EP0908916B1 - Verfahren zur Herstellung einer Elektronenquelle und Vorrichtung zur Herstellung einer Elektronenquelle - Google Patents

Verfahren zur Herstellung einer Elektronenquelle und Vorrichtung zur Herstellung einer Elektronenquelle Download PDF

Info

Publication number
EP0908916B1
EP0908916B1 EP19980307500 EP98307500A EP0908916B1 EP 0908916 B1 EP0908916 B1 EP 0908916B1 EP 19980307500 EP19980307500 EP 19980307500 EP 98307500 A EP98307500 A EP 98307500A EP 0908916 B1 EP0908916 B1 EP 0908916B1
Authority
EP
European Patent Office
Prior art keywords
gas
container
electron
electron emitting
voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
EP19980307500
Other languages
English (en)
French (fr)
Other versions
EP0908916A1 (de
Inventor
Masanori Mitome
Masato Yamanobe
Fumio Kishi
Hitoshi Oda
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
Publication of EP0908916A1 publication Critical patent/EP0908916A1/de
Application granted granted Critical
Publication of EP0908916B1 publication Critical patent/EP0908916B1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00—Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/02—Manufacture of electrodes or electrode systems
    • H01J9/022—Manufacture of electrodes or electrode systems of cold cathodes
    • H01J9/027—Manufacture of electrodes or electrode systems of cold cathodes of thin film cathodes

Claims (32)

  1. Verfahren zur Herstellung einer Elektronenquelle (71) mit einem elektronenemittierenden Element (74), das nach Anlegen einer Spannung an leitende, einander gegenüberstehende Materialien (4) Elektronen emittiert, mit den Verfahrensschritten:
    Bereitstellen der leitfähigen Materialien, die einander über einen ersten beabstandeten Bereich gegenüberstehen; und
    Auftragen von Kohlenstoff oder einer Kohlenstoffverbindung oder einer Kombination dieser auf die leitfähigen Materialien durch Anlegen einer Spannung an die Materialien in einer gasförmigen Umgebung, die organische Materialien enthält;
       dadurch gekennzeichnet, daß
       der Auftrageschritt bei einem Gesamtumgebungsdruck zwischen 1 × 102 Pa und 1,5 × 105 Pa (1,5 Atmosphären) erfolgt.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem der Gesamtumgebungsdruck wenigstens 1 × 103 Pa beträgt.
  3. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem der Gesamtumgebungsdruck nicht größer als 0,5 × 105 Pa (0,5 Atmosphären) ist.
  4. Verfahren nach Anspruch 3, bei dem der Gesamtumgebungsdruck nicht größer als 0,2 × 105 Pa (0,2 Atmosphären) ist.
  5. Verfahren nach Anspruch 4, bei dem der Gesamtumgebungsdruck nicht größer als 0,1 × 105 Pa (0,1 Atmosphären) ist.
  6. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem der Gesamtumgebungsdruck ungefähr 1 × 105 Pa beträgt.
  7. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem die gasförmige Umgebung ein verdünnendes Gas enthält.
  8. Verfahren nach Anspruch 7, bei dem das verdünnende Gas ein inertes Gas ist.
  9. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem die gasförmige Umgebung ein organisches Material enthält, das mit einem der Gase Stickstoff, Helium oder Argon vermischt ist.
  10. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 6, bei dem der Bereich, von dem die Elektronenemission erfolgt, nahe dem ersten beabstandeten Bereich zwischen leitfähigen Materialien liegt, die einander gegenüberstehen, und bei dem im Auftrageschritt Kohlenstoff, Kohlenstoffverbindung oder eine Kombination dieser über die sich gegenüberstehenden leitfähigen Materialien aufgetragen wird, um einen zweiten beabstandeten Bereich zu schaffen, der schmaler als der erste beabstandete Bereich innerhalb des ersten Bereichs und zwischen der Materialauftragung ist.
  11. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 10, das einen ersten Verfahrensschritt des Bildens eines beabstandeten Bereichs und des Bildens des ersten beabstandeten Bereichs umfaßt.
  12. Verfahren nach Anspruch 11, bei dem im Verfahrensschritt des Erzeugens vom ersten beabstandeten Bereich der erste beabstandete Bereich gebildet ist durch Stromlieferung an ein leitfähiges Material, bei dem der erste beabstandete Bereich zu bilden ist.
  13. Verfahren zur Herstellung einer Elektronenquelle nach Anspruch 11 oder 12, bei dem der Verfahrens des Bildungsschritt vom ersten beabstandeten Bereich bei einem Druck erfolgt, der annähernd gleich dem für den im Auftragungsschritt verwendeten Druck ist.
  14. Verfahren nach Anspruch 11 oder 12, bei dem der Bildungsschritt vom ersten beabstandeten Bereich und der Auftragungsschritt bei annähernd atmosphärischen Druck erfolgt.
  15. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 14, bei dem der Auftragungsschritt in einem Gefäß erfolgt, das in der Lage ist, in der Atmosphäre evakuiert zu werden.
  16. Verfahren nach Anspruch 15, bei dem ein Verfahrensschritt nach Abschluß des Auftragungsschritts unter Verwendung eines Gefäßes erfolgt, das sich vom Gefäß vom im Auftragungsschritt verwendeten Gefäß unterscheidet.
  17. Verfahren nach Anspruch 15 oder 16, bei dem das während des Auftragens verwendete Gefäß mit Mitteln zur Gasdiffusion bereitsteht.
  18. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis 17, bei dem der Verfahrensschritt des Auftragens durch Einführen von Gas in das Gefäß erfolgt.
  19. Verfahren nach Anspruch 18, bei dem der Verfahrensschritt des Auftragens durch Gasfluß durch das Gefäß erfolgt.
  20. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis 19, bei dem der Auftragungsschritt in einem Gefäß mit einem Einlaßkanal und einem Auslaßkanal für Gas erfolgt.
  21. Verfahren nach einem der Ansprüche 15 bis 20, bei dem während des Auftragungsschritts aus dem Gefäß abgezogenes Gas erneut in das Gefäß eingeführt wird.
  22. Verfahren nach Anspruch 21, bei dem vor dem erneuten Einführen des Gases in das Gefäß Feuchtigkeit aus dem vom Gefäß abgezogenen Gas entfernt wird.
  23. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 22, mit dem weiteren Verfahrensschritt des Reduzierens der Menge vom umgebenden Gas, wobei der Verfahrensschritt dem Ausführen des Auftragungsschritts folgt.
  24. Verfahren zur Herstellung einer Elektronenquelle nach einem der Ansprüche 1 bis 23, bei dem das elektronenemittierende Element eines mit Oberflächenleitfähigkeit ist.
  25. Verfahren nach einem der Ansprüche 1 bis 24, bei dem die Herstellung einer Elektronenquelle mit einer Vielzahl von elektronenemittierenden Elementen erfolgt.
  26. Verfahren nach Anspruch 1, dessen Ausführung die Verfahrensschritte umfaßt:
    Bereitstellen eines Substrats (1) eines elektronenemittierenden Elements mit Oberflächenleitfähigkeit, das über ein Paar Elektroden (2, 3) und über einen elektrisch leitenden Dünnfilm (4) verfügt, der mit den Elektroden mit einer darin festgelegten elektronenemittierenden Zone (5) verbunden ist; und
    Aktivieren des elektronenemittierenden Elements durch Anlegen einer Impulsspannung an die Elektroden (2, 3) in einer gasförmigen Umgebung enerten Gases und organischen Materials, um dadurch Kohlenstoff oder eine Kohlenstoffverbindung oder eine Kombination dieser bei der elektronenemittierenden Zone aufzutragen; wobei
    der Verfahrensschritt des Aktivierens bei einem Gesamtumgebungsdruck zwischen 1 × 102 und 1,5 × 105 Pa erfolgt.
  27. Verfahren zur Herstellung eines Bilderzeugungsgerätes mit einer Elektronenquelle und einem Bilderzeugungsglied zum Erzeugen eines Bildes unter Verwendung von aus der Elektronenquelle gestrahlten Elektronen mit einem Verfahrensschritt des Integrierens vom Bilderzeugungsglied mit einer nach einem der Ansprüche 1 bis 26 hergestellten Elektronenquelle.
  28. Vorrichtung zur Herstellung einer Elektronenquelle nach einem Verfahren von Patentanspruch 1, mit:
    einem Gefäß (55) ;
    einem Einführmittel (140, 139, 203A, 132) zum Einführen eines organisches Material enthaltenen Gases in das Gefäß bei einem Gesamtumgebungsdruck zwischen 1 × 102 Pa und 1,5 × 105 Pa (1,5 Atmosphären); und mit
    einem Spannungsanlegemittel (51), das die Spannung an die leitenden Materialien anlegt, die einander gegenüberstehen, um das Auftragen von Kohlenstoff, Kohlenstoffverbindung oder einer Kombination dieser zu bewirken;
    gekennzeichnet durch
    ein Rückführmittel (201, 132) zum Abziehen des Gases aus dem Gefäß (55) und zum erneuten Einführen dieses in das Gefäß.
  29. Vorrichtung nach Anspruch 28, bei dem das Rückführmittel (201, 132) einen Zirkulator (201) und eine Rohrleitung (132) enthält, die zwischen dem Zirkulator und dem Gefäß angeordnet ist.
  30. Gerät nach einem der Ansprüche 28 oder 29, das des weiteren über ein Mittel (202) zum Beseitigen von Feuchtigkeit im Gas verfügt, das erneut in das Gefäß einzuführen ist.
  31. Gerät nach einem der Ansprüche 28 bis 30, dessen Gefäß eingerichtet ist, ein die Abscheidung aufnehmendes Glied zu bedecken.
  32. Gerät nach einem der Ansprüche 28 bis 30, das des weiteren über ein Transportmittel verfügt, um ein Glied zu transportieren, das dem Aufnehmen der Abscheidung in den Behälter dient.
EP19980307500 1997-09-16 1998-09-16 Verfahren zur Herstellung einer Elektronenquelle und Vorrichtung zur Herstellung einer Elektronenquelle Expired - Lifetime EP0908916B1 (de)

Applications Claiming Priority (9)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP25059597 1997-09-16
JP250594/97 1997-09-16
JP25059497 1997-09-16
JP25059597 1997-09-16
JP25059497 1997-09-16
JP250595/97 1997-09-16
JP29710597 1997-10-29
JP297105/97 1997-10-29
JP29710597 1997-10-29

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EP0908916A1 EP0908916A1 (de) 1999-04-14
EP0908916B1 true EP0908916B1 (de) 2004-01-07

Family

ID=27333950

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EP19980307500 Expired - Lifetime EP0908916B1 (de) 1997-09-16 1998-09-16 Verfahren zur Herstellung einer Elektronenquelle und Vorrichtung zur Herstellung einer Elektronenquelle

Country Status (2)

Country Link
EP (1) EP0908916B1 (de)
DE (1) DE69820945T2 (de)

Families Citing this family (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3323853B2 (ja) 1999-02-25 2002-09-09 キヤノン株式会社 電子放出素子、電子源及び画像形成装置の製造方法
EP1032012B1 (de) * 1999-02-25 2009-03-25 Canon Kabushiki Kaisha Elektronen emittierende Einrichtung,Elektronenquelle und Verfahren zur Herstellung eines Bilderzeugungsgerätes
US6582268B1 (en) 1999-02-25 2003-06-24 Canon Kabushiki Kaisha Electron-emitting device, electron source and manufacture method for image-forming apparatus
JP3492325B2 (ja) * 2000-03-06 2004-02-03 キヤノン株式会社 画像表示装置の製造方法
JP3483537B2 (ja) 2000-03-06 2004-01-06 キヤノン株式会社 画像表示装置の製造方法
JP3667256B2 (ja) 2000-06-30 2005-07-06 キヤノン株式会社 電子源の製造装置
JP3733308B2 (ja) * 2000-09-29 2006-01-11 キヤノン株式会社 画像表示装置の製造方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ATE201791T1 (de) * 1993-12-22 2001-06-15 Canon Kk Herstellungsverfahren einer oberflächenleitenden elektronenemittierenden vorrichtung und bilderzeugungsgerät
CA2126509C (en) * 1993-12-27 2000-05-23 Toshikazu Ohnishi Electron-emitting device and method of manufacturing the same as well as electron source and image-forming apparatus
JP3062990B2 (ja) * 1994-07-12 2000-07-12 キヤノン株式会社 電子放出素子及びそれを用いた電子源並びに画像形成装置の製造方法と、電子放出素子の活性化装置
JP3302278B2 (ja) * 1995-12-12 2002-07-15 キヤノン株式会社 電子放出素子の製造方法並びに該製造方法を用いた電子源及び画像形成装置の製造方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE69820945T2 (de) 2004-10-21
DE69820945D1 (de) 2004-02-12
EP0908916A1 (de) 1999-04-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6416374B1 (en) Electron source manufacturing method, and image forming apparatus method
US6582268B1 (en) Electron-emitting device, electron source and manufacture method for image-forming apparatus
EP1178511B1 (de) Bilderzeugungsgerät und zugehöriges Herstellungsverfahren
US6617773B1 (en) Electron-emitting device, electron source, and image-forming apparatus
US6586872B2 (en) Electron emission source, method and image-forming apparatus, with enhanced output and durability
EP0908916B1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Elektronenquelle und Vorrichtung zur Herstellung einer Elektronenquelle
EP1032012B1 (de) Elektronen emittierende Einrichtung,Elektronenquelle und Verfahren zur Herstellung eines Bilderzeugungsgerätes
JP3402891B2 (ja) 電子源および表示パネル
JP3524278B2 (ja) 画像形成装置
JP3596844B2 (ja) 電子放出素子およびその製造方法、並びに電子源および画像形成装置
JP3241599B2 (ja) 電子放出素子、電子源基板、電子源、表示パネルおよび画像形成装置の製造方法
JP2000082384A (ja) 電子放出素子、電子源及び画像形成装置並びに電子放出素子の製造方法
US20040245905A1 (en) Electron-emitting device, electron source using electron-emitting device, and image forming apparatus
JP3217946B2 (ja) 電子放出部形成用材料並びに該材料を用いた電子放出素子、電子源、表示素子及び画像形成装置の製造方法
JP3524269B2 (ja) 画像形成装置の製造方法
JP3703255B2 (ja) 電子放出素子、電子源、それを用いた画像形成装置およびそれらの製造方法
JP3063004B1 (ja) 電子放出素子及び画像形成装置の製造方法
JP2000251790A (ja) 電子源及び保持装置及び電子源の製造方法及び画像形成装置
JPH09298030A (ja) 電子放出素子及び電子源及び画像形成装置
JP2000021300A (ja) 電子放出素子、電子源、画像形成装置及びそれらの製造方法
JPH09115431A (ja) 凹凸を有する基板、並びにそれを用いた電子放出素子、電子源、表示パネルおよび画像形成装置の製造方法
JPH09223458A (ja) 電子放出素子、電子源、および画像形成装置の製造方法
JP2000243236A (ja) 電子放出素子、電子源基板及び画像形成装置
JPH09330652A (ja) 電子放出素子の製造方法ならびに電子放出素子および画像形成装置
JP2000243241A (ja) 電子放出素子の製造方法及び画像形成装置の製造方法

Legal Events

Date Code Title Description
PUAI Public reference made under article 153(3) epc to a published international application that has entered the european phase

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009012

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: A1

Designated state(s): DE FR GB

AX Request for extension of the european patent

Free format text: AL;LT;LV;MK;RO;SI

17P Request for examination filed

Effective date: 19990830

AKX Designation fees paid

Free format text: DE FR GB

17Q First examination report despatched

Effective date: 20010220

RTI1 Title (correction)

Free format text: ELECTRON SOURCE MANUFACTURE METHOD AND ELECTRON SOURCE MANUFACTURE APPARATUS

RTI1 Title (correction)

Free format text: ELECTRON SOURCE MANUFACTURE METHOD AND ELECTRON SOURCE MANUFACTURE APPARATUS

GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

GRAH Despatch of communication of intention to grant a patent

Free format text: ORIGINAL CODE: EPIDOS IGRA

GRAA (expected) grant

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009210

AK Designated contracting states

Kind code of ref document: B1

Designated state(s): DE FR GB

REG Reference to a national code

Ref country code: GB

Ref legal event code: FG4D

REF Corresponds to:

Ref document number: 69820945

Country of ref document: DE

Date of ref document: 20040212

Kind code of ref document: P

ET Fr: translation filed
PLBE No opposition filed within time limit

Free format text: ORIGINAL CODE: 0009261

STAA Information on the status of an ep patent application or granted ep patent

Free format text: STATUS: NO OPPOSITION FILED WITHIN TIME LIMIT

26N No opposition filed

Effective date: 20041008

REG Reference to a national code

Ref country code: FR

Ref legal event code: ST

Effective date: 20110531

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20100930

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: FR

Payment date: 20091006

Year of fee payment: 12

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Payment date: 20120926

Year of fee payment: 15

PGFP Annual fee paid to national office [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Payment date: 20120930

Year of fee payment: 15

GBPC Gb: european patent ceased through non-payment of renewal fee

Effective date: 20130916

REG Reference to a national code

Ref country code: DE

Ref legal event code: R119

Ref document number: 69820945

Country of ref document: DE

Effective date: 20140401

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: GB

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20130916

PG25 Lapsed in a contracting state [announced via postgrant information from national office to epo]

Ref country code: DE

Free format text: LAPSE BECAUSE OF NON-PAYMENT OF DUE FEES

Effective date: 20140401