EP0748701B1 - Farbübertragungswalze mit Ionenimplantat - Google Patents

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EP0748701B1
EP0748701B1 EP96107011A EP96107011A EP0748701B1 EP 0748701 B1 EP0748701 B1 EP 0748701B1 EP 96107011 A EP96107011 A EP 96107011A EP 96107011 A EP96107011 A EP 96107011A EP 0748701 B1 EP0748701 B1 EP 0748701B1
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transfer roller
layer
metal
roller according
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Roland Brinkmann
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Kurt Zecher GmbH
Original Assignee
Kurt Zecher GmbH
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    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C28/00—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D
    • C23C28/04—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material
    • C23C28/044—Coating for obtaining at least two superposed coatings either by methods not provided for in a single one of groups C23C2/00 - C23C26/00 or by combinations of methods provided for in subclasses C23C and C25C or C25D only coatings of inorganic non-metallic material coatings specially adapted for cutting tools or wear applications
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41F—PRINTING MACHINES OR PRESSES
    • B41F31/00—Inking arrangements or devices
    • B41F31/26—Construction of inking rollers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41N—PRINTING PLATES OR FOILS; MATERIALS FOR SURFACES USED IN PRINTING MACHINES FOR PRINTING, INKING, DAMPING, OR THE LIKE; PREPARING SUCH SURFACES FOR USE AND CONSERVING THEM
    • B41N7/00—Shells for rollers of printing machines
    • B41N7/06—Shells for rollers of printing machines for inking rollers
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
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    • B41N2207/02—Top layers
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    • B41N2207/00—Location or type of the layers in shells for rollers of printing machines
    • B41N2207/10—Location or type of the layers in shells for rollers of printing machines characterised by inorganic compounds, e.g. pigments

Definitions

  • the invention relates to an ink transfer roller one introduced mechanically or by lasering Surface structure made of color transfer cells in one microporous, metallic or ceramic or metal-ceramic hard material layer, as well as a process their manufacture.
  • Such an ink transfer roller is for example known from DE 40 07 130 A1.
  • These are in one embossed metallic surface wells, and one with it resulting burr removed and the well surface is with hard materials, e.g. with hard chrome or with Silicon carbide granules, in a nickel matrix, for Increased abrasion resistance galvanically coated.
  • hard materials e.g. with hard chrome or with Silicon carbide granules, in a nickel matrix, for Increased abrasion resistance galvanically coated.
  • a thin layer of hard chrome can be applied be applied.
  • these upper layers are always with fine micro cracks and fine pores with micrometer dimensions especially at the limits of determine stored hard material grains, whereby only their liability is limited.
  • Ink transfer roller it is an object of the invention, the one mentioned above Ink transfer roller to improve that a longer service life, less wear and tear has less susceptibility to corrosion.
  • the solution is that superficial micro cracks and pores through one with a high voltage plasma Applied ion implant material are closed.
  • All previously known microstructured ink transfer rollers are suitable for the treatment of the Surface with implant material, both at the New production as well as for post-treatment.
  • the at the Material layers applied during implantation have a too the cell dimensions comparatively small thickness of 1 - 2 ⁇ m, so that the cell volume is practically unchanged remains.
  • the implantation of the metellions takes place in one Nitrogen atmosphere, so that the metals partly as Combine nitrides and very hard crystallines Form structures.
  • Another abrasion-resistant top layer of is advantageous 0.05 - 1 ⁇ m, preferably 0.1 ⁇ m thickness from a hard material implanted in a similar manner. They are hard metal oxides or nitrides provided. Zirconium oxide (Zr02) has especially proven, for which the implantation in an oxygen plasma is made. This top layer will especially chosen so that a desired surface affinity to the to be transported and dosed Printing ink is created.
  • Zr02 Zirconium oxide
  • the surfaces tempered in this way show a higher hardness of 1400 - 166 HV compared to that of the colored particles that are under 1200 HV.
  • the untreated chrome surfaces have a hardness of 600 - 800 HV, and surfaces from Ceramics have a hardness of 900 - 1000 HV. You are lying i.a. under which the color particle and it occurs constant wear and tear.
  • the implantations are carried out under high voltage with a turbulent flow of the plasma preferably in nitrogen and / or oxygen.
  • tension will be a thousand to ten thousand volts applied, and the amperage becomes like this chosen that with moderate heating a sufficient Penetration depth of the ions and anchoring of the Implant in the surface is done without this burn or destroy thermally.
  • a gas pressure of approx. 1 mbar has proven to be favorable proven.
  • the impact voltage of the ions is preferred in the range between 600 V and 2 kV.
  • the operating heat is controlled accordingly Current and high voltage so low that no noticeable thermal stresses after cooling arise in the near-surface layer. There are Temperatures of 50 - 80 ° C are provided. Therefore can also such novel rollers according to DE 44 26 485 Implant, the hard material layer of a plastic substructure is worn. Esp. is the Hard material layer over a metal layer on one elastic plastic jacket is applied, which with Plastic fiber inserts made of reinforced plastic and with an elastic base on a solid metallic roll core is interchangeably mounted.
  • Figure 1 shows an enlarged plan view of a Detail of the surface of a roller 1 in a predetermined grid R with truncated pyramid-shaped cups N is provided.
  • A remains between the wells small bridge S and the inclined walls W itch in a flat floor B.
  • Figure 2 shows a thousand times magnification of a small one Section of the wall W and the bottom B of one Cup N, which is made of a hard material HS, e.g. Stole, existing structure through a micrometer-thick doping with an ion implant material H and one overlying top layer D is provided.
  • a hard material HS e.g. Stole
  • H ion implant material
  • Figure 3 shows an enlarged cross section in the Roll surface into it, the well N in known Way with an oxidic hard material HS from a There is a nickel matrix with a carbide insert on one Hard chrome layer is applied. The chrome surface is then by ion implantation with the implant material H and the top layer D.
  • Figure 4 shows an enlarged surface of the Hard material layer HS, which is provided with hard chrome. It clearly show the grain boundaries, which are small Form microcracks M. These micro cracks are caused by the High voltage implant closed.
  • Figure 5 shows another type of the known Roller surfaces in high magnification.
  • a ceramized surface made of chromium oxide for example provided with a well N by lasering.
  • the Laser beam is guided from well to well and melts the material with high energy and evaporates part of the same, so that the well N are formed.
  • they are Crater edges solidified unevenly from the melt, and many microcracks M are visible there.
  • microcracks are sufficient M to a great depth relative to the well structure solidified well surface. These micro cracks M are filled with the implant H.
  • the top layer D is shown, in particular the compatibility the color with the surface influenced favorably and you have a given adhesion to the ink gives.
  • the strengths of layers H and D are excessive shown.
  • Figure 7 shows one from left to right at an angle Deep grinding of a lasered Hard material layer HS. It can be seen that the microcracks M also in the low-lying areas about radially from extend the N cup. These micro cracks are going through the ion implantation filled and sealed. Furthermore gives the implant material H, D a relatively smooth Cell surface.

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Description

Die Erfindung betrifft eine Farbübertragungswalze mit einer mechanisch oder durch Laserung eingebrachten Oberflächenstruktur aus Farbübertragungsnäpfchen in einer mikroporösen, metallischen oder keramischen oder metallkeramischen Hartstoffschicht, sowie ein verfahren zu deren Herstellung.
Eine derartige Farbübertragungswalze ist beispielsweise aus der DE 40 07 130 A1 bekannt. Bei dieser sind in eine metallische Oberfläche Näpfchen eingeprägt, und ein dabei entstehender Grat abgetragen, und die Näpfchenoberfläche ist mit Hartstoffen, z.B. mit Hartchrom oder mit Siliziumcarbidkörnchen, in einer Nickelmatrix, zur Erhöhung der Abriebfestigkeit galvanisch beschichtet. Zusätzlich kann darauf eine dünne Hartchromschicht aufgetragen sein. Diese oberen Schichten sind jedoch stets von feinen Mikrorissen durchzogen, und es sind feine Poren mit Mikrometerabmessungen insbesondere an den Grenzen der eingelagerten Hartstoffkörner festzustellen, wodurch nur eine begrenzte Haftung derselben gegeben ist.
Weiterhin sind aus der Zeitschrift: Flexo, 1985, Vol. 10, No. 10; 45-50, Farbwalzen bekannt, deren Näpfchen in eine plasmagespritzte Hartkeramikschicht, z.B. Chromoxid (Cr203) eingelasert sind. Bei punktuellen Hochtemperaturbehandlung mit dem Laserstrahl und der darauffolgenden schnellen Abkühlung entstehen Mikrorisse und Mikroporen und starke Verwerfungen und Verspannungen im Gefüge, was die Abriebfestigkeit und Korrosionsfestigkeit verringert.
Es ist Aufgabe der Erfindung, die eingangs bezeichnete Farbübertragungswalze dahingehend zu verbessern, daß sie eine höhere Standzeit, einen geringeren Abrieb und eine geringere Korrosionsanfälligkeit aufweist.
Die Lösung besteht darin, daß oberflächliche Mikrorisse und Poren durch ein mit einem Hochspannungsplasma appliziertes Ionenimplantatmaterial geschlossen sind.
Ein erfindungsgemäßes Verfahren zur Behandlung der vorbekannten Walzen zur plasmaunterstützten Implantation des Verschließmaterials ist in den Ansprüchen 13 bis 17 angegeben.
Alle bisher bekannten mikrostruktuierten Farbübertragungswalzen eignen sich für die erfindungsgemäße Behandlung der Oberfläche mit Implantatmaterial und zwar sowohl bei der Neuproduktion als auch zur Nachbehandlung. Die bei der Implantation aufgebrachten Materialschichten haben eine zu den Näpfchenabmessungen vergleichsweise geringe Dicke von 1 - 2 µm, so daß das Näpfchenvolumen praktisch unverändert bleibt.
Als Stoffe zum Auffüllen und zum Schließen der Risse und Poren haben sich Kombinationen vierwertiger Stoffe mit Schwermetallen, insbes. das vierwertig Titan und das sechswertige Molybdän im Gewichtsverhältnis 70/30 bis 90/10, vorzugsweise 80/20, bewährt. Diese Metallionen dringen bis tief ins Innere von Mikrorissen und die Grenzschicht ein, die häufig an den Korngrenzen elektrolytisch aufgebrachter Schichten oder in gesputterten Schichten oder nach der Laserung auftreten. Der Verschluß und das Auffüllen der Risse erbringt insbesondere auch eine Erhöhung der Korrosionsbeständigkeit, da die Oberfläche glatt und dicht wird.
Die Implantation der Metellionen erfolgt in einer Stickstoffatmosphäre, so daß sich die Metalle zum Teil als Nitride damit verbinden und sehr harte Kristalline Strukturen bilden.
Vorteilhaft wird eine weitere abriebfeste Deckschicht von 0,05 - 1 µm, bevorzugt 0,1 µm Stärke aus einem Hartstoff in ähnlicher Weise implantiert. Es sind harte Metalloxide oder -nitride dazu vorgesehen. Zirkonoxid (Zr02) hat sich besonders bewährt, wozu die Implantation in einem Sauerstoffplasma vorgenommen wird. Diese Deckschicht wird insbesondere so gewählt, daß eine gewünschte Oberflächenaffinität zu der zu transportierenden und zu dosierenden Druckfarbe entsteht.
Außer einer Veredelung der Oberfläche mit Zirkonoxid sind auch erfolgreich Siliziumoxid-, Silizium- und Kohlenstoffschichten erzeugt und eingesetzt worden. Bei der Kohlenstoffbeschichtung hat sich ein Schmiereffekt gezeigt, der den Abrieb reduziert.
Die so vergüteten Oberflächen zeigen eine höhere Härte von 1400 - 166 HV gegenüber der der Farbteilchen, die unter 1200 HV liegt. Die unbehandelten Oberflächen von Chrom haben eine Härte von 600 - 800 HV, und Oberflächen von den Keramiken haben Härten von 900 - 1000 HV. Sie liegen somit i.a. unter der der Farbpartikel, und es tritt ein ständiger Verschleiß auf.
Die Implantationen erfolgen unter Hochspannung mit einer turbulenten Strömung des Plasmas bevorzugt in Stickstoff und/oder Sauerstoff. Als Spannung werden eintausend bis zehntausend Volt angelegt, und die Stromstärke wird so gewählt, daß bei mäßiger Erwärmung eine ausreichende Eindringtiefe der Ionen und eine Verankerung des Implantats in der Oberfläche erfolgt ohne diese zu verbrennen oder thermisch zu zerstören.
Einen Gasdruck von ca. 1 mbar hat sich als günstig erwiesen. Die Auftreffspannung der Ionen liegt bevorzugt im Bereich zwischen 600 V und 2kV.
Die Betriebswärme wird durch entsprechende Steuerung der Stromstärke und der Hochspannung so niedrig gehalten, daß keine merklichen thermischen Spannungen nach dem Abkühlen in der oberflächennahen Schicht entstehen. Es sind Temperaturen von 50 - 80° C vorgesehen. Deshalb können auch solche neuartigen Walzen nach der DE 44 26 485 mit Implantat vergütet werden, deren Hartstoffschicht von einem Kunststoffunterbau getragen ist. Insbes. ist die Hartstoffschicht über einer Metallschicht auf einem elastischen Kunststoffmantel aufgebracht ist, der aus mit Kunststofffasereinlagen armiertem Kunststoff besteht und mit einem elastischen Unterbau auf einen festen metallischen Walzenkern auswechselbar aufgezogen ist.
Vorteilhafte Ausgestaltungen sind anhand der Figuren 1 bis 7 dargestellt.
Fig. 1
zeigt eine vergrößerte Aufsicht auf eine gerasterte Walzenoberfläche;
Fig. 2
zeigt einen 1000-fach vergrößerten Schnitt durch das Gefüge unter einem geprägten Näpfchen;
Fig. 3
zeigt einen hochvergrößerten Schnitt durch ein Näpfchen mit einer Hartstoff-Metallmatrix-Beschichtung;
Fig. 4
zeigt in 100-facher Vergrößerung Mikrorisse entlang der Korngrenzen einer Walzenbeschichtung;
Fig. 5
zeigt eine Aufsicht 150-fach vergrößert auf eine gelaserte Hartkeramikoberfläche;
Fig. 6
zeigt einen Querschnitt zu Fig. 5 in 350-facher Vergrößerung;
Fig. 7
zeigt einen schräg in die Tiefe verlaufenden Anschliff zu Fig. 5.
Figur 1 zeigt eine vergrößerte Aufsicht auf einen Ausschnitt der Oberfläche einer Walze 1, die in einem vorgegebenen Raster R mit pyramidenstumpfförmigen Näpfchen N versehen ist. Zwischen den Näpfchen verbleibt ein kleiner Steg S und die schräggeneigten Wandungen W enden in einem flachen Boden B.
Figur 2 zeigt eine tausendfache Vergrößerung eines kleinen Ausschnittes der Wandung W und des Bodens B eines Näpfchens N, wobei das aus einem Hartstoff HS, z.B. Stahl, bestehende Gefüge durch eine mikrometerstarke Dotierung mit einem Ionenimplantatmaterial H und einer darüberliegende Deckschicht D versehen ist. Es ist verdeutlicht, daß der Hartstoff HS in seinem Gefüge durch die mechanische Bearbeitung sehr stark zerstört ist und oberflächlich eine große Rauhigkeit und Porosität aufweist, obwohl die Oberfläche vor der Ionenimplantation elektrolytisch poliert worden ist. Die Schichtstärken der Implantate H, D sind überhöht dargestellt; insbes. die implantierte oxydische Deckschicht D ist im allgemeinen wesentlich dünner als die nitrifizierte metallische Implantation H.
Figur 3 zeigt einen vergrößerten Querschnitt in die Walzenoberfläche hinein, wobei die Näpfchen N in bekannter Weise mit einem oxydischen Hartstoff HS aus einer Nickelmatrix mit Carbideinlage besteht, auf die eine Hartchromschicht aufgezogen ist. Die Chromoberflächer ist dann durch die Ionenimplantation mit dem Implantatmaterial H und der Deckschicht D versehen.
Figur 4 zeigt eine vergrößerte Oberfläche der Hartstoffschicht HS, die mit Hartchrom versehen ist. Es bilden sich deutlich die Korngrenzen ab, welche kleine Mikrorisse M bilden. Diese Mikrorisse werden durch das Hochspannungsimplantat geschlossen.
Figur 5 zeigt eine andere Art der bekannten Walzenoberflächen in starker Vergrößerung. Hierbei ist eine keramisierte Oberfläche beispielsweise aus Chromoxid durch eine Laserung mit Näpfchen N versehen. Der Laserstrahl wird von Näpfchen zu Näpfchen geführt und schmilzt mit hoher Energie das Material auf und verdampft einen Teil desselben, so daß sich die Näpfchen N bilden. Wie die Zeichnung nach einem Foto zeigt, sind die Kraterränder ungleichmäßig aus der Schmelze erstarrt, und es sind viele Mikrorisse M dort sichtbar.
Wie Figur 6 im Tiefenschnitt zeigt, reichen die Mikrorisse M bis in eine relativ zur Näpfchenstruktur große Tiefe der erstarrten Näpfchenoberfläche hinein. Diese Mikrorisse M sind mit dem Implantat H ausgefüllt. Auf dem Implantat H ist die Deckschicht D gezeigt, die insbes. die Verträglichkeit der Farbe mit der Oberfläche günstig beeinflußt und ihr eine vorgegebene Haftfähigkeit zur Druckfarbe verleiht. Die Stärken der Schichten H und D sind überhöht dargestellt.
Figur 7 zeigt einen von links nach rechts schräg in die Tiefe verlaufenden Schliff einer gelaserten Hartstoffschicht HS. Es zeigt sich, daß die Mikrorisse M auch in den tiefgelegenen Bereichen sich etwa radial von den Näpfchen N erstrecken. Diese Mikrorisse werden durch die Ionenimplantation aufgefüllt und abgedichtet. Außerdem ergibt das Implantatmaterial H, D eine relativ glatte Näpfchenoberfläche.

Claims (17)

  1. Farbübertragungswalze (1) mit einer mechanisch oder durch Laserung eingebrachten Oberflächenstruktur aus Farbübertragungsnäpfchen (N) in einer mikroporösen, metallischen oder keramischen oder metallkeramischen Hartstoffschicht (HS),
    dadurch gekennzeichnet, daß oberflächliche Mikrorisse (M) und Poren durch ein mit einem Hochspannungsplasma appliziertes Ionenimplantatmaterial (H) geschlossen sind.
  2. Farbübertragungswalze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Ionenimplantatmaterial (H) aus einem vierwertigen Stoff und mindestens einem Schwermetall besteht.
  3. Farbübertragungswalze nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß das Ionenimplantatmaterial (H) aus Titan und Molybdän im Verhältnis 70/30 bis 90/10 besteht.
  4. Farbübertragungswalze nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß das Ionenimplantatmaterial (H) mit einer verschleißfesten, dünnen Deckschicht (D) aus einem Hartstoff, insbesondere einem Metalloxid und/oder Metallnitrid, durch eine Ionenimplantation so belegt ist, daß die Deckschicht (D) eine vorgegebene Affinität zu einer mit der Druckwalze zu dosierenden Druckfarbe aufweist.
  5. Farbübertragungswalze nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht (D) eine Stärke von 0,05 - 1 µm, bevorzugt 0,1 µm, hat.
  6. Farbübertragungswalze nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß die Deckschicht (D) aus Zirkonoxid, Siliziumoxid, Silizium oder Kohlenstoff besteht.
  7. Farbübertragungswalze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Harstoffschicht (HS) aus geschliffenem und gefinischtem Chromoxid (Cr2O3) einer Stärke von 100 - 150 µm besteht und die Näpfchen (N) durch eine Lasergravur eingebracht und gefinischt sind und danach das Ionenimplantatmaterial (H) porenschließend eingebracht ist.
  8. Farbübertragungswalze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Hartstoffschicht (HS) aus einer plasmaabgeschiedenen Nickel-Chromlegierung 80/20 von ca. 100 µm Dicke besteht.
  9. Farbübertragungswalze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Hartstoffschicht (HS) aus Stahl, Kupfer oder Nickel besteht, das nach dem Einbringen der Näpfchen (N) und elektrolytischer Polierung dünn mit Hartchrom (HC) beschichtet ist.
  10. Farbübertragungswalze nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Hartstoffschicht (HS) aus Stahl, Kupfer oder Nickel besteht, das nach dem Einbringen der Näpfchen (N) elektrolytisch mit einer Metallmatrix unter Einlagerung von Hartstoffkörnern beschichtet ist.
  11. Farbübertragungswalze nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die Hartstoffkörner aus Siliciumcarbid bestehen und in einer Nickelmatrix eingelagert sind.
  12. Farbübertragungswalze nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Hartstoffschicht (HS) auf eine dünne metallische Zwischenschicht aufgebracht ist, die auf einem Kunststoffmantel, der Kunststofffasereinlagen enthält, aufgesputtert ist.
  13. Verfahren zu Herstellung einer hochabriebfesten und hochkorrosionsfesten Farbübertragungwalze, insbes. nach einem der vorstehenden Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Walze (1) nach dem Einbringen der Näpfchen (N) in einem ersten Implantationsschritt in einem Gasentladungsplasma bei einer Spannung von eintausend Volt bis zu zehntausend Volt bei einer Temperatur zwischen 50 - 80°C einer turbulenten Schwermetallionen-Implantation ausgesetzt wird, bis Mikrorisse (M) und Mikroporen der Oberfläche aufgefüllt sind und auf freier Oberfläche das Ionenimplantatmaterial (H) in einer Schichtstärke unter 1 µm aufgewachsen ist.
  14. Verfahren nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß als Ionen vier- und sechswertige Stoffe, insbes. Titan und Molybdän in einem Gewichtsverhältnis von 70/30 bis 90/10, dem Plasma zugeführt werden.
  15. Verfahren nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, daß die Gasentladung in Stickstoff oder Sauerstoff bei ca. 1 mbar Druck brennt.
  16. Verfahren nach einem der Ansprüche 13 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß dem ersten Implantationsschritt ein zweiter folgt, bei dem die Walze (1) in einem Gasentladungsplasma bei einer Spannung von eintausend bis zehntausend Volt mit einer Auftreffenergie von 600 - 2000 eV bei einer Temperatur zwischen 50 - 80°C einer turbulenten Metallionen, Metalloxid und/oder Metallnitrid-Implantation ausgesetzt wird, bis das Oxid oder Nitrid auf eine Schichtstärke von 0,05 bis 1 µm auf der Oberfläche aufgewachsen ist.
  17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß aus dem Gasentladungsplasma Zirkonoxid (Zr02), Siliziumoxid, Silizium oder Kohlensotff implantiert wird.
EP96107011A 1995-05-04 1996-05-03 Farbübertragungswalze mit Ionenimplantat Expired - Lifetime EP0748701B1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19516032 1995-05-04
DE19516032A DE19516032C2 (de) 1995-05-04 1995-05-04 Verfahren zur Oberflächenveredelung einer Farbübertragungswalze durch Ionenimplantation

Publications (3)

Publication Number Publication Date
EP0748701A2 EP0748701A2 (de) 1996-12-18
EP0748701A3 EP0748701A3 (de) 1997-11-12
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ES (1) ES2138263T3 (de)

Families Citing this family (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6786153B2 (en) * 2002-09-19 2004-09-07 Interflex Laser Engravers, Llc Printing rolls having wear indicators and methods for determining wear of printing and anilox rolls and sleeves
DE19840951A1 (de) * 1998-09-08 2000-03-09 Jagenberg Papiertech Gmbh Rakelstange für eine Beschichtungsvorrichtung
DE10222453A1 (de) * 2002-05-22 2003-12-04 Voith Paper Patent Gmbh Verfahren zur Oberflächenbehandlung eines Rakelelementes
DE102005030918A1 (de) * 2005-06-30 2007-01-04 Man Roland Druckmaschinen Ag Farbduktorwalze einer Rollendruckmaschine
DE102005062527A1 (de) 2005-12-16 2007-06-21 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Vorrichtung und Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Substraten
DE102005062528A1 (de) * 2005-12-16 2007-06-21 Gebr. Schmid Gmbh & Co. Vorrichtung und Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Substraten
DE102006003386A1 (de) * 2006-01-24 2007-07-26 Reichel, Walter, Dipl.-Ing. Vorrichtung und Verfahren zur Oberflächenbehandlung von Walzen in der Papierindustrie
DE102006005120A1 (de) 2006-02-04 2007-08-09 Man Roland Druckmaschinen Ag Farbduktorwalze einer Rollendruckmaschine
DE202009005879U1 (de) 2009-04-22 2009-07-02 Kurt Zecher Gmbh Farbübertragungswalze für Druckmaschinen
CN107419234B (zh) * 2017-07-22 2019-04-09 北京工商大学 一种耐磨抗菌的食品加工机械不锈钢部件及其制备工艺
CN107385405B (zh) * 2017-07-22 2019-04-09 北京工商大学 一种离子注入改性层深度可控的不锈钢部件及其制备工艺
CN118380337B (zh) * 2024-06-25 2024-09-06 日月新半导体(威海)有限公司 一种半导体晶片的封装结构及其形成方法

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6044394A (ja) * 1983-08-22 1985-03-09 Mitsubishi Heavy Ind Ltd インキロ−ラ
JPH07119151B2 (ja) * 1987-12-07 1995-12-20 富士写真フイルム株式会社 平版印刷版用支持体
EP0404973A1 (de) * 1989-06-27 1991-01-02 Hauzer Holding B.V. Verfahren und Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten
FI83439C (fi) * 1989-08-24 1991-07-10 Valmet Paper Machinery Inc Vals i pappersmaskin och foerfarande foer framstaellning av denna.
DE4007130C1 (de) * 1990-03-07 1991-06-27 Kurt Zecher Gmbh, 4790 Paderborn, De
DE4426485C1 (de) * 1994-07-26 1995-11-30 Zecher Gmbh Kurt Farbübertragungswalze mit austauschbarem Bezug

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