EP0196251B1 - Appareillage et installation de réalisation d'un dépôt métallique électrolytique d'épaisseur constante - Google Patents

Appareillage et installation de réalisation d'un dépôt métallique électrolytique d'épaisseur constante Download PDF

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EP0196251B1
EP0196251B1 EP86400498A EP86400498A EP0196251B1 EP 0196251 B1 EP0196251 B1 EP 0196251B1 EP 86400498 A EP86400498 A EP 86400498A EP 86400498 A EP86400498 A EP 86400498A EP 0196251 B1 EP0196251 B1 EP 0196251B1
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EP
European Patent Office
Prior art keywords
bath
rod
anode
plate
covers
Prior art date
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Expired - Lifetime
Application number
EP86400498A
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
EP0196251A1 (fr
Inventor
Michel Anzola
Daniel Lefevre
Patrick Massicot
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Commissariat à l'Énergie Atomique et Aux Énergies Alternatives
Original Assignee
Commissariat a lEnergie Atomique CEA
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Publication date
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Publication of EP0196251A1 publication Critical patent/EP0196251A1/fr
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Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C25—ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PROCESSES; APPARATUS THEREFOR
    • C25D—PROCESSES FOR THE ELECTROLYTIC OR ELECTROPHORETIC PRODUCTION OF COATINGS; ELECTROFORMING; APPARATUS THEREFOR
    • C25D7/00—Electroplating characterised by the article coated
    • C25D7/04—Tubes; Rings; Hollow bodies

Definitions

  • the electrolytic coatings are carried out on conductive parts at least on the surface, placed in baths of precise composition and connected to the negative pole of a direct current source.
  • the positive pole of the source is itself connected to conductive parts called anodes, immersed in the bath.
  • the orientation of the parts with respect to the current lines in the electrolytic bath does not lead to the deposition of an additional thickness in certain places of the part.
  • the orientation of the part does not favor any part of its periphery. This could be achieved by rotating the part on itself, but it would require complex installation.
  • the apparatus comprises means for simultaneously controlling the movement of each of the covers, these means being constituted by a plate which engages said covers and by a control rod fixed to said plate.
  • the anode is constituted by a crown and by a flat plate located in the center of the crown and electrically connected to the latter, the height of said crown being proportional to the length of the part to be treated.
  • the installation shown in FIG. 1 comprises a column 2 which supports an arm 4 cantilevered at the end of the column 2.
  • the column 2 is movable in rotation around its vertical axis. It is controlled in rotation by a device 6 shown diagrammatically, for example a motor driving a toothed wheel which drives a crown secured to the column 2.
  • the arm 4 can be raised and lowered by means of a raising and lowering device such as a jack 8.
  • a raising and lowering device such as a jack 8.
  • FIG. 1 the arm has been shown in the high position.
  • the arm 4 supports an apparatus, represented schematically and designated by the general reference 10, which will be described in more detail later.
  • This apparatus is mounted to rotate relative to the arm 4. It is rotated by a motor 12 connected to the apparatus 10 by a transmission device such as a chain or a belt 14.
  • the apparatus 10 supports a plurality of parts 16 which must be coated with an electrolytic metallic deposit. These pieces are elongated and have a shape of revolution.
  • the parts 16 can be immersed in successive baths 18, 20, 22, 24 and 26.
  • a rotation of the arm 4 makes it possible to pass from one bath to the other when this arm is raised.
  • Bath 18 is an anode pickling bath with a pad. It is constituted by sulfuric acid H2SO4 of concentration 2N.
  • the anode voltage when empty, that is to say when the parts 16 are not immersed, is 4 volts.
  • the bath 18 is followed by a rinsing bath 20 and then by an anodic electrochemical attack bath 22 with metal salts.
  • This last bath consists, in a known manner, for example of FR-A-1 564 575, of Li2 SO4 H2 O at a concentration of 255 g per liter and of H2SO4 at a concentration of 65 ml per liter.
  • the pH is between 0.5 and 1.
  • the temperature of the bath is equal to room temperature.
  • the anode current density J is equal to 4 amperes per square decimeter.
  • This electrochemical etching bath is followed by a rinsing bath 22, then a nickel-plating bath 24.
  • This bath contains 140 g per liter of nickel sulfate 7H2O and 160 g per liter of sodium sulfate 10H2O, 19 g / l of KCl, 37 g / l of H3BO4, 0.5 g / l of Duponol.
  • the pH is adjusted to 4.25 by H2SO4.
  • the temperature is 45 ° C and the current density J is 3 A / dm2.
  • FIG. 2 a detail view which shows in section the tank 27 containing the nickel plating bath 26 whose composition was given above.
  • An anode composed of two parts 28 and 30 is immersed in the bath.
  • the first part of anode 28 has the shape of a crown of rectangular section while the second part of anode 30 is a vertical plate placed in the center of the crown 28.
  • the anodes 28 and 30 are electrically connected to each other. the other by feet integral with a cross 32 comprising four horizontal branches located at 90 ° from one another.
  • the four feet of the anode 28 are connected to the tops of the branches of the cross 32 while the foot 31 of the anode 30 is fixed to the center of this cross.
  • the feet 31 are electrically isolated from the bath 26.
  • the anodes 28 and 30 are electrically connected to the positive terminal 59 of a direct current source by the wire 34.
  • the height of the anodes 28 and 30 is a function of the length of the parts to be treated. This is why only parts of equal length can be treated in the same operation.
  • the anodes 28 and 30 have a height which is slightly less than the length of the part to be treated.
  • Two superimposed crowns 28 fulfill the same function as an anode having a height equal to the sum of the heights of each of these anodes.
  • the apparatus designated by the reference 10 which makes it possible to immerse and remove the pieces 16 from the different baths (a single piece has been shown in FIG. 2), comprises a plate 36.
  • This plate is mounted to rotate about an axis A. It has eight holes 35 of square section distributed at 45 ° on a circle concentric with the axis A.
  • Support rods 38 having an upper end of square section, are engaged in the holes 35. This arrangement makes it possible to immobilize them in rotation (secondary).
  • the rods 38 are internally threaded at their two ends. These threads can be of the same diameter or of different diameters.
  • a screw 39 is engaged in the upper end of the thread of the rod 38.
  • This screw passes through a nut 40 fixed to the upper face of the plate 36, concentrically to the holes 35.
  • a lock nut 42 makes it possible to immobilize the screw 39 in rotation.
  • a thread provided at the lower part of the rod 38 is intended to receive a threaded end piece 44 formed on the part 16.
  • the part 16 is a sealing plug intended for an irradiation device. This shutter plug is also called a "thermowell".
  • the plate 36 being in the low position, the height of the rod 38 can be adjusted so that the shoulder 46 of the part is flush with the surface 48 of the bath.
  • the lock nut 42 is then blocked to immobilize the screw 39 in this position.
  • the nut 40 is electrically connected by means of a wire 50 to the negative terminal 53 of the DC source mentioned above. These wires 50 are covered with an insulating layer 52.
  • a clearance 52 is provided around each rod 38 on the underside of the plate 36.
  • a cover 54 comprising vents 55 is slidably mounted around the screw 38. The cover 54 can be moved between a low position, in which it is shown in FIG. 2, and a high position which it occupies when its upper part enters the clearance 52 concentric with the rod 38. In the embodiment described, the cover 54 is mounted with a slightly hard friction on the outside diameter of the rod 38 so that it remains in the position, high or low, in which it is placed, without any other fixing means.
  • FIG. 2 shows the particular means which make it possible to simultaneously raise or lower all of the covers, for example eight, of each of the parts to be coated.
  • Each cover 54 includes a flange 56 projecting externally.
  • Each flange 56 engages a plate for raising and lowering the covers 54.
  • the movement of the plate 58 is controlled by means of a control rod 60 fixed to said plate.
  • Each of the covers 54 has the function of avoiding the formation of an excess thickness of deposit at the level of the shoulder 46 on the part 16.
  • the covers are in the high position during the step corresponding to the surface preparation, it is that is to say when the parts to be treated are immersed in the baths 18, 20, 22, 24.
  • the covers are placed in the low position, as shown in FIG. 2.
  • a nickel deposit is made on a uranium or uranium alloy part.
  • gold, silver or chromium is made on a uranium or uranium alloy part.
  • silver or chromium is made on a uranium or uranium alloy part.
  • the thickness of the deposit will be between 50 and 100 micrometers. In the embodiment shown, a thickness of 60 micrometers is deposited with an accuracy of ⁇ 5 micrometers. It is therefore found that this thickness is perfectly uniform, all the more so since the temperature of the bath is quite low _ of the order of 60 ° C. _ and therefore does not deform the parts to be coated.
  • FIG. 3 shows a schematic perspective view which illustrates the distribution of the current lines between the anodes 28 and 30 immersed in the electrolytic bath 26 and eight pieces 16 distributed at 45 °.
  • the anode 30 has a rectangular section.
  • the short sides 30a of the rectangle have a dimension much smaller than the long sides 30b of the rectangle.
  • the current lines 59 are more spaced opposite the long sides 30b of the rectangle and the parts 16b.
  • the plate 36 is animated with a uniform rotational movement so that each of the pieces 16 is located alternately and for equal spaces of time opposite the short sides 30a and the long sides 30b of the rectangle, so as to obtain a uniform distribution of the deposit along a circumference of these parts.
  • This result is thus obtained in a simple manner without it being necessary to rotate each of the parts around its axis of revolution.
  • An overall rotation of the plate 36 is sufficient to ensure a uniform distribution of the nickel deposit over a set of eight parts.
  • the solution which would consist in rotating each of the parts to be coated by means of a particular motor would pose a problem of supplying the current because a movable contact would be necessary. Thanks to the invention, a single mobile contact is sufficient.
  • FIG. 4 shows a very schematic view of an irradiation device 66 for example by means of a source 72 of X-rays.
  • the source 72 is mounted in a cavity of a rotating barrel 71 which makes it possible to make pass the source from a first position shown in Figure 4 in which the source is in the storage position to a second position 72a from which it can be brought into a working position 72b, for example by means of a cane transfer 74.
  • a plug 16 can be brought by known means 80 into the orifice 76 of the shield 78.
  • the shutter plug 16 is made in depleted uranium because this metal has a very high mass and therefore has a high radiation absorption power.
  • the depleted uranium is fragile, it must be coated externally with a layer of a protective metal resistant to friction, for example nickel.
  • a protective metal resistant to friction for example nickel.
  • FIG. 6 a second application of a part of revolution 90 to be coated with a protective metal.
  • This part 90 is a conical positioner which can be positioned with great precision relative to a frame 92.
  • the positioner 90 supports a mirror 94 inclined at 45 °.
  • a radioactive source 96 is mounted on a support 98 whose position relative to the frame 92 must be adjusted.
  • the assembly also includes a collimator 100 and a target 102 located behind the collimator.
  • the position of the source 96 can be adjusted so that it is located exactly in the axis of the collimator 100.
  • the position adjustment is carried out by using the mirror 94 and observing the position of the source at through a reticle 104.
  • the positioner is sought by means of a fork 106 shown in phantom which allows it to be retracted, so that the source 96 comes into action.

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Description

  • Les revêtements électrolytiques sont effectués sur des pièces conductrices au moins en surface, placées dans des bains de composition précise et reliées au pôle négatif d'une source de courant continu. Le pôle positif de la source est lui-même relié à des pièces conductrices dites anodes, plongées dans le bain.
  • Pour que l'opération de dépôt s'effectue correctement et conduise à un revêtement de bonne qualité, c'est-à-dire notamment d'épaisseur constante et présentant une bonne adhérence, il est indispensable d'effectuer une préparation de la surface de la pièce. Cette préparation de surface doit décaper la pièce et éliminer toute couche étrangère qui se trouve normalement à la surface du métal de base: graisse, oxyde, calamine, etc.
  • Dans le cas de métaux courants tels que le fer, le cuivre ou leurs alliages, les procédés courants donnent des résultats satisfaisants. Mais ces procédés ne sont plus applicables lorsque le matériau à revêtir est un métal facilement oxydable ou corrodable car des couches d'oxydes ou de produits résultant du décapage subsistent en surface après le lavage final, C'est en particulier le cas de l'uranium allié ou non allié.
  • Pour des métaux de ce type, il est nécessaire d'utiliser un procédé de préparation de surface de pièces tel que celui qui est décrit dans le FR-A-1 564 575.
  • Toutefois, pour obtenir un dépôt métallique électrolytique d'épaisseur constante, d'autres conditions doivent encore être réunies.
  • Il est nécessaire que les pièces à revêtir soient transférées rapidement d'un bain dans un autre afin d'éviter leur oxydation au contact de l'air pendant la durée du transfert.
  • Il est nécessaire également que l'orientation des pièces par rapport aux lignes de courant dans le bain électrolytique ne conduise pas au dépôt d'une surépaisseur à certains endroits de la pièce. Pour cela, il est nécessaire que l'orientation de la pièce ne privilégie aucune partie de sa périphérie. Ceci pourrait être obtenu en faisant tourner la pièce sur elle-même, mais cela nécessiterait une installation complexe.
  • Enfin, il est nécessaire d'éviter les surépaisseurs qui pourraient se produire sur la pièce au niveau de la surface du bain d'électrolyte.
  • De plus, il est souhaitable que plusieurs pièces puissent être traitées simultanément afin de réduire la durée de traitement pour chaque pièce.
  • L'invention a pour objet une installation pour la réalisation d'un dépôt métallique d'épaisseur constante sur des pièces métalliques allongées de révolution, comportant,
    • disposés en cercle autour de l'axe d'une colonne tournante verticale (2), munie d'un bras radial (4), entraîné en rotation par la colonne (2):
      • un bain (18) de décapage anodique au tampon;
      • un bain de rinçage (20);
      • un bain (22) d'attaque électrochimique anodique par des sels métalliques;
      • un bain de rinçage (24);
      • un bac (27) contenant une quantité d'un électrolyte, une anode (28, 30) en forme de couronne de section circulaire (28), électriquement reliée à une plaque verticale (30) disposée au centre de la couronne, ladite anode étant immergée dans ledit électrolyte et reliée à la borne positive (59) d'une source de courant continu;
    • des moyens (6) de mise en rotation de la colonne (2) pour amener successivement au-dessus de chaque bain (18, 20, 22, 24, 27) un appareillage (10), suspendu à l'extrémité du bras radial (4), composé d'un plateau circulaire et horizontal (36) monté tournant autour d'un axe vertical (A) disposé en son centre, et comportant, répartis selon une circonférence concentrique à cet axe (A) une série de tiges périphériques (38) réglables en hauteur, chaque tige comportant un alésage apte à recevoir un embout fileté d'une pièce (16) à traiter, un cache (54) monté autour de chaque tige (38) et coulissant sur cette tige (38) entre une position haute et une position basse, des moyens (50) pour connecter chaque tige (38) à la borne négative (53) de la source de courant continu,
    • des moyens (8) pour monter et baisser ledit appareillage (10) par rapport à chacun de ces bains (18, 20, 22, 24) et au bac d'électrolyte (27).
  • De préférence encore, l'appareillage comporte des moyens pour commander simultanément le déplacement de chacun des caches, ces moyens étant constitués par une platine qui engage lesdits caches et par une tige de commande fixée à ladite platine.
  • L'invention concerne par ailleurs une installation pour la réalisation d'un dépôt métallique d'épaisseur constante sur des pièces métalliques allongées de révolution. Cette installation comporte:
    • un bain de décapage anodique au tampon;
    • un bain de rinçage;
    • un bain d'attaque électrochimique anodique par des sets métalliques;
    • un bain de rinçage;
    • un bac contenant une quantité d'un électrolyte, une anode de forme essentiellement circulaire étant immergée dans ledit électrolyte et reliée à la borne positive d'une source de courant continu;
    • des moyens pour amener un appareillage successivement au-dessus de chaque bain et au-dessus du bac d'électrolyte, et des moyens pour monter et baisser ledit appareillage par rapport à chacun de ces bacs et au bac d'électrolyte.
  • De préférence, l'anode est constituée par une couronne et par une plaque plane située au centre de la couronne et reliée électriquement à celle-ci, la hauteur de ladite couronne étant proportionnelle à la longueur de la pièce à traiter.
  • D'autres caractéristiques et avantages de l'invention apparaîtront à la lecture de la description qui suit et d'un exemple de réalisation donné à titre illustratif, en référence aux figures annexées, sur lesquelles:
    • la figure 1 est une vue en coupe d'un appareillage pour la réalisation d'un dépôt métallique électrolytique conforme à l'invention;
    • la figure 2 est une vue a plus grande échelle d'un bac pour le dépôt électrolytique qui fait partie de l'installation de la figure 1;
    • la figure 3 est une vue en perspective qui illustre le trajet des lignes de courant dans le bac pour le dépôt électrolytique de la figure 2;
    • la figure 4 est une vue schématique d'un dispositif d'irradiation comportant un obturateur revêtu d'un dépôt électrolytique dans une installation conforme à l'invention;
    • la figure 5 est une vue à échelle agrandie de l'obturateur du dispositif d'irradiation représenté sur la figure 4;
    • la figure 6 est une vue schématique qui illustre un second exemple d'application d'une pièce de révolution allongée revêtue d'un dépôt métallique électrolytique d'une installation conforme à l'invention.
  • L'installation représentée sur la figure 1 comporte une colonne 2 qui supporte un bras 4 monté en porte-à-faux à l'extrémité de la colonne 2. La colonne 2 est mobile en rotation autour de son axe vertical. Elle est commandée en rotation par un dispositif 6 représenté schématiquement, par exemple un moteur entraînant une roue dentée qui entraîne une couronne solidaire de la colonne 2.
  • Le bras 4 peut être soulevé et abaissé au moyen d'un dispositif de monte et baisse tel qu'un vérin 8. Sur la figure 1, le bras a été représenté en position haute.
  • Le bras 4 supporte un appareillage, représenté schématiquement et désigné par la référence générale 10, qui sera décrit plus en détail ultérieurement. Cet appareillage est monté tournant par rapport au bras 4. Il est entraîné en rotation par un moteur 12 relié à l'appareillage 10 par un dispositif de transmission tel qu'une chaîne ou une courroie 14. L'appareillage 10 supporte une pluralité de pièces 16 qui doivent être revêtues d'un dépôt métallique électrolytique. Ces pièces sont allongées et présentent une forme de révolution.
  • Grâce au dispositif de monte-et-baisse 8, les pièces 16 peuvent être plongées dans des bains successifs 18, 20, 22, 24 et 26. Une rotation du bras 4 permet de passer d'un bain à l'autre lorsque ce bras est relevé.
  • Le bain 18 est un bain de décapage anodique au tampon. Il est constitué par de l'acide sulfurique H₂SO₄ de concentration 2N. La tension anodique a vide, c'est-à-dire lorsque les pièces 16 ne sont pas immergées, est de 4 volts.
  • Le bain 18 est suivi d'un bain de rinçage 20 puis d'un bain 22 d'attaque électrochimique anodique par des sels métalliques. Ce dernier bain est constitué, de manière connue, par exemple du FR-A-1 564 575, de Li₂ SO₄ H₂ O à une concentration de 255 g par litre et de H₂SO₄ à une concentration de 65 ml par litre. Le pH est compris entre 0,5 et 1. La température du bain est égale à la température ambiante. La densité de courant anodique J est égale à 4 Ampères par décimètre carré.
  • Ce bain d'attaque électrochimique est suivi d'un bain de rinçage 22, puis d'un bain de nickelage 24. Ce bain contient 140 g par litre de sulfate de nickel 7H₂O et 160 g par litre de sulfate de sodium 10H₂O, 19 g/l de KCl, 37 g/l de H₃BO₄, 0,5 g/l de Duponol. Le pH est ajusté à 4,25 par H₂SO₄. La température est de 45°C et la densité de courant J est de 3 A/dm².
  • On a représenté sur la figure 2 une vue de détail qui représente en section le bac 27 contenant le bain de nickelage 26 dont la composition a été donnée précédemment. Une anode composée de deux parties 28 et 30 est immergée dans le bain. La première partie d'anode 28 présente la forme d'une couronne de section rectangulaire tandis que la deuxième partie d'anode 30 est une plaque verticale disposée au centre de la couronne 28. Les anodes 28 et 30 sont reliées électriquement l'une à l'autre par des pieds solidaires d'une croix 32 comportant quatre branches horizontales situées à 90° l'une de l'autre. Les quatre pieds de l'anode 28 sont reliés aux sommets des branches de la croix 32 tandis que le pied 31 de l'anode 30 est fixé au centre de cette croix. Les pieds 31 sont isolés électriquement du bain 26. Les anodes 28 et 30 sont reliées électriquement à la borne positive 59 d'une source de courant continu par le fil 34.
  • La hauteur des anodes 28 et 30 est fonction de la longueur des pièces à traiter. C'est pourquoi on ne peut traiter en une même opération que des pièces de longueur égale. Les anodes 28 et 30 comportent une hauteur qui est légèrement inférieure à la longueur de la pièce a traiter. Deux couronnes 28 superposées remplissent la même fonction qu'une anode ayant une hauteur égale à la somme des hauteurs de chacune de ces anodes.
  • L'appareillage désigné par la référence 10, qui permet de plonger et de sortir les pièces 16 des différents bains (une seule pièce a été représentée sur la figure 2), comporte un plateau 36. Ce plateau est monté tournant autour d'un axe A. Il comporte huit trous 35 de section carrée répartis à 45° sur un cercle concentrique à l'axe A.
  • Des tiges de support 38, comportant une extrémité supérieure de section carrée, sont engagées dans les trous 35. Cette disposition permet de les immobiliser en rotation (secondaire).
  • Les tiges 38 sont filetées intérieurement à leurs deux extrémités. Ces filetages peuvent être de même diamètre ou de diamètres différents.
  • Une vis 39 est engagée dans l'extrémité supérieure du filetage de la tige 38. Cette vis traverse un écrou 40 fixé à la face supérieure du plateau 36, concentriquement aux trous 35. En serrant ou en desserrant la vis 39, on fait varier la hauteur de la tige 38, ce qui permet de régler la hauteur de cette dernière.
  • Un contre-écrou 42 permet d'immobiliser en rotation la vis 39. Un filetage prévu à la partie inférieure de la tige 38 est destiné à recevoir un embout fileté 44 formé sur la pièce 16. Dans l'exemple de réalisation représenté, comme on le décrira plus en détail ultérieurement, la pièce 16 est un bouchon obturateur destiné à un dispositif d'irradiation. Ce bouchon obturateur est encore appelé "doigt de gant". Le plateau 36 étant en position basse, on peut régler la hauteur de la tige 38 de manière que l'épaulement 46 de la pièce affleure la surface 48 du bain. Le contre-écrou 42 est alors bloqué pour immobiliser la vis 39 dans cette position. On remarque par ailleurs que l'écrou 40 est relié électriquement au moyen d'un fil 50 à la borne négative 53 de la source de courant continu mentionnée précédemment. Ces fils 50 sont recouverts d'une couche d'isolant 52. Un dégagement 52 est prévu autour de chaque tige 38 sur la face inférieure du plateau 36. Un cache 54 comportant des évents 55 est monté coulissant autour de la vis 38. Le cache 54 peut être déplacé entre une position basse, dans laquelle il est représenté sur la figure 2, et une position haute qu'il occupe lorsque sa partie supérieure pénètre dans le dégagement 52 concentrique à la tige 38. Dans l'exemple de réalisation décrit, le cache 54 est monté avec un frottement légèrement dur sur le diamètre extérieur de la tige 38 de telle manière qu'il reste dans la position, haute ou basse, dans laquelle on le place, sans autre moyen de fixation.
  • On a représenté sur la figure 2 les moyens particuliers qui permettent de lever ou d'abaisser simultanément l'ensemble des caches, par exemple huit, de chacune des pièces à revêtir. Chaque cache 54 comporte une collerette 56 faisant saillie extérieurement. Chaque collerette 56 engage une platine de montée et de descente des caches 54. Le mouvement de la platine 58 est commandé au moyen d'une tige de commande 60 fixée à ladite platine.
  • Chacun des caches 54 a pour fonction d'éviter la formation d'une surépaisseur de dépôt au niveau de l'épaulement 46 sur la pièce 16. Les caches sont en position haute pendant l'étape correspondant à la préparation de surface, c'est-à-dire lorsque les pièces à traiter sont immergées dans les bains 18, 20, 22, 24. Pendant l'opération de nickelage, les caches sont placés en position basse, comme représenté sur la figure 2.
  • Dans l'exemple de réalisation représenté, on effectue un dépôt de nickel sur une pièce en uranium ou en alliage d'uranium. Toutefois, on pourrait également effectuer un dépôt d'or, d'argent ou de chrome.
  • Dans la majorité des cas, l'épaisseur de dépôt sera comprise entre 50 et 100 micromètres. Dans l'exemple de réalisation représenté, on dépose une épaisseur de 60 micromètres avec une précision de ± 5 micromètres. On constate donc que cette épaisseur est parfaitement uniforme, ceci d'autant plus que la tempéture du bain est assez basse _ de l'ordre de 60°C _ et par conséquent, ne déforme pas les pièces à revêtir.
  • On a représenté sur la figure 3 une vue schématique en perspective qui illustre la répartition des lignes de courant entre les anodes 28 et 30 immergées dans le bain électrolytique 26 et huit pièces 16 réparties à 45°. L'anode 30 présente une section rectangulaire. Les petits côtés 30a du rectangle présentent une dimension nettement inférieure aux grands côtés 30b du rectangle. On remarque une concentration des lignes de courant 61, schématisées en traits pointillés, entre l'électrode 30 et les parties 16a des pièces 16, au voisinage de ces petits côtés 30a. En revanche, les lignes de courant 59 sont plus espacées en regard des grands côtés 30b du rectangle et des parties 16b. C'est pourquoi le plateau 36 est animé d'un mouvement de rotation uniforme de manière à ce que chacune des pièces 16 soit située alternativement et pendant des espaces de temps égaux en regard des petits côtés 30a et des grands côtés 30b du rectangle, de manière à obtenir une répartition uniforme du dépôt selon une circonférence de ces pièces. Ce résultat est ainsi obtenu de manière simple sans qu'il soit nécessaire de faire tourner chacune des pièces autour de son axe de révolution. Une rotation globale du plateau 36 suffit pour assurer une répartition uniforme du dépôt de nickel sur un ensemble de huit pièces. D'autre part, la solution qui consisterait à mettre en rotation chacune des pièces à revêtir au moyen d'un moteur particulier poserait un problème d'amenée du courant parce qu'un contact mobile serait nécessaire. Grâce à l'invention, un seul contact mobile est suffisant.
  • On a représenté sur la figure 4 une vue très schématique d'un dispositif 66 d'irradiation par exemple au moyen d'une source 72 de rayons X. La source 72 est montée dans une cavité d'un barillet tournant 71 qui permet de faire passer la source d'une première position représentée sur la figure 4 dans laquelle la source est en position de stockage à une deuxième position 72a à partir de laquelle elle peut être amenée dans une position de travail 72b, par exemple au moyen d'une canne de transfert 74. Afin d'éviter tout danger d'irradiation accidentelle, un bouchon 16 peut être amené par des moyens connus 80 dans l'orifice 76 du blindage 78. Le bouchon obturateur 16 est réalisé en uranium appauvri car ce métal présente une masse très élevée et possède par conséquent un pouvoir d'absorption des radiations élevé. Cependant, comme l'uranium appauvri est fragile, il doit être revêtu extérieurement d'une couche d'un métal protecteur résistant au frottement, par exemple le nickel. L'installation réalisée conformément à L'invention qui a été décrite en référence aux figures 1 à 3 permet de réaliser un dépôt de nickel parfaitement homogène sur le bouchon obturateur 16. Comme on peut le remarquer sur la figure 5, l'embout fileté 44 du bouchon 16 permet sa manipulation au moyen d'une canne de transfert 84 faisant partie du dispositif 80.
  • On a représenté sur la figure 6 une deuxième application d'une pièce de révolution 90 devant être revêtue d'un métal protecteur. Cette pièce 90 est un positionneur conique qui peut être positionné avec une grande précision par rapport à un bâti 92. Le positionneur 90 supporte un miroir 94 incliné à 45°. Une source radioactive 96 est montée sur un support 98 dont la position par rapport au bâti 92 doit être réglée. L'ensemble comporte encore un collimateur 100 et une cible 102 située derrière le collimateur. On peut régler la position de la source 96 de telle manière qu'elle soit située exactement dans l'axe du collimateur 100. Pour cela, on effectue le réglage de position en se servant du miroir 94 et en observant la position de la source à travers un réticule 104. Lorsque la position correcte est obtenue, on vient chercher le positionneur au moyen d'une fourchette 106 représentée en traits mixtes qui permet de L'escamoter, de sorte que la source 96 entre en action.

Claims (4)

1. Installation pour la réalisation d'un dépôt métallique d'épaisseur constante sur des pièces métalliques allongées de révolution, comportant,
- disposés en cercle autour de l'axe d'une colonne tournante verticale (2), munie d'un bras radial (4), entraîné en rotation par la colonne (2):
- un bain (18) de décapage anodique au tampon;
- un bain de rinçage (20);
- un bain (22) d'attaque électrochimique anodique par des sels métalliques;
- un bain de rinçage (24);
- un bac (27) contenant une quantité d'un électrolyte, une anode (28, 30) en forme de couronne de section circulaire (28), électriquement reliée à une plaque verticale (30) disposée au centre de la couronne, ladite anode étant immergée dans ledit électrolyte et reliée à la borne positive (59) d'une source de courant continu;
- des moyens (6) de mise en rotation de la colonne (2) pour amener successivement au-dessus de chaque bain (18, 20, 22, 24, 27) un appareillage (10), suspendu à l'extrémité du bras radial (4), composé d'un plateau circulaire et horizontal (36) monté tournant autour d'un axe vertical (A) disposé en son centre, et comportant, répartis selon une circonférence concentrique à cet axe (A) une série de tiges périphériques (38) réglables en hauteur, chaque tige comportant un alésage apte à recevoir un embout fileté d'une pièce (16) à traiter, un cache (54) monté autour de chaque tige (38) et coulissant sur cette tige (38) entre une position haute et une position basse, des moyens (50) pour connecter chaque tige (38) à la borne négative (53) de la source de courant continu,
- des moyens (8) pour monter et baisser ledit appareillage (10) par rapport à chacun de ces bains (18, 20, 22, 24) et au bac d'électrolyte (27).
2. Installation selon la revendication 1, caractérisée en ce qu'elle comporte des moyens pour commander simultanément le déplacement de chacun des caches (54), ces moyens étant constitués par une platine (58) qui engage lesdits caches (54) et par une tige de commande (60) fixée à ladite platine.
3. Installation selon l'une quelconque des revendications 1 et 2, caractérisée en ce que les caches et le plateau sont en Lucoflex®.
4. Application de l'installation selon l'une quelconque des revendications 1 à 3 au cas où la pièce à traiter (16) est en alliage d'uranium ou en uranium non allié, et le métal déposé sur la pièce à traiter est le nickel.
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