laser beam, electron beam

Definitions

  • the invention relates to a method for direct engraving of cups for receiving printing inks in the surface of gravure printing cylinders according to the preamble of claim 1.
  • the US-A-4 013 831 a method of producing printing forms by mechanical engraving, in which individual cups are engraved with a diamond stylus in the printing plate surface, wherein the diamond stylus is driven directly with the halftone data of the respective devisziehravierenden well to dig this deeper or less deep from the printing plate.
  • the size of the wells is directly related to the depth of the wells, since it is not possible with a diamond stylus to simultaneously engrave flat and large and small and deep wells.
  • a variant of the implementation of the information of the image to be printed on the printing cylinder in gravure printing is the so-called.
  • Laser mask exposure of a previously applied to the printing cylinder thin thermal or photosensitive mask layer followed by etching.
  • the mask is removed by means of a fine laser beam or it is exposed at the locations where one or no wells are to be etched.
  • the cleaning in the case of a thermal mask or the development and washing out in the case of a photosensitive mask is carried out on the mask surface and then the etching of the exposed elements of the copper surface then takes place.
  • the wells in the mask layer can also be applied only surface variable, i. they can vary only in the number and arrangement of the surface elements composing them. This means that a different depth variation of the individual wells is not possible because all wells are etched the same depth over the etching process.
  • a method for the production of deep and variable area gravure forms is known in which an applied to the printing plate etch resist or Kopierlack protective layer with a high energy beam, for example a laser beam or an electron beam, is wholly or partially removed over the wells to be engraved, and in which the shape of the etched after the removal of the ⁇ tzresist- or Kopierlack protective layer from the printing plate wells is controlled by over leaving at least a punctiform etch resist or copy resist protective layer member on a portion of the wells, thereby reducing the depth of etch beneath the protective layer member.
  • a high energy beam for example a laser beam or an electron beam
  • a "halftone image" (half tone image) must be generated in which the desired gray value is converted into a bit structure for the respective screen or printing mesh ( Bitmap) is implemented.
  • RIP raster image processor
  • the "rippling" as I said is not necessary because this produces the well in one go, and directly with gray values (continuous tone data, English “continuous tone data”) can be controlled.
  • the gravure based on the laser mask coating also has certain disadvantages, because in the mask, as mentioned, can be written only surface variable and the third dimension, i. the cup depth, is the same for all cup sizes and is formed by the same process, namely the etching. It has been found that this method also leads to quality limitations in the printed reproduction of the image. In addition, the repeatability of the etching is subject to restrictions and it is shown in the reproduction of halftone gradients that in particular in the range of high brightness (light) no smooth Tonwertverlauf is achieved.
  • the subsequent etching are eliminated, with a much better reproduction of halftone gradients, especially in the field of lights, is further improved, which does not limit the repeatability of the process and eliminates the many process steps required in the laser mask coating and the subsequent etching of the printing form, and otherwise preserves all the advantages of the conventional engraving process for forming the wells on the printing cylinders and that the method by means of per se in the prior art known engraving devices can be performed for these purposes.
  • the object is achieved according to the invention in that the engraving process is carried out such that at least a portion of the wells comprises a plurality of engraved pixels.
  • a fine engraving tool is guided over the entire surface of the printing form to be engraved in a regular pattern such that the cells can be formed from the predetermined number of pixels by engraving the pixels.
  • This writing grid is finer than the selected gravure grid containing the volume-variable gravure wells.
  • the gravure printing heads are engraved directly into the engraving-carrying surface of the printing cylinder.
  • the complex process steps according to the method after the laser mask exposure and the subsequent etching and cleaning are completely eliminated in the inventive method, wherein according to the invention excellent sharpness of the image to be printed with respect to the actual image and all contours is achieved.
  • the method can in principle be carried out by means of existing engraving systems for engraving printing cylinders for intaglio printing, so that the method can also be used with existing engraving devices already in use.
  • the engraving depth of the pixels is differently formable, that is, the pixel volumes and thus the cell volumes can be varied by different selected engraving depth of the individual pixels.
  • the engraving depth of the pixels may preferably be formed differently for the same extent of the surface element of the pixel, that is, according to the invention, the engraving depth of the pixel is no longer correlated with the two-dimensional extent of the surface element of the pixel. It follows that the data that drive the engraving tool used in the method according to the invention, not as in the laser mask exposure, in a so-called. "Bitmap" are encoded. Rather, it is possible according to the invention that each individual pixel should be engraved deeply in a predetermined manner.
  • the engraving depth can preferably be determined in stepped depth steps, but it is also possible in principle for the engraving depth to be defined or controlled by analogous control of the engraving tool.
  • the depth steps are resolved with either 1 to 8 bits, preferably 8 bits, so that a maximum of 255 different depths can be engraved. But it is also possible to encode the depth resolution with only 2 bits, so that, for example, four depth positions possible are like full depth, medium depth, small depth and no engraving. But there are other depth patterns than 2 bit possible.
  • the engraving width per grid mesh can also be built up step by step.
  • a well may consist of at least one pixel and to consist of a maximum of 255 pixels, that is, the pattern of pixels forming the well may increase from 1 to 255 pixels.
  • the two-dimensional surface element of the pixel is preferably variably adjustable with respect to its areal extent, the areal extent advantageously being in the range of 10 to 20 ⁇ m.
  • the size of the areal extent of the area element of the pixel i.e., the size of the area of the pixel on the surface of the printing form to be engraved, can be chosen depending on the engraving medium used for the engraving process.
  • the invention advantageously makes it possible for the engraving process to be carried out in such a way that partial cells can be formed from a predetermined number of pixels, so that in particular contours of text and images can be reproduced extremely sharply in the subsequent printing.
  • the formation of Sectionnäpfchen was previously possible only in the method according to the method of laser mask exposure in limited form or in offset printing with all the usual in these known printing method prevailing disadvantages.
  • the laser light can have any suitable cross-sectional shape per se by means of suitable lens systems and suitable diaphragm systems, so that the pixels can be suitably formed in accordance with the cross-sectional shape of the laser beam.
  • Fig. 1 In which the principle of the formation of wells in a printing cylinder using a known in the art, conventional engraving is shown. From the entire printing cylinder, for example, a small area is selected, which consists of 4 different sized wells.
  • the actual engraving agent is normally a diamond shaped like an engraving stylus.
  • This known engraving method for printing cylinders used in gravure printing is generally referred to as electromagnetic engraving and has long been known in the art, so that need not be further discussed here on the description of the control of the engraving to form the wells.
  • a specific feature of the wells produced by the electromagnetic engraving is that due to the depth of the solid geometry of the engraving stylus and the diameter, ie the extent 14, in Fig. 1 by way of example with respect to the diagonal of a cup 10, to the engraving depth 12 in a certain fixed ratio.
  • the printing form obtained by electromagnetic engraving is called semi-autotypic intaglio printing, since the cups 10 are variable in their extent 14 and in their engraving depth 12, but always in a fixed relationship to each other, the only by differently shaped engraving tools, eg. By a Different cut a diamond stylus, can be changed, but is always fixed during the actual engraving process.
  • Another specific feature of the electromechanical engraving is also that due to the thin liquid ink used in gravure full-tone contours (text and line contents) are reproduced in principle the same print grid of wells as the images (image contents), in the selected for each color print grid , As a result, a certain blurring of contours (text and line content) is achieved in gravure printing.
  • FIG. 3 shows, by way of example, a surface-variable halftone dot 20 which is formed by means of the laser mask exposure method and is formed from a plurality of pixels, said dots forming in their entirety the said cup 10. Since the laser light writing beam 19 can only say "yes” or “no” in this known method, that is, can remove or leave the mask previously applied to the printing cylinder, the thus formed well can only be applied variable in area. The engraving depth 12 is generated in common for all cups 10 together via the etching process.
  • a in a grid 17 inventively designed cup 10 is shown schematically in Fig. 4.
  • the method is carried out such that by means of the engraving process, the wells 10 by a suitable engraving, which may be an electromechanical engraving but also laser light, were formed from a predetermined number of pixels 11, ie, the actual well 10 is active in the engraving of a predetermined number of pixels 11, also called pixels.
  • a suitable engraving which may be an electromechanical engraving but also laser light
  • each cup 10 depending on the predetermined tonal values of the image to be printed, can be composed of any number of pixels 11, wherein a cup 10 consists of at least one pixel 11 and a maximum of the number of pixels 11, which are desired due to the program-related screening, for example, 255 pixels.
  • a raster mesh is resolved in 255 steps corresponding to 1 byte in gravure printing, so that the formation of the wells 10 by 255 different patterns of pixels 11 represents a meaningful number or relationship.
  • the engraving depths 12 of the centrally located pixels 11, which appear darkest, are the deepest, the pixels 11 surrounding the central region 11 are, on the other hand, less deeply formed, and the outer, surrounding pixels are formed to an even smaller depth ,
  • a predetermined fixed depth raster for example, represented by 2 bits.
  • full depth, average depth, shallow depth, and no engraving could follow bit code 11, 10, 01, and 00.
  • bit code 11 10, 01, and 00.
  • 255 pixels 11 and an engraving depth 12 (see Fig. 1) dissolved in 2 bits correspond to more than 1000 achievable values with which a well 10 can be formed according to the method.
  • this high number of more than 1000 adjustable values of the pixels 11 per well 10 represents an over-determination, but this is canceled out in printing practice because certain pixels 11 of the pixel pattern are taken back in their engraving depth 12 from an engraving and printing point of view so that a smooth expression of gradients is possible.
  • This reduction of the geometric depth in certain areas is developed experimentally or empirically and stored in a so-called "folder for cup configurations".
  • FIGS. 5a and 5b are formed in such a way that, by means of the method according to the invention, it is also possible to form partial cells 15 from a predetermined number of pixels 11. This ensures that contours 18 can be reproduced as sharply as it was previously possible only in offset printing, but with all the advantages of gravure over offset printing.
  • the extension 14 of the surface element 13 of the pixel 11, cf. 1, which represents the formation of wells 10 by means of conventional electromechanical engraving, can also be variably adjustable and can be made dependent on the actual engraving means, which can advantageously, but not necessarily, be laser light 16 (FIG. 3). If the engraving medium is used in the form of laser light 16, it is in principle possible, suitably controlled, to vary the extent 14 of the surface element 13 of the pixel 11 even during the engraving process by suitable control of the laser, whereby an engraving with yet another, controllable or influenceable degree of freedom is possible.
  • the printing density represented by a screen mesh of the engraving screen wherein the screen has, for example, a resolution of 70 lines / cm, interpolated from a halftone image with a higher resolution, eg 120 lines / cm, so that additional information is present, namely how the density is distributed approximately within a Gravurrastermasche.
  • This information can be used for targeted relocation of the entire Pattern of the pixels 11, so the composite of these cells 10, are used.

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Description

  • Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur direkten Gravur von Näpfchen zur Aufnahme von Druckfarben in der Oberfläche von für den Tiefdruck bestimmten Druckzylindern gemäß dem Oberbegriff des Anspruchs 1.
  • Im Gegensatz zum Offset-Druck, bei dem die Umsetzung aller Informationen eines zu druckenden Bildes oder Textes mittels einer Druckmaschine zwingend mittels Flächenelementen erfolgt, man spricht hier von Flächenvariabilität bzw. Autotypie, da die Offset-Platte bzw. Offset-Walze auf ihrer Oberfläche nur pasteuse Farben einheitlicher Farbschichtdicke übertragen kann, ist beim Tiefdruck aufgrund der dort verwendeten sehr flüssigen Farben die Ausbildung von Näpfchen im Druckzylinder erforderlich, wobei jedes Näpfchen beim Druck ein genau bestimmtes Farbvolumen überträgt. Beim Offset-Druck wird die gesamte Tonwertvariabilität von einer Variation der Flächen geleistet, wobei man dabei von autotypischen Druckrasterpunkten spricht. Beim Tiefdruck ist es für die Erzeugung von Halbtönen, die im Zusammenspiel 1 eines Farbpunktes mit dem ihn innerhalb der Rastermasche umgebenden Papierweiß einen bestimmten Helligkeitseindruck ausgebildet werden, nicht nötig, eine Digitalisierung von Halbtonbildern in Form von "geripten" Daten durchzuführen, weil das beim Tiefdruck verwendete Graviermittel, bspw. ein Diamant oder auch ein Lasergraviermittel, die sehr vorteilhafte Eigenschaft hat, direkt mit Grauwerten entsprechenden Daten angesteuert werden zu können.
  • Zum Beispiel offenbart die US-A-4 013 831 ein Verfahren zum Herstellen von Druckformen durch mechanische Gravur, bei dem mit einem Diamantstichel einzelne Näpfchen in die Druckformoberfläche eingraviert werden, wobei der Diamantstichel direkt mit den Halbtondaten des jeweils einzugravierenden Näpfchens angesteuert wird, um dieses tiefer oder weniger tief aus der Druckform auszuheben. Bei dem bekannten Verfahren steht jedoch die Größe der Näpfchen in direkter Beziehung zur Tiefe der Näpfchen, da es mit einem Diamantstichel nicht möglich ist, gleichzeitig flache und große sowie kleine und tiefe Näpfchen zu gravieren.
  • Aus der DE-A-21 11 628 A1 ist es weiter bei einem Verfahren zum Herstellen von Druckformen durch Lasergravur bekannt, das Volumen der in die Druckform eingravierten Näpfchen durch Veränderung der Intensitätsverteilung eines zur Gravur verwendeten Laserstrahls zu steuern. Damit können zwar die Helligkeitswerte der eingravierten Näpfchen in gewissem Maße durch die Tiefe bzw. Form der Näpfchen gesteuert werden, jedoch lässt sich die Intensitätsverteilung eines einzigen Laserstrahls nicht so verändern, dass beliebige tiefen- und flächenvariable Näpfchen in die Druckform eingraviert werden können. Zum Beispiel ermöglicht das bekannte Verfahren keine Ausbildung von Teilnäpfchen, die nur angrenzend an einen ihrer Ränder in die Druckform eingraviert sind.
  • Daher besteht ein wesentliches Problem des Tiefdrucks nach wie vor darin, daß eine scharfe Wiedergabe von Konturen noch nicht in dem Maße möglich ist, wie es eigentlich erwünscht wäre und wie es der Offset-Druck, der andere Nachteile hat, an sich ermöglicht.
  • Eine Variante der Umsetzung der Informationen des zu druckenden Bildes auf den Druckzylinder beim Tiefdruck ist die sogen. Laser-Maskenbelichtung einer zuvor auf den Druckzylinder aufgebrachten dünnen thermischen oder photosensitiven Maskenschicht mit anschließender Ätzung. Mittels eines feinen Laserstrahls wird die Maske entfernt oder sie wird an den Stellen belichtet, wo ein bzw. kein Näpfchen geätzt werden soll. Anschließend erfolgt das Reinigen bei thermischer Maske oder das Entwickeln und Auswaschen bei photosensitiver Maske der Maskenoberfläche und dann erfolgt anschließend die Ätzung der freigelegten Elemente der Kupferoberfläche.
  • Obwohl mittels der vorbeschriebenen Laser-Maskenbelichtung einschl. der Ätzung die Ausbildung schärferer Konturen bei Rändern bzw. Schriften möglich ist, muß auch bei dieser Technik die Farbe in Näpfchen eingeschlossen werden. Es können aber im Gegensatz zur elektromechanischen Gravur Teilnäpfchen ausgebildet werden, wodurch schärfere Konturen erzielt werden können, die nicht mit einem sogen. "Sägezahneffekt" bspw. diamantgravierter Schriften behaftet sind.
  • Da der Laserstrahl aber nur derart eingesetzt werden kann, daß er entweder die Maske entfernt oder stehen läßt, d.h. nur eine ja-nein-Verfahrensführung mittels des Lasers möglich ist, können die Näpfchen in der Maskenschicht ebenfalls nur flächenvariabel angelegt werden, d.h. sie können nur in der Anzahl und Anordnung der sie zusammensetzenden Flächenelemente variieren. Das bedeutet, daß eine unterschiedliche Tiefenvariation der einzelnen Näpfchen nicht möglich ist, da alle Näpfchen über den Ätzvorgang gleich tief geätzt werden.
  • Aus der WO-A - 89/12256 ist ein Verfahren zur Herstellung von tiefen- und flächenvariablen Tiefdruckformen bekannt, bei dem eine auf die Druckform aufgebrachte Ätzresist- oder Kopierlack-Schutzschicht mit einem Hochenergiestrahl, zum Beispiel einem Laserstrahl oder einem Elektronenstahl, über den zu gravierenden Näpfchen ganz oder teilweise entfernt wird, und bei dem die Form der nach der Entfernung der Ätzresist- oder Kopierlack-Schutzschicht aus der Druckform ausgeätzten Näpfchen dadurch gesteuert wird, dass man über einem Teil der Näpfchen wenigstens ein punktförmiges Ätzresist- oder Kopierlack-Schutzschichtelement zurücklässt, wodurch die Ätztiefe unterhalb des Schutzschichtelements verringert wird. Mit diesem Verfahren ist zwar eine begrenzte Tiefenvariation der Näpfchen möglich, jedoch wird diese dadurch sehr stark eingeschränkt, dass um die Schutzschichtelemente herum relativ breite umlaufende Lücken geschaffen werden müssen, damit beim anschließenden Ätzvorgang genügend Ätzflüssigkeit bis zur Druckformoberfläche gelangt, um das Material der Druckform nicht nur in den Lücken sondern auch unterhalb der Schutzschichtelemente wegzuätzen.
  • Für das Verfahren gemäß der vorbeschriebenen Laser-Maskenbelichtung ist es somit nötig, nachdem durch Scannen oder digitale Photographie eines Bildes, das gedruckt werden soll, erzeugte Halbtondaten generiert worden sind, diese Halbtondaten umzukodieren, d.h. der Grauwert (Helligkeitseindruck), den eine Rastermasche im Druck erzeugen soll und der bspw. in 255 Stufen (Δ 1 Byte) aufgelöst sein soll, muß als flächenvariabler Rasterpunkt dargestellt werden, dessen Elemente - die Bildpunkte - nur bitkodiert sind. D.h., daß es faktisch keine Halbtöne mehr gibt, sondern nur Bildpunkte (Flächenelemente), die geschrieben werden oder nicht. Kann in den Druckzylinder nur auf vorbeschriebene Weise eine ja-nein-Information geschrieben werden, so muß ein "Rasterbild" (half tone image) erzeugt werden, bei dem für die jeweilige Raster- bzw. Druckmasche der erwünschte Grauwert in eine bit-Struktur (Bit-map) umgesetzt ist.
  • Dieser Vorgang, der durch einen sog. Raster-Image-Prozessor (RIP) durchgeführt wird, wird in der Drucktechnik im engeren Sinne als "Rasterung" bezeichnet.
  • Für den Offset- und Flexodruck ist das sog. "rippen", d.h. die Umsetzung des Grauwertes in flächenvariable Rasterpunkte, immer erforderlich, was gleichermaßen auch für die Laser-Maskenbeschichtung gilt, die an sich in die Gruppe der Tiefdrucktechnik gehört. Bei der Ausbildung von Näpfchen bspw. mittels eines elektromechanischen Graviervorganges, bspw. mittels eines Diamantengravierwerkzeugs, wie es bei der Ausbildung von Näpfchen in Tiefdruckzylindern erfolgt, ist das "rippen", wie gesagt, nicht erforderlich, da dieses in einem Zug das Näpfchen erzeugt, und direkt mit Grauwerten (Halbtondaten, engl. "continuous tone data") angesteuert werden kann.
  • Auch der Tiefdruck auf der Grundlage der Laser-Maskenbeschichtung hat aber bestimmte Nachteile, denn in die Maske kann, wie erwähnt, nur flächenvariabel geschrieben werden und die dritte Dimension, d.h. die Näpfchentiefe, ist für alle Näpfchengrößen gleich und wird durch denselben Prozess, nämlich der Ätzung, ausgebildet. Es hat sich gezeigt, dass auch dieses Verfahren zu Qualitätseinschränkungen bei der gedruckten Wiedergabe des Bildes führt. Zudem unterliegt die Wiederholbarkeit der Ätzung Einschränkungen und es zeigt sich bei der Wiedergabe von Halbtonverläufen, dass insbesondere im Bereich großer Helligkeit (Licht) kein glatter Tonwertverlauf erzielt wird.
  • Es ist somit Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Tiefdruckverfahren zu schaffen, mit dem auch die Nachteile des Tiefdruckverfahrens nach der Methode der Laser-Maskenbelichtung einschl. der anschließenden Ätzung beseitigt werden, mit dem eine erheblich bessere Wiedergabe von Halbtonverläufen, insbesondere im Bereich der Lichter, noch weiter verbessert wird, das keine Beschränkungen in bezug auf die Wiederholbarkeit des Verfahrens aufweist und die vielen Verfahrensschritte, wie sie bei der Laser-Maskenbeschichtung und der anschließenden Ätzung der Druckform erforderlich sind, entfallen und ansonsten sämtliche Vorteile des konventionellen Gravierverfahrens zur Ausbildung der Näpfchen auf den Druckzylindern erhalten bleiben und dass das Verfahren mittels an sich im Stand der Technik bekannten Graviervorrichtungen für diese Zwecke durchgeführt werden kann.
  • Gelöst wird die Aufgabe gemäß der Erfindung dadurch, dass der Graviervorgang derart ausgeführt wird, dass mindestens ein Teil der Näpfchen eine Mehrzahl von gravierten Bildpunkten umfasst.
  • Mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens wird wie bei der Laser-Maskenbelichtung ein feines Gravierwerkzeug derart in einem regelmäßigen Raster über die gesamte Oberfläche der zu gravierenden Druckform geführt, dass die Näpfchen aus der vorbestimmten Zahl von Bildpunkten durch Gravur der Bildpunkte gebildet werden können. Dieses Schreibraster ist feiner als das gewählte Tiefdruckraster, das die volumenvariablen Tiefdrucknäpfchen enthält.
  • Mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens werden die Tiefdrucknäpfchen, anders als beim Verfahren gemäß der Laser-Maskenbeschichtung, wie beim Gravieren unter Zuhilfenahme der konventionellen Graviertechnik für den Tiefdruck, direkt in die gravurtragende Oberfläche des Druckzylinders graviert. Die aufwendigen Verfahrensschritte gemäß dem Verfahren nach der Laser-Maskenbelichtung und der anschließenden Ätzung und Reinigung entfallen bei dem erfindungsgemäßen Verfahren vollständig, wobei erfindungsgemäß eine ausgezeichnete Schärfe des zu druckenden Bildes in bezug auf das eigentliche Bild und alle Konturen erreicht wird. Erfindungsgemäß läßt sich das Verfahren zudem mittels bestehender Graviersysteme zur Gravur von Druckzylindern für den Tiefdruck prinzipiell ausführen, so daß das Verfahren auch bei schon im Einsatz befindlichen, bestehenden Graviervorrichtungen eingesetzt werden kann.
  • Gemäß einer vorteilhaften Ausgestaltung der Erfindung ist die Graviertiefe der Bildpunkte unterschiedlich ausbildbar, d.h., die Bildpunktevolumina und somit die Näpfchenvolumina können durch unterschiedliche gewählte Gravurtiefe der einzelnen Bildpunkte variiert werden.
  • Die Graviertiefe der Bildpunkte kann vorzugsweise bei gleicher Ausdehnung des Flächenelementes des Bildpunktes unterschiedlich ausgebildet sein, d.h., es ist erfindungsgemäß die Graviertiefe des Bildpunktes nicht mehr korreliert mit der zweidimensionalen Ausdehnung des Flächenelementes des Bildpunktes. Daraus ergibt sich, daß die Daten, die das bei dem erfindungsgemäßen Verfahren verwendete Gravierwerkzeug ansteuern, nicht, wie bei der Laser-Maskenbelichtung, in einer sog. "bitmap" kodiert sind. Vielmehr ist es erfindungsgemäß möglich, daß jeder einzelne Bildpunkt auf vorgegebene Weise tief graviert können werden soll.
  • Die Graviertiefe kann vorzugsweise in gestuften Tiefenschritten festgelegt werden, es ist aber prinzipiell auch möglich, daß die Graviertiefe durch analoge Steuerung des Gravierwerkzeugs festgelegt bzw. gesteuert wird.
  • Vorzugsweise werden die Tiefenschritte mit wahlweise 1 bis 8 bit aufgelöst, vorzugsweise 8 bit, so daß maximal 255 verschiedene Tiefen graviert werden können. Es ist aber auch möglich, die Tiefenauflösung nur mit 2 bit zu kodieren, so daß bspw. vier Tiefenstellungen möglich sind, wie volle Tiefe, mittlere Tiefe, kleine Tiefe und keine Gravur. Es sind aber auch andere Tiefenmuster als 2 bit möglich.
  • Auch die Gravierbreite pro Rastermasche ist gestuft aufbaubar. So kann es vorteilhaft sein, daß ein Näpfchen aus wenigstens einem Bildpunkt besteht und aus maximal 255 Bildpunkten bestehen kann, d.h., das Muster der Bildpunkte, die das Näpfchen bilden, kann von 1 auf 255 Bildpunkte anwachsen.
  • Auch das zweidimensionale Flächenelement des Bildpunktes ist bezüglich seiner flächigen Ausdehnung vorzugsweise variabel einstellbar, wobei die flächige Ausdehnung vorteilhafterweise im Bereich von 10 bis 20 µm liegt.
  • Die Größe der flächigen Ausdehnung des Flächenelementes des Bildpunktes, d.h., die Größe der Fläche des Bildpunktes an der Oberfläche der zu gravierenden Druckform, kann in Abhängigkeit des für den Graviervorgang verwendeten Graviermittels gewählt werden.
  • Die Erfindung macht es vorteilhafterweise möglich, daß der Graviervorgang derart ausgeführt wird, daß Teilnäpfchen aus einer vorbestimmten Zahl von Bildpunkten gebildet werden können, so daß insbesondere Konturen von Text und Bildern im anschließenden Druck extrem scharf wiedergegeben werden können. Die Ausbildung von Teilnäpfchen war bisher nur bei dem Verfahren nach der Methode der Laser-Maskenbelichtung in eingeschränkter Form möglich oder aber beim Offsetdruck mit allen üblichen bei diesen bekannten Druckverfahren vorherrschenden Nachteilen.
  • Grundsätzlich ist es möglich, als Mittel zum Ausführen der Gravur der Bildpunkte, die in ihrer Gesamtheit wieder ein Näpfchen bilden, beliebige geeignete Gravurmittel bzw. Gravurwerkzeuge zu verwenden. Dazu eignen sich vorzugsweise die klassischen elektromechanischen Graviermittel, bspw. ein sehr feines Diamantwerkzeug, vorteilhafterweise wird aber als Graviermittel Laserlicht, insbesondere gepulstes Laserlicht, verwendet. Dabei kann das Laserlicht durch geeignete Linsensysteme und geeignete Blendensysteme an sich eine beliebige geeignete Querschnittsform aufweisen, so daß die Bildpunkte entsprechend der Querschnittsform des Laserstrahls geeignet ausgebildet werden können.
  • Die Erfindung wird nun unter Bezugnahme auf die nachfolgenden schematischen Zeichnungen beispielhaft im einzelnen beschrieben. Darin zeigen:
    • Fig. 1
    vier jeweils in einer Rastermasche beispielhaft angeordnete Näpfchen unterschiedlichen Volumens, wie sie bisher nach der Methode des klassischen Gravierverfahrens von Druckzylindern für den Tiefdruck mittels einer elektromagnetischen Gravur unter Benutzung eines Diamantgravurwerkzeugs ausgebildet werden,
    Fig. 2a
    eine Mehrzahl von Rastermaschen im Bereich des Überganges von Kontur zu Bild, erzeugt durch ein Verfahren nach der Methode der Laser-Maskenbelichtung und anschließender Ätzung,
    Fig. 2b
    ein graphisches Element, aufgebaut aus einer Vielzahl von Rastermaschen,
    Fig. 3
    einen flächenvariablen Rasterpunkt (autotypischer Rasterpunkt) in einer Tiefdruckrastermasche, realisiert nach der Methode der Laser-Maskenbelichtung, und schematisch zugeordneter Bildlinie eines Laserstrahls zur Erzeugung der Bildpunkte,
    Fig. 4
    ein Beispiel einer Tiefdruck-Rastermasche gem. dem erfindungsgemäßen Verfahren erzeugt, mit einem Näpfchen, das beispielhaft aus 56 Bildpunkten zusammengesetzt ist, in unterschiedlicher Tiefe graviert,
    Fig. 5a
    eine Rastermasche am Rande einer Kontur, gem. dem erfindungsgemäßen Verfahren ausgebildet, und
    Fig. 5b
    eine Darstellung graphischen Elementes, wobei dessen Kontur aus einer Mehrzahl von entsprechend ausgebildeten Rastermaschen gem. Fig. 5a im Randbereich zusammengesetzt ist.
  • Zum besseren Verständnis des erfindungsgemäßen Verfahrens wird zunächst auf Fig. 1 Bezug genommen, in der das Prinzip der Ausbildung von Näpfchen in einem Druckzylinder anhand eines im Stand der Technik bekannten, konventionellen Gravierverfahrens dargestellt ist. Aus dem gesamten Druckzylinder ist beispielhaft ein kleiner Bereich ausgewählt, der aus 4 unterschiedlich großen Näpfchen besteht. Das eigentliche Graviermittel ist dabei normalerweise ein als Gravierstichel entsprechend geformter Diamant. Dieses bekannte Gravierverfahren für beim Tiefdruck verwendete Druckzylinder wird allgemein mit elektromagnetischer Gravur bezeichnet und ist der Fachwelt seit langem bekannt, so daß auf die Beschreibung der Steuerung des Graviermittels zur Ausbildung der Näpfchen hier nicht weiter eingegangen zu werden braucht.
  • Ein Spezifikum der mittels der elektromagnetischen Gravur hergestellten Näpfchen besteht darin, daß aufgrund der festen Geometrie des Gravierstichels die Tiefe und der Durchmesser, d.h. die Ausdehnung 14, in Fig. 1 beispielhaft bezogen auf die Diagonale eines Näpfchens 10, zur Graviertiefe 12 in einem bestimmten festen Verhältnis stehen. Die durch elektromagnetische Gravur erzielte Druckform wird halb-autotypischer Tiefdruck genannt, da die Näpfchen 10 in ihrer Ausdehnung 14 und in ihrer Graviertiefe 12 zwar variabel sind, aber immer in einem festen Verhältnis zueinander stehen, das nur durch unterschiedlich ausgebildete Gravierwerkzeuge, bspw. durch einen unterschiedlichen Schliff eines Diamantstichels, verändert werden kann, während des eigentlichen Graviervorganges aber immer fest ist.
  • Ein weiteres Spezifikum der elektromechanischen Gravur ist zudem, daß aufgrund der beim Tiefdruck verwendeten dünnflüssigen Druckfarbe volltonige Konturen (Text- und Strichinhalte) in prinzipiell gleichem Druckraster aus Näpfchen wie die Bilder (Bildinhalte) wiedergegeben werden, und zwar in dem für die jeweilige Farbe gewählten Druckraster. Dadurch kommt beim Tiefdruck eine gewisse Unschärfe für Konturen (Text- und Strichinhalte) zustande.
  • Bei der Ausbildung von Näpfchen auf für den Tiefdruck bestimmten Druckzylindern nach der Methode der Laser-Maskenbelichtung und der anschließenden Ätzung, diese Methode bzw. dieses Verfahren ist der Fachwelt ebenfalls seit langem bekannt, ist es möglich, vgl. die Fig. 2a und 2b, im Gegensatz zur elektromechanischen Gravur, Teilnäpfchen 15 auszubilden, was sowohl für den Bereich der Kontur 18 als auch für das Bild gilt. Bei der Methode der Laser-Maskenbelichtung und anschließender Ätzung werden schärfere Konturen 18 gegenüber den mit der elektromechanischen Gravur von Näpfchen 10 erzielten Konturen 18 erreicht, die nicht mit dem relativ stark in Erscheinung tretenden "Sägezahneffekt" bspw. mittels Diamantsticheln gravierten Konturen 18 (Text- und Strichinhalte) behaftet sind.
  • Fig. 3 zeigt beispielhaft einen mittels der Methode der Laser-Maskenbelichtung ausgebildeten, aus einer Mehrzahl von Bildpunkten ausgebildeten flächenvariablen Rasterpunkt 20, die in ihrer Gesamtheit das besagte Näpfchen 10 bilden. Da der Laserlicht-Schreibstrahl 19 bei dieser bekannten Methode nur "ja" oder "nein" sagen kann, d.h., die zuvor auf den Druckzylinder aufgebrachte Maske entfernen oder stehenlassen kann, kann somit das derart ausgebildete Näpfchen nur flächenvariabel angelegt sein. Die Graviertiefe 12 wird für alle Näpfchen 10 gemeinsam über den Ätzvorgang gleichtief erzeugt.
  • Ein in einer Rastermasche 17 erfindungsgemäß ausgebildetes Näpfchen 10 ist in Fig. 4 schematisch dargestellt. Dabei wird das Verfahren derart ausgeführt, daß mittels des Graviervorganges die Näpfchen 10 durch ein geeignetes Graviermittel, das ein elektromechanisches Graviermittel aber auch Laserlicht sein kann, aus einer vorbestimmten Zahl von Bildpunkten 11 gebildet wurden, d.h., das eigentliche Näpfchen 10 wird aktiv beim Graviervorgang aus einer vorbestimmten Zahl von Bildpunkten 11, auch Pixel genannt, gebildet.
  • Das Verfahren kann so geführt werden, daß jedes Näpfchen 10, je nach den vorgegebenen Tonwerten des zu druckenden Bildes, aus einer beliebigen Anzahl von Bildpunkten 11 zusammengesetzt werden kann, wobei ein Näpfchen 10 wenigstens aus einem Bildpunkt 11 besteht und maximal aus der Zahl von Bildpunkten 11, die aufgrund der programmbedingten Rasterung gewünscht werden, bspw. 255 Bildpunkten.
  • Vielfach wird in der Tiefdrucktechnik eine Rastermasche in 255 Schritte entsprechend 1 Byte aufgelöst, so daß die Ausbildung der Näpfchen 10 durch 255 verschiedene Muster von Bildpunkten 11 eine sinnvolle Zahl bzw. Beziehung darstellt.
  • Wie aus Fig. 4 ersichtlich, sind die Graviertiefen 12 der zentral angeordneten Bildpunkte 11, die am dunkelsten erscheinen, am tiefsten, die den zentralen Bereich umgebenden Bildpunkte 11 sind demgegenüber weniger tief ausgebildet und die äußeren, umrandenden Bildpunkte sind in einer noch geringeren Tiefe ausgebildet, hier bspw. in Form eines vorgegebenen festen Tiefenrasters ausgebildet, bspw. repräsentiert durch 2 bit. So könnte bspw. die volle Tiefe, die mittlere Tiefe, die geringe Tiefe und keine Gravur dem Bit-Code 11, 10, 01 und 00 folgen. Es sei aber darauf hingewiesen, daß auch vorzugsweise feinere Tiefenstufen als mit 2 bit realisierbar ausgeführt werden können, so z.B. eine 8 bit tiefe Tiefenstufung.
  • Bei dem voraufgeführten Beispiel der Verfahrensführung entsprechen 255 Bildpunkte 11 und einer in 2 bit aufgelösten Graviertiefe 12 (vgl. Fig. 1) mehr als 1000 erreichbaren Werten, mit denen ein Näpfchen 10 gemäß dem Verfahren ausgebildet werden kann.
  • Im Prinzip stellt diese hohe Zahl von mehr als 1000 einstellbaren Werten der Bildpunkte 11 pro Näpfchen 10 eine Überbestimmung dar, die aber in der Druckpraxis dadurch wieder aufgehoben wird, da aus gravier- und drucktechnischer Sicht bestimmte Bildpunkte 11 des Bildpunktmusters in ihrer Graviertiefe 12 zurückgenommen werden, damit ein glatter Ausdruck von Verläufen möglich ist. Diese Rücknahme der geometrischen Tiefe in bestimmten Bereichen wird experimentell bzw. empirisch erarbeitet und in einer sog. "Mappe für Näpfchenkonfigurationen" gespeichert.
  • Wie schon angedeutet, kann mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens insbesondere der Bereich der Kontur 18, vgl. die Fig. 5a und 5b, derart ausgebildet werden, daß dort mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens auch Teilnäpfchen 15 aus einer vorbestimmten Zahl von Bildpunkten 11 gebildet werden können. Dadurch wird erreicht, daß auch Konturen 18 so scharf wiedergegeben werden können, wie es bisher nur beim Offsetdruck möglich war, jedoch mit allen Vorteilen des Tiefdrucks gegenüber dem Offsetdruck.
  • Die Ausdehnung 14 des Flächenelementes 13 des Bildpunktes 11, vgl. auch dazu Fig. 1, die die Ausbildung von Näpfchen 10 mittels konventioneller elektromechanischer Gravur darstellt, kann auch variabel einstellbar sein und kann vom eigentlichen Graviermittel abhängig gemacht werden, das vorteilhafterweise, aber nicht zwingend, Laserlicht 16 (Fig. 3) sein kann. Wenn das Graviermittel in Form von Laserlicht 16 verwendet wird, ist es prinzipiell möglich, geeignet gesteuert, die Ausdehnung 14 des Flächenelementes 13 des Bildpunktes 11 sogar während des Graviervorganges durch geeignete Steuerung des Lasers zu variieren, wodurch eine Gravur mit einem noch weiteren, steuer- bzw. beeinflußbaren Freiheitsgrad möglich ist.
  • In der Praxis wird die durch eine Rastermasche des Gravurrasters repräsentierte Druckdichte, wobei das Raster bspw. eine Auflösung von 70 Linien/cm hat, aus einem Halbtonbild mit einer höheren Auflösung, z.B. mit 120 Linien/cm, interpoliert, so daß noch eine zusätzliche Information vorliegt, nämlich wie die Dichte innerhalb einer Gravurrastermasche in etwa verteilt ist. Diese Information kann zur gezielten Verlagerung des gesamten
    Musters der Bildpunkte 11, also des aus diesen zusammengesetzten Näpfchen 10, genutzt werden.
  • Bei Druckvorlagen, wo die Bilddaten nicht hochaufgelöst vorliegen, bspw. nicht mit 1000 Linien/cm, sondern lediglich mit 120 Linien/cm, wird mittels des erfindungsgemäßen Verfahrens eine sehr große Verbesserung der Schärfe des Tiefdrucks insbesondere im Konturenbereich erreicht.
  • Es können somit alle in den Bilddaten enthaltenen Parameter für den Gravurvorgang erfindungsgemäß genutzt werden.
    • Bezugszeichenliste
    • 10
    Näpfchen
    11
    Bildpunkt (Pixel)
    12
    Graviertiefe
    13
    Flächenelement des Bildpunktes
    14
    Ausdehnung des Flächenelementes
    15
    Teilnäpfchen
    16
    Laserlicht
    17
    Rastermasche
    18
    Kontur
    19
    Laserlicht/Schreibstrahl
    20
    flächenvariabler Rasterpunkt

Claims (12)

  1. Verfahren zur direkten Gravur von Näpfchen (10) zur Aufnahme von Druckfarbe in der Oberfläche von für den Tiefdruck bestimmten Druckzylindern, wobei der Graviervorgang derart ausgeführt wird, dass die Näpfchen (10) aus einer vorbestimmten Zahl von gravierten Bildpunkten (11) gebildet werden, dadurch gekennzeichnet, dass mindestens ein Teil der Näpfchen (10) eine Mehrzahl von einzeln gravierten Bildpunkten (11) umfasst.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Graviertiefe (12) der Bildpunkte (11) unterschiedlich ausbildbar ist.
  3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Graviertiefe (12) der Bildpunkte (11) bei gleicher Ausdehnung (14) des Flächenelementes (15) des Bildpunktes (13) unterschiedlich ausbildbar ist.
  4. Verfahren nach einem oder beiden der Ansprüche 2 oder 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Graviertiefe (12) in gestuften Tiefenschritten festgelegt wird.
  5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, dass die Tiefenschritte in einem Bitmuster von wahlweise 1 bis 8 bit liegen.
  6. Verfahren nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, dass das Bitmuster 2 bit beträgt.
  7. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, dass ein Näpfchen (10) aus maximal 255 Bildpunkten (11) besteht.
  8. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, dass das Flächenelement (13) des Bildpunktes (11) bezüglich seiner flächigen Ausdehnung (14) variabel einstellbar ist.
  9. Verfahren nach Anspruch 8, dadurch gekennzeichnet, dass die flächige Ausdehnung (14) im Bereich von 10 bis 20 µm liegt.
  10. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, dass der Graviervorgang derart ausgeführt wird, dass Teilnäpfchen (15) aus einer vorbestimmten Zahl von Bildpunkten (11) gebildet werden.
  11. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Mittel zum Ausführen der Gravur der Bildpunkte (11) durch ein elektromechanisches Graviermittel gebildet wird.
  12. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 10, dadurch gekennzeichnet, dass das Mittel zum Ausführen der Gravur der Bildpunkte (11) durch Laserlicht (16) gebildet wird.
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CNB2004100350904A CN100421932C (zh) 2004-02-27 2004-04-23 直接雕刻容纳凹版印刷油墨的小凹槽的方法
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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008035203A1 (de) * 2008-07-28 2010-02-11 Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V. Verfahren zur Herstellung einer rotativen Druckform zum Einsatz in einem Rollenrotationsdruckverfahren
WO2012119704A1 (de) 2011-03-09 2012-09-13 Hell Gravure Systems Gmbh & Co. Kg Verfahren und vorrichtung zur bearbeitung eines zylinders, insbesondere eines druck- oder prägezylinders
WO2012139721A1 (de) 2011-04-14 2012-10-18 Hell Gravure Systems Gmbh & Co. Kg Verfahren zur bearbeitung eines werkstücks mit einem laserstrahl
CN111016476A (zh) * 2019-12-08 2020-04-17 南京林业大学 实地凹版抱枕形网穴结构的油墨用量预测方法
CN111016475A (zh) * 2019-12-08 2020-04-17 南京林业大学 实地凹版六边形网穴结构的油墨用量预测方法
CN111016474A (zh) * 2019-12-08 2020-04-17 南京林业大学 实地凹版方形网穴结构的油墨用量预测方法
CN111098616A (zh) * 2019-12-08 2020-05-05 南京林业大学 实地凹版菱形网穴结构的油墨用量预测方法

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19840926B4 (de) * 1998-09-08 2013-07-11 Hell Gravure Systems Gmbh & Co. Kg Anordnung zur Materialbearbeitung mittels Laserstrahlen und deren Verwendung
DE502006001300D1 (de) * 2005-05-03 2008-09-25 Merck Patent Gmbh Verwendung von lasergravierten Druckformen
ATE555902T1 (de) * 2007-06-20 2012-05-15 Hell Gravure Systems Gmbh & Co Kg Verfahren und vorrichtung zur bebilderung einer tiefdruckform
DE102007029099A1 (de) * 2007-06-21 2008-12-24 Hell Gravure Systems Gmbh & Co. Kg Verfahren und Vorrichtung zur Bebilderung einer Tiefdruckform und so bebilderte Tiefdruckform
EP2305464A1 (de) * 2009-09-30 2011-04-06 Ernst-Rudolf Dr. Weidlich Verfahren zum Gravieren einer Oberfläche, einer Oberfläche einer Druckform für den Tiefdruck sowie eine nach den Verfahren hergestellte Oberfläche
CL2010000884A1 (es) 2010-08-19 2011-02-18 Andres Bienzobas Saffie Fernando Metodo de impresion en dos dimensiones en un soporte de impresion en tres dimensiones, que comprende proveer un soporte de impresion, rellenar unos medios de soporte del soporte de impresion con un medio colorante, esperar que el medio colorante se seque, y cortar transversalmente de manera paralela la cara de impresion en una pluralidad de lonjas; y un bloque de impresion.
CN104050845A (zh) * 2014-01-21 2014-09-17 刘卓韬 一种快速练写好汉字毛笔笔画教具及制造方法
CN104943339B (zh) * 2015-06-04 2018-01-12 上海希尔彩印制版有限公司 一种电子雕刻凹版上胶方法
KR102629696B1 (ko) * 2023-07-27 2024-01-29 대호기업 주식회사 그라비아 인쇄용 실린더 제조방법

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2149487A (en) * 1934-05-15 1939-03-07 Myron C Zilberman Half-tone engraving and apparatus for and method of making the same
DE2111628A1 (de) * 1971-03-11 1972-09-14 Gruner & Jahr Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von Druckformen,insbesondere Tiefdruckformen
SE430968B (sv) * 1975-03-11 1983-12-27 Hell Rudolf Dr Ing Gmbh Forfarande och anordning for gravyr av rastertryckformar for djuptryck
US4187107A (en) * 1975-10-21 1980-02-05 Toppan Printing Co., Ltd. Making gravure plate with tint screen
WO1989012256A1 (en) * 1988-06-03 1989-12-14 Peter Markus Franc Process for making gravure formes of variable depth or variable depth and area
US5691818A (en) * 1993-02-25 1997-11-25 Ohio Electronic Engravers, Inc. System and method for enhancing edges and the like for engraving
US5663803A (en) * 1993-02-25 1997-09-02 Ohio Electronic Engravers, Inc. Engraving method and apparatus for engraving areas using a shaping signal
DE19710005A1 (de) * 1997-03-12 1998-09-17 Heidelberger Druckmasch Ag Verfahren und Einrichtung zur Gravur von Druckzylindern
US6048446A (en) * 1997-10-24 2000-04-11 R.R. Donnelley & Sons Company Methods and apparatuses for engraving gravure cylinders
DE19805179B4 (de) * 1998-02-10 2005-03-10 Hell Gravure Systems Gmbh Verfahren zur Gravur von Druckformen
US6731405B2 (en) * 1999-05-14 2004-05-04 Artwork Systems Printing plates containing ink cells in both solid and halftone areas
EP1369230A1 (de) * 2002-06-05 2003-12-10 Kba-Giori S.A. Verfahren zur Herstellung einer gravierten Platt

Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE102008035203A1 (de) * 2008-07-28 2010-02-11 Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V. Verfahren zur Herstellung einer rotativen Druckform zum Einsatz in einem Rollenrotationsdruckverfahren
DE102008035203B4 (de) * 2008-07-28 2011-01-27 Leibniz-Institut für Oberflächenmodifizierung e.V. Verfahren zum Löschen und Neubebildern eines Druckzylinders
WO2012119704A1 (de) 2011-03-09 2012-09-13 Hell Gravure Systems Gmbh & Co. Kg Verfahren und vorrichtung zur bearbeitung eines zylinders, insbesondere eines druck- oder prägezylinders
WO2012139721A1 (de) 2011-04-14 2012-10-18 Hell Gravure Systems Gmbh & Co. Kg Verfahren zur bearbeitung eines werkstücks mit einem laserstrahl
DE102011017080A1 (de) 2011-04-14 2012-10-18 Hell Gravure Systems Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Bearbeitung eines Werkstücks mit Laserstrahl
DE102011017080B4 (de) * 2011-04-14 2016-02-18 Hell Gravure Systems Gmbh & Co. Kg Verfahren zur Bearbeitung eines Werkstücks mit Laserstrahl
CN111016476A (zh) * 2019-12-08 2020-04-17 南京林业大学 实地凹版抱枕形网穴结构的油墨用量预测方法
CN111016475A (zh) * 2019-12-08 2020-04-17 南京林业大学 实地凹版六边形网穴结构的油墨用量预测方法
CN111016474A (zh) * 2019-12-08 2020-04-17 南京林业大学 实地凹版方形网穴结构的油墨用量预测方法
CN111098616A (zh) * 2019-12-08 2020-05-05 南京林业大学 实地凹版菱形网穴结构的油墨用量预测方法
CN111016476B (zh) * 2019-12-08 2021-06-15 南京林业大学 实地凹版抱枕形网穴结构的油墨用量预测方法

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