EP0801143B1 - Appareil de recouvrement ou masquage de substrats - Google Patents

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EP0801143B1
EP0801143B1 EP97101697A EP97101697A EP0801143B1 EP 0801143 B1 EP0801143 B1 EP 0801143B1 EP 97101697 A EP97101697 A EP 97101697A EP 97101697 A EP97101697 A EP 97101697A EP 0801143 B1 EP0801143 B1 EP 0801143B1
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center
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center mask
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    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3411—Constructional aspects of the reactor
    • H01J37/3447—Collimators, shutters, apertures
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/04—Coating on selected surface areas, e.g. using masks
    • C23C14/042—Coating on selected surface areas, e.g. using masks using masks
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/32—Gas-filled discharge tubes
    • H01J37/34—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering
    • H01J37/3402—Gas-filled discharge tubes operating with cathodic sputtering using supplementary magnetic fields
    • H01J37/3405—Magnetron sputtering
    • H01J37/3408—Planar magnetron sputtering

Definitions

  • the differential pressure diameter P d is in the region of a membrane or is determined by the diameter of the membrane which seals the vacuum chamber of the device from the space in which atmospheric pressure prevails
  • the center mask consists of a plate-shaped mask part which is arranged on a cylindrical cooling housing, which is arranged on the center mask guide part or on a cantilever arm and is adjustable with the latter relative to the differential pressure.

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Claims (19)

  1. Dispositif de masquage, ou recouvrement, de substrats (27), destiné à une cathode de pulvérisation (2) comportant une pièce de guidage (56) de masque médian, sur laquelle est disposé un masque médian (26) recouvrant le substrat (27), qui coopère avec un masque extérieur (4) de façon telle que, lors du processus de revêtement, seule la partie non recouverte (57) du substrat (27) est revêtue, caractérisé en ce que le masque médian et/ou le masque extérieur (26 et/ou 4) peuvent être positionnés indépendamment l'un de l'autre.
  2. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce que le masque médian (26) peut être positionné indépendamment du masque extérieur (4), en fonction de la pression de gaz dans le dispositif destiné au revêtement du substrat (27).
  3. Dispositif selon la revendication 1 ou 2, caractérisé en ce que le masque médian (26) peut être positionné indépendamment du masque extérieur (4), en fonction d'une pression différentielle dans le dispositif en direction du substrat (27) et/ou en direction de l'axe longitudinal/médian (58) du dispositif (1), ou de la cathode (2).
  4. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce que la force de pression différentielle Fdif est déterminée, dans le dispositif, par le diamètre extérieur de la partie réglable du support qui est disposée coaxialement à l'axe longitudinal médian de la cathode (58).
  5. Dispositif selon une ou plusieurs des revendications qui précèdent, caractérisé en ce que le diamètre de pression différentielle Pd se trouve dans la zone d'une membrane (59), ou est déterminé par le diamètre de la membrane qui rend l'enceinte sous vide (54) du dispositif étanche par rapport à l'espace dans lequel règne la pression atmosphérique.
  6. Dispositif selon la revendication 1, caractérisé en ce que le masque médian (26) est constitué par une pièce de masque (60) en forme de disque, qui est disposée sur un corps de refroidissement (61) de forme cylindrique qui est mis en place sur la pièce de guidage (56) de masque médian, ou sur un bras en porte-à-faux, et en ce qu'il peut être positionné au moyen de celle-ci en fonction de la pression différentielle.
  7. Dispositif selon une ou plusieurs des revendications qui précèdent, caractérisé en ce que la pièce de masque (60) en forme de disque peut être positionnée entre deux butées réglables en fonction de la course de positionnement du bras en porte-à-faux ou indépendamment de celle-ci.
  8. Dispositif selon une ou plusieurs des revendications qui précèdent, caractérisé en ce que la pièce de masque (60) en forme de disque est reliée de façon libérable au corps de forme cylindrique, ou corps de refroidissement (61).
  9. Dispositif selon une ou plusieurs des revendications qui précèdent, caractérisé en ce que la pièce de masque (60) en forme de disque et disposée concentriquement à l'axe longitudinal médian (58) est reliée coaxialement au corps de refroidissement (61), de façon libérable.
  10. Dispositif selon une ou plusieurs des revendications qui précèdent, caractérisé en ce que le corps de refroidissement (61) est relié de façon libérable à la pièce de guidage (56) de masque médian et qu'il peut être limité dans son déplacement de positionnement par au moins une butée (62).
  11. Dispositif selon une ou plusieurs des revendications qui précèdent, caractérisé en ce que la pièce de guidage (56) de masque médian peut être positionnée entre deux butées (62 et 63).
  12. Dispositif selon une ou plusieurs des revendications qui précèdent, caractérisé en ce que les butées (62 et 63) sont réglables.
  13. Dispositif selon une ou plusieurs des revendications qui précèdent, caractérisé en ce que les butées (62, 63) sont disposées sur la pièce de guidage (56) de masque médian ou sur un bras en porte-à-faux (63) recevant la pièce de guidage (56) de masque médian.
  14. Dispositif selon une ou plusieurs des revendications qui précèdent, caractérisé en ce que la membrane (59), le corps de refroidissement (61) et/ou le masque médian (26) rendent l'espace (55), soumis à la pression atmosphérique Pa, étanche par rapport à l'espace sous vide, ou à l'enceinte sous vide (54).
  15. Dispositif selon une ou plusieurs des revendications qui précèdent, caractérisé en ce que la membrane (59) est constituée par une pièce cylindrique, ou pièce médiane, (64), à chacune des extrémités de laquelle se raccorde un collet (65, 66), chacun des collets étant reçu dans un dispositif de serrage (67, 68) de façon libérable de telle sorte que le masque médian (26) peut être positionné par rapport au dispositif de serrage, ou par rapport aux pièces non réglables du dispositif, ou au masque extérieur (4).
  16. Dispositif selon une ou plusieurs des revendications qui précèdent, caractérisé en ce que le masque médian (26) en relation avec le masque extérieur (4) dans la position de départ, dans. laquelle les masques sont disposés avec un écart par rapport à la surface du substrat (27) fait saillie par rapport à la surface du masque extérieur (4) de façon telle que le masque médian ne vient en appui contre la surface du substrat (27) que lorsque le substrat est déplacé en direction du masque médian (26).
  17. Dispositif selon une ou plusieurs des revendications qui précèdent, caractérisé en ce que le masque extérieur (4) et/ou la partie inférieure (26') du masque médian (26) sont reliés de façon libérable.
  18. Dispositif selon une ou plusieurs des revendications qui précèdent, caractérisé en ce que le masque extérieur (4) et/ou la partie inférieure (26') du masque médian (26) viennent en appui, avec approximativement la même pression d'appui, contre la surface du substrat (27).
  19. Dispositif selon une ou plusieurs des revendications qui précèdent, caractérisé en ce que la pièce de guidage (56) du masque médian, le bras en porte-à-faux (63) ou la pièce guidant ou positionnant la pièce de guidage (56) du masque médian sont prévus dans un espace dans lequel règne en permanence la pression atmosphérique Pa.
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