EP0930835B1 - Procede d'enchassement de pierres dans la surface d'un bijou realise par electroformage et bijou ainsi obtenu - Google Patents

Procede d'enchassement de pierres dans la surface d'un bijou realise par electroformage et bijou ainsi obtenu Download PDF

Info

Publication number
EP0930835B1
EP0930835B1 EP97944943A EP97944943A EP0930835B1 EP 0930835 B1 EP0930835 B1 EP 0930835B1 EP 97944943 A EP97944943 A EP 97944943A EP 97944943 A EP97944943 A EP 97944943A EP 0930835 B1 EP0930835 B1 EP 0930835B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
jewel
stones
stone
base
layer
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
EP97944943A
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
EP0930835A1 (fr
Inventor
William Pierre
Michel Charrier
Daniel Grellier
Christian Manuel
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Pgcm Conception
Original Assignee
Pgcm Conception
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Pgcm Conception filed Critical Pgcm Conception
Publication of EP0930835A1 publication Critical patent/EP0930835A1/fr
Application granted granted Critical
Publication of EP0930835B1 publication Critical patent/EP0930835B1/fr
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • A—HUMAN NECESSITIES
    • A44—HABERDASHERY; JEWELLERY
    • A44C—PERSONAL ADORNMENTS, e.g. JEWELLERY; COINS
    • A44C17/00—Gems or the like
    • A44C17/04—Setting gems in jewellery; Setting-tools
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D1/00—Electroforming
    • C25D1/02—Tubes; Rings; Hollow bodies
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00—Metal working
    • Y10T29/23—Gem and jewel setting
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T29/00—Metal working
    • Y10T29/49—Method of mechanical manufacture
    • Y10T29/49826—Assembling or joining
    • Y10T29/49863—Assembling or joining with prestressing of part
    • Y10T29/49876—Assembling or joining with prestressing of part by snap fit

Definitions

  • the present invention relates to the production of pieces of jewelry by electroforming and more particularly with the embedding of stones precious, semi-precious or synthetic in the surface of a jewel metallic, especially gold.
  • a solid tin alloy base with outwardly shaped and dimensions to the thickness near the gold layer which will be electro-deposited from the Creole to obtain.
  • the base is then coated by electro-deposition with a very thin layer of copper to separate the gold layer from the tin and then layer of gold that can vary between 120 and 450 micrometers compared to weight of the desired jewel.
  • the process for depositing gold is as follows. On the layer of copper and before placing the stones, we deposit a fine layer of gold, for example fifteen micrometers. The stones are then placed in the receiving housings. A new layer of gold is deposited, of a thickness for example between 100 and 400 micrometers, followed by a protective layer of copper.
  • the tin base is extracted thermally, then the copper, by chemical treatment.
  • a hollow creole is thus obtained with the stones trapped in the surface, whose shapes and reliefs are determined by those of the base that gold married by depositing in a thin layer.
  • the present invention aims precisely to allow imprisonment solidly the stones and without substantial increase in thickness and therefore the weight of the wall of the jewel.
  • the subject of the invention is a method of embedding stones in the surface of a jewel made by electroforming, in which realizes a base presenting externally the shapes and dimensions to the thickness near the layer of gold forming the wall of the jewel to be obtained and fitted housing for receiving stones, deposit on the base, before setting place stones, a protective layer, then a thin layer of gold, we place the stones in said housing, then place a second thicker layer of gold, and finally extracting or removing said base and said protective layer, characterized in that during the production of the base, at at least one passage is provided at the right of each dwelling, likely to communicate, once the stone in place, the space between it and the bottom of its housing with the outside, so as to allow the bath to deposit of said second layer of gold to access said space.
  • the invention also relates to the jewelry obtained in accordance to the above process.
  • FIGs 1 to 3 there is shown by way of example a base traditional 1, for example of tin alloy, for the production of a part of hollow jewelry of generally parallelepiped shape having a pattern of flower with four petals 2 surrounding a circular central zone 3 intended for receive for example a semi-precious stone 4 (figure 6) in the form traditional diamond.
  • a well 5 intended to serve as housing for stone 4.
  • the housing 5 In order to receive the stone belt 4, the housing 5 is provided with recesses 6, in the known manner. Light elevations 7 intended to represent the petals 2 are provided on the surface of the base, the ends of which facing the well 5 have, in accordance with the invention, a nose 8 slightly recessed r (FIG. 2) from the internal wall from the well 5 and projecting above said recesses 6.
  • the elevations 7 are at a distance from each other and separate two by two by channels 9 which extend radially from the well 5.
  • the first steps in the electrodeposition process are conventional. They consist in depositing beforehand on base 1 a protective metal layer 10 (FIG. 4), typically copper, on a thickness of 5 micrometers for example, over the entire surface of the based.
  • a protective metal layer 10 typically copper
  • the two deposited layers being of regular thickness, we find the slight shrinkage r between the wall of the well 5 and the nose 8 of the elevations 7.
  • the stone 4 is thus kept away from the bottom of the well 5. It is note in this connection that in this position, the bottoms of channels 9 emerge into well 5 well below the level of the waist the stone 4.
  • a second layer of gold 12 of thickness significantly greater than that of the first 10, for example between 120 and 430 micrometers.
  • the deposit bath accesses easily in the space between the stone and the bottom of the housing 5 to deposit the same layer 12, the front of which comes in 13 in contact with the back side of stone 4, while the front of layer 12 visible in outside of the housing 5 comes in 14 in contact with the table crown of the Pierre.
  • the final stages are conventional and consist in extracting by heat treatment the base and chemically remove the copper layer 10, a second protective copper layer (not shown in the drawings) can be, before the above treatments, deposited over the gold layer 12.
  • the final object obtained is a hollow jewel, the part of which bears the stone 4 is shown enlarged in Figure 9.
  • the table 15 of the stone can be at the level of the ends in look of the petals 2 of the decorative pattern or at a different level.
  • the invention is obviously not limited to the embodiment shown and described above, but on the contrary covers all variants in particular with regard to the nature, shape and dimensions of the jewel, the number of stones 4, their shape, the shapes and dimensions of the receiving housings, number, shape, arrangement of channel (s) 9 or the like intended to convey the gold deposit bath under the stones in place in their housing, as well as the shape, dimensions and distribution of parts such as the noses 8 of the elevations 7, decorative or not, intended to allow engagement by clipping of the stones in their housing, before depositing the second layer of gold, or other metal or precious alloy.

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Electrochemistry (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Adornments (AREA)

Description

La présente invention se rapporte à la réalisation de pièces de bijouterie par électroformage et plus particulièrement à l'enchâssement de pierres précieuses, semi-précieuses ou synthétiques dans la surface d'un bijou métallique notamment en or.
Le principe de réalisation par électroformage de pièces de bijouterie telles que par exemple créoles, boucles d'oreilles, pendentifs, croix, bracelets, colliers, bagues, chevalières, broches, etc... est bien connu.
Il consiste à reproduire un objet par voie électrolytique à partir d'une maquette conçue avec exactitude avec l'emplacement des pierres qui doivent être emprisonnées en surface dans des logements prévus à cet effet.
Par exemple, classiquement, pour réaliser une créole, on prépare une base pleine en alliage d'étain présentant extérieurement les formes et dimensions à l'épaisseur près de la couche d'or qui sera électro-déposée de la créole à obtenir. La base est ensuite revêtue par électro-déposition d'une très fine couche de cuivre en vue de séparer la couche d'or de l'étain puis d'une couche d'or pouvant varier entre 120 et 450 micromètres par rapport au poids du bijou désiré.
Le processus de dépôt de l'or s'opère de la manière suivante. Sur la couche de cuivre et avant mise en place des pierres, on dépose une fine couche d'or, par exemple une quinzaine de micromètres. Les pierres sont ensuite mises en place dans les logements récepteurs. Une nouvelle couche d'or est déposée, d'une épaisseur par exemple entre 100 et 400 micromètres, suivie d'une couche protectrice de cuivre.
Ensuite, la base en étain est extraite thermiquement, puis le cuivre, par traitement chimique.
On obtient ainsi une créole creuse avec les pierres emprisonnées dans la surface, dont les formes et reliefs sont déterminés par ceux de la base que l'or a épousé en se déposant en couche mince.
Du fait de la faible épaisseur de la couche d'or formant la paroi de la créole qui varie entre 120 et 450 micromètres, il est quasiment impossible d'effectuer un empierrage par serti traditionnel car la matière manque pour effectuer cette opération.
Par ailleurs, on pourrait envisager de retenir prisonnières les pierres par la seule couche d'or déposée après mise en place des pierres, mais pour avoir un enchâssement solide cela conduirait à déposer une couche d'or d'épaisseur trop importante, la face des pierres tournées vers l'intérieur des logements n'étant pas l'objet d'un enchâssement complémentaire de celui de la face visible car le bain déposeur n'a pas accès auxdits logements.
La présente invention vise précisément à permettre d'emprisonner solidement les pierres et sans accroissement substantiel de l'épaisseur et donc du poids de la paroi du bijou.
A cet effet, l'invention a pour objet, un procédé d'enchâssement de pierres dans la surface d'un bijou réalisé par électroformage, dans lequel on réalise une base présentant extérieurement les formes et dimensions à l'épaisseur près de la couche d'or formant la paroi du bijou à obtenir et munie de logements de réception des pierres, on dépose sur la base, avant mise en place des pierres, une couche protectrice, puis une mince couche d'or, on met en place les pierres dans lesdits logements, puis on dépose une seconde couche d'or, plus épaisse, et, enfin, on extrait ou enlève ladite base et ladite couche protectrice, caractérisé en ce que lors de la réalisation de la base, au moins un passage est ménagé au droit de chaque logement, susceptible de faire communiquer, une fois la pierre en place, l'espace entre cette dernière et le fond de son logement avec l'extérieur, en sorte de permettre au bain de dépôt de ladite seconde couche d'or d'accéder audit espace.
Il est ainsi possible de réaliser un véritable enchâssement de chaque pierre dans son logement. En effet, de part et d'autre du plan défini par la zone de contact physique entre la pierre et son logement, c'est à dire aussi bien extérieurement, côté face visible de la pierre, que du côté opposé, c'est à dire le fond du logement récepteur, la pierre est étroitement emprisonnée entre deux fronts de la seconde couche d'or dont l'épaisseur, au moins 120 micromètres, très sensiblement supérieure à celle de la première couche, assure une retenue solide, la paroi du bijou, y compris au niveau des logements des pierres, ayant une même épaisseur conférant au bijou une bonne tenue mécanique.
L'invention a également pour objet les bijoux obtenus conformément au procédé ci-dessus.
D'autres caractéristiques et avantages du procédé de l'invention ressortiront de la description qui va suivre d'un mode de mise en oeuvre, description donnée à titre d'exemple uniquement et en regard des dessins annexés sur lesquels :
  • Figure 1 est une vue de dessus d'une base pour la réalisation d'une pièce creuse selon le procédé de l'invention ;
  • Figure 2 est une vue en coupe suivant la ligne Il-Il de la base de la figure 1 ;
  • Figure 3 est une vue en coupe suivant la ligne III-III de la base de la figure 1 ;
  • Figure 4 représente la base de la figure 2 après dépôt d'une couche protectrice de cuivre ;
  • Figure 5 représente la base de la figure 4 après dépôt de la première couche d'or ;
  • Figure 6 représente la base de la figure 5 munie d'une pierre ;
  • Figure 7 est une vue de dessus de la base de la figure 6 ;
  • Figure 8 représente la base de la figure 6 après dépôt de la seconde couche d'or, et
  • Figure 9 est une vue agrandie illustrant l'enchâssement de la pierre de la figure 8.
Sur les figures 1 à 3, on a représenté à titre d'exemple une base traditionnelle 1, par exemple en alliage d'étain, pour la réalisation d'une pièce de bijouterie creuse de forme générale parallélépipédique présentant un motif de fleur à quatre pétales 2 entourant une zone centrale circulaire 3 destinée à recevoir par exemple une pierre semi-précieuse 4 (figure 6) en forme traditionnelle de diamant.
A cet effet, sur la face supérieure de la base 1 est réalisé un puits 5 destiné à servir de logement à la pierre 4.
Afin de recevoir la ceinture de la pierre 4, le logement 5 est muni de creux 6, à la manière connue. De légers rehaussements 7 destinés à figurer les pétales 2 sont ménagés à la surface de la base, dont les extrémités en regard du puits 5 présentent, conformément à l'invention, un nez 8 légèrement en retrait r (figure 2) de la paroi interne du puits 5 et en saillie au dessus desdits creux 6.
Les rehaussements 7 sont à distance les uns des autres et séparés deux à deux par des canaux 9 qui s'étendent radialement depuis le puits 5.
Les premières étapes du processus d'électro-déposition sont conventionnelles. Elles consistent à déposer au préalable sur la base 1 une couche métallique protectrice 10 (figure 4), typiquement du cuivre, sur une épaisseur de 5 micromètres par exemple, sur la totalité de la surface de la base.
Ensuite, est déposée une mince couche d'or 11 (figure 5) d'une épaisseur d'une quinzaine de micromètres par exemple.
Les deux couches déposées étant d'épaisseur régulière, on retrouve le léger retrait r entre la paroi du puits 5 et le nez 8 des rehaussements 7.
On met en place ensuite la pierre 4 dans le logement 5 (figure 6). A cet effet, et conformément à l'invention, on force légèrement sur la pierre pour l'engager dans le logement, la ceinture de la pierre ayant un diamètre légèrement supérieur à l'espacement entre les nez 8, la pierre étant ainsi insérée par clipsage, la ceinture étant reçue dans les creux 6.
La pierre 4 est ainsi maintenue à distance du fond du puits 5. Il est à noter à ce propos que dans cette position, les fonds des canaux 9 débouchent dans le puits 5 largement en dessous du niveau de la ceinture de la pierre 4.
On procède ensuite, conformément au procédé de l'invention, au dépôt d'une seconde couche d'or 12, d'épaisseur notablement supérieure à celle de la première 10, par exemple entre 120 et 430 micromètres.
Du fait de l'existence des canaux 9, le bain déposeur accède facilement dans l'espace entre la pierre et le fond du logement 5 pour y déposer une même couche 12 dont le front vient en 13 en contact avec la face arrière de la pierre 4, cependant que le front de la couche 12 visible en dehors du logement 5 vient en 14 en contact avec la couronne de table de la pierre.
La pierre 4 est ainsi solidement emprisonnée par les deux fronts 13, 14 de part et d'autre du plan de la ceinture de la pierre.
Les étapes finales sont conventionnelles et consistent à extraire par traitement thermique la base et enlever chimiquement la couche de cuivre 10, une seconde couche de cuivre protectrice (non représentée sur les dessins) pouvant être, avant les traitements ci-dessus, déposée par dessus la couche d'or 12.
L'objet final obtenu est un bijou creux dont la partie portant la pierre 4 est représentée agrandie sur la figure 9.
Il est en particulier à noter que non seulement la pierre est parfaitement et solidement enchâssée mais également la paroi du puits 5 présente une épaisseur notablement renforcée du fait de l'existence de la seconde couche d'or 12. Il est évident qu'en l'absence des canaux 9, cette paroi serait seulement constituée de la première couche d'or 11 dont l'épaisseur serait de nature à fragiliser le bijou.
La table 15 de la pierre peut se trouver au niveau des extrémités en regard des pétales 2 du motif décoratif ou à un niveau différent.
Enfin, l'invention n'est évidemment pas limitée au mode de réalisation représenté et décrit ci-dessus, mais en couvre au contraire toutes les variantes notamment en ce qui concerne les nature, forme et dimensions du bijou, le nombre de pierres 4, leur forme, les formes et dimensions du ou des logements récepteurs, le nombre, la forme, la disposition du ou des canaux 9 ou analogues destinés à acheminer le bain déposeur d'or sous la ou les pierres en place dans leur logement, ainsi que les forme, dimensions et distribution des parties telles que les nez 8 des rehaussements 7, décoratifs ou non, destinés à permettre l'engagement par clipsage des pierres dans leur logement, avant la dépose de la seconde couche d'or, ou autre métal ou alliage précieux.

Claims (6)

  1. Procédé d'enchâssement de pierres (4) dans la surface d'un bijou réalisé par électroformage, dans lequel on réalise une base (1) présentant extérieurement les formes et dimensions à l'épaisseur près de la couche d'or formant la paroi du bijou à obtenir et munie de logements (5) de réception des pierres (4), on dépose sur la base (1), avant mise en place des pierres, une couche protectrice (10), puis une mince couche d'or (11), on met en place les pierres (4) dans lesdits logements (5), puis on dépose une seconde couche d'or (12), plus épaisse, et, enfin, on extrait ou enlève ladite base (1) et ladite couche protectrice (10), caractérisé en ce que lors de la réalisation de la base (1), au moins un passage (9) est ménagé au droit de chaque logement (5), susceptible de faire communiquer, une fois la pierre (4) en place, l'espace entre cette dernière et le fond de son logement (5) avec l'extérieur, en sorte de permettre au bain de dépôt de ladite seconde couche d'or (12) d'accéder audit espace.
  2. Procédé suivant la revendication 1, caractérisé en ce qu'en outre, lors de la réalisation de la base (1), on ménage des rehaussements (7) dont une partie (8) vient en saillie au dessus de creux (6) de réception d'une pierre (4) dans un puits (5), ladite pierre étant engagée par clipsage dans ledit puits.
  3. Procédé suivant la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que lesdits passages faisant communiquer l'espace entre chaque pierre (4) et le fond de son logement (5) sont des canaux (9) ou analogues, interposés entre lesdits rehaussements (7).
  4. Bijou obtenu conformément au procédé de l'une des revendications 1 à 3.
  5. Bijou suivant la revendication 4, caractérisé en ce qu'il est creux et d'épaisseur de paroi, y compris la paroi des puits (5) en dessous des pierres (4), constante.
  6. Bijou suivant la revendication 5, caractérisé en ce que ladite épaisseur de paroi est comprise entre 135 et 450 micromètres.
EP97944943A 1996-10-09 1997-10-08 Procede d'enchassement de pierres dans la surface d'un bijou realise par electroformage et bijou ainsi obtenu Expired - Lifetime EP0930835B1 (fr)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR9612580 1996-10-09
FR9612580A FR2754152B1 (fr) 1996-10-09 1996-10-09 Procede d'enchassement de pierres dans la surface d'un bijou realise par electroformage et bijou ainsi obtenu
PCT/FR1997/001795 WO1998015202A1 (fr) 1996-10-09 1997-10-08 Procede d'enchassement de pierres dans la surface d'un bijou realise par electroformage et bijou ainsi obtenu

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP0930835A1 EP0930835A1 (fr) 1999-07-28
EP0930835B1 true EP0930835B1 (fr) 2001-06-27

Family

ID=9496694

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP97944943A Expired - Lifetime EP0930835B1 (fr) 1996-10-09 1997-10-08 Procede d'enchassement de pierres dans la surface d'un bijou realise par electroformage et bijou ainsi obtenu

Country Status (11)

Country Link
US (1) US6212745B1 (fr)
EP (1) EP0930835B1 (fr)
CN (1) CN1237093A (fr)
AT (1) ATE202458T1 (fr)
DE (1) DE69705418T2 (fr)
ES (1) ES2159881T3 (fr)
FR (1) FR2754152B1 (fr)
GR (1) GR3036697T3 (fr)
IL (1) IL129369A (fr)
PT (1) PT930835E (fr)
WO (1) WO1998015202A1 (fr)

Families Citing this family (19)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
AU3775500A (en) * 1999-03-26 2000-10-16 Laser Optronic Technologies (Proprietary) Limited Setting of gemstones
US20050274445A1 (en) * 2004-06-01 2005-12-15 Paul Chang Method for manufacturing decoration of imitation metal
ES2224892B1 (es) 2004-07-26 2006-06-01 Clemente Navarro Fabregat, S.A. Procedimiento para la fabricacion de piezas de joyeria y piezas de joyeria obtenida.
US20080066310A1 (en) * 2006-09-05 2008-03-20 Siu Chung Pang Setting stones in the surface of electroformed piece
US8328073B1 (en) * 2008-02-07 2012-12-11 Standard Chain Co. Ornamented metallic mesh and method of making same
EP2106716A1 (fr) * 2008-04-01 2009-10-07 The Swatch Group Management Services AG Objet portable à effet décoratif
ES2328780B2 (es) 2008-11-25 2010-06-01 Rafael Gomez Sanchez, S.A. Procedimiento de engaste de joyas y joya obtenida con dicho procedimiento.
CN101828799A (zh) * 2009-03-11 2010-09-15 栢莱化工有限公司 制造硬质金珠宝的方法
RU2546501C2 (ru) 2009-11-25 2015-04-10 Дресс Ёр Боди Аг Декоративный элемент в невидимой оправе
EP2549341A1 (fr) * 2011-07-20 2013-01-23 The Swatch Group Research and Development Ltd. Procédé pour implanter un décor dans un élément d'habillage horloger déposé par galvanoplastie et élément d'habillage réalisé selon ce procédé
US10772396B2 (en) * 2012-12-21 2020-09-15 Omega S.A. Decorative piece produced by setting on amorphous metal
CN104593831A (zh) * 2015-01-26 2015-05-06 黄盛平 利用3d贵金属技术制作手表的方法
WO2017005284A1 (fr) * 2015-07-05 2017-01-12 D. Swarovski Kg Monture pour pierre décorative, pourvue d'une couche de cuivre à aspect patiné
CN107345306A (zh) * 2017-07-24 2017-11-14 彭少中 一种电铸蜡镶珠宝工艺
EP3479721B1 (fr) * 2017-11-07 2020-05-13 The Swatch Group Research and Development Ltd Procede de sertissage d'une pierre
EP3479720B1 (fr) * 2017-11-07 2020-03-25 The Swatch Group Research and Development Ltd Procede de sertissage d'une pierre
CN108244782B (zh) * 2018-01-26 2019-11-12 深圳市铭冠珠宝首饰有限公司 一种饰品珠宝镶嵌工艺
EP3771359B1 (fr) 2019-07-29 2023-05-10 The Swatch Group Research and Development Ltd Procédé de sertissage d'une pierre
IT202100025787A1 (it) * 2021-10-08 2023-04-08 Bp Consulting Di Barbieri Paolo Procedimento per la realizzazione di gioielli cavi in metallo prezioso con pietre incastonate

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4543803A (en) * 1983-11-30 1985-10-01 Mark Keyasko Lightweight, rigid, metal product and process for producing same
DE3544429A1 (de) * 1985-12-16 1987-06-19 Juwedor Gmbh Verfahren zur galvanoplastischen herstellung von schmuckwaren
FR2627512A1 (fr) * 1988-02-23 1989-08-25 Or Est Procede de sertissage par electroformage
EP0620987A1 (fr) * 1993-04-22 1994-10-26 Firma Franz Breuning Sertissage d'une pierre de bijouterie
FR2717051B1 (fr) * 1994-03-11 1996-08-02 Pgcm Conception Procédé de sertissage de pièces de bijouterie réalisées par électroformage et pièces ainsi obtenues.

Also Published As

Publication number Publication date
WO1998015202A8 (fr) 2001-05-31
WO1998015202A1 (fr) 1998-04-16
IL129369A0 (en) 2000-02-17
PT930835E (pt) 2001-12-28
US6212745B1 (en) 2001-04-10
DE69705418T2 (de) 2002-05-29
FR2754152A1 (fr) 1998-04-10
EP0930835A1 (fr) 1999-07-28
ES2159881T3 (es) 2001-10-16
CN1237093A (zh) 1999-12-01
GR3036697T3 (en) 2001-12-31
IL129369A (en) 2001-09-13
DE69705418D1 (de) 2001-08-02
FR2754152B1 (fr) 1998-12-24
ATE202458T1 (de) 2001-07-15

Similar Documents

Publication Publication Date Title
EP0930835B1 (fr) Procede d'enchassement de pierres dans la surface d'un bijou realise par electroformage et bijou ainsi obtenu
KR20110118569A (ko) 적어도 하나의 금속 장식으로 인레이된 세라믹 부재
EP2316299B1 (fr) Pièce comportant une structure en matériau inorganique et un revêtement élastomère et procédé pour l'obtention d'une telle pièce
FR2891119A1 (fr) Bijou modulaire
CH714234B1 (fr) Procédé de fabrication d'une pièce et une pièce pour l'horlogerie ou la joaillerie, avec une surface comprenant du titane coloré par oxydation.
CH715336A2 (fr) Procédé d'assemblage d'au moins deux éléments et composant d'habillage ainsi formé.
EP3622846A1 (fr) Procede d'assemblage d'au moins deux elements
EP3479721B1 (fr) Procede de sertissage d'une pierre
FR2627512A1 (fr) Procede de sertissage par electroformage
WO2019158499A1 (fr) Composant horloger intégrant au moins un élément d'ornement
EP3814553B1 (fr) Procédé de fabrication de pièces décoratives
EP1350438A1 (fr) Object de parure
FR2717051A1 (fr) Procédé de sertissage de pièces de bijouterie réalisées par électroformage et pièces ainsi obtenues.
FR2715806A1 (fr) Bijoux transformables de forme courbe.
EP0106806A1 (fr) Procédé de fabrication d'un composant de l'habillement d'un garde-temps et composant obtenu selon ce procédé
FR2765781A1 (fr) Procede de fabrication d'un accessoire de mode, dispositif pour la mise en oeuvre du procede et accessoire de mode ainsi realise
KR102164562B1 (ko) 인조보석의 제조방법
CH712114A1 (fr) Ensemble adapté pour être garni de pierres, objet orné et procédé de montage de plusieurs pierres dans un support.
CH329446A (fr) Cadran d'horlogerie
EP3587626B1 (fr) Pièce décorative réalisée par incrustation
CH685690A5 (fr) Pièce de joaillerie.
CH718116A2 (fr) Dispositif et procédé pour fixer un élément décoratif sur un substrat.
FR2752687A1 (fr) Bijou circulaire et son procede de fabrication
CH716645B1 (fr) Procédé de fabrication d'un composant d'habillement pour pièce d'horlogerie ou de joaillerie et composant d'habillement en matériau d'origine naturelle revêtu.
CH715132A2 (fr) Procédé de fabrication de pièces décoratives.

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): AT BE CH DE ES FR GB GR IE IT LI NL PT

17P Request for examination filed

Effective date: 19990423

GRAG Despatch of communication of intention to grant

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS AGRA

17Q First examination report despatched

Effective date: 20000908

GRAG Despatch of communication of intention to grant

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS AGRA

GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): AT BE CH DE ES FR GB GR IE IT LI NL PT

REF Corresponds to:

Ref document number: 202458

Country of ref document: AT

Date of ref document: 20010715

Kind code of ref document: T

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: EP

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: FG4D

Free format text: FRENCH

REF Corresponds to:

Ref document number: 69705418

Country of ref document: DE

Date of ref document: 20010802

ITF It: translation for a ep patent filed

Owner name: STUDIO INGG. FISCHETTI & WEBER

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: NV

Representative=s name: MICHELI & CIE INGENIEURS-CONSEILS

GBT Gb: translation of ep patent filed (gb section 77(6)(a)/1977)

Effective date: 20010910

REG Reference to a national code

Ref country code: ES

Ref legal event code: FG2A

Ref document number: 2159881

Country of ref document: ES

Kind code of ref document: T3

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Payment date: 20011108

Year of fee payment: 5

REG Reference to a national code

Ref country code: PT

Ref legal event code: SC4A

Free format text: AVAILABILITY OF NATIONAL TRANSLATION

Effective date: 20010921

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: IF02

PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

26N No opposition filed
PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: AT

Payment date: 20020916

Year of fee payment: 6

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IE

Payment date: 20020917

Year of fee payment: 6

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Payment date: 20021011

Year of fee payment: 6

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 20021017

Year of fee payment: 6

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: ES

Payment date: 20021018

Year of fee payment: 6

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: CH

Payment date: 20021028

Year of fee payment: 6

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: BE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20021031

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: PT

Payment date: 20021031

Year of fee payment: 6

Ref country code: GR

Payment date: 20021031

Year of fee payment: 6

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Payment date: 20021104

Year of fee payment: 6

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20021129

Year of fee payment: 6

BERE Be: lapsed

Owner name: *PGCM CONCEPTION

Effective date: 20021031

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20031008

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20031008

Ref country code: AT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20031008

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: ES

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20031009

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: LI

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20031031

Ref country code: CH

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20031031

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: PT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20040430

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: NL

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20040501

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20040501

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20040504

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 20031008

REG Reference to a national code

Ref country code: CH

Ref legal event code: PL

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20040630

NLV4 Nl: lapsed or anulled due to non-payment of the annual fee

Effective date: 20040501

REG Reference to a national code

Ref country code: IE

Ref legal event code: MM4A

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: ST

Ref country code: PT

Ref legal event code: MM4A

Free format text: LAPSE DUE TO NON-PAYMENT OF FEES

Effective date: 20040430

REG Reference to a national code

Ref country code: ES

Ref legal event code: FD2A

Effective date: 20031009

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: IT

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES;WARNING: LAPSES OF ITALIAN PATENTS WITH EFFECTIVE DATE BEFORE 2007 MAY HAVE OCCURRED AT ANY TIME BEFORE 2007. THE CORRECT EFFECTIVE DATE MAY BE DIFFERENT FROM THE ONE RECORDED.

Effective date: 20051008

REG Reference to a national code

Ref country code: HK

Ref legal event code: WD

Ref document number: 1023702

Country of ref document: HK