EA021766B1 - Способ и устройство для нанесения покрытия на стеклянную подложку - Google Patents

Способ и устройство для нанесения покрытия на стеклянную подложку Download PDF

Info

Publication number
EA021766B1
EA021766B1 EA201171457A EA201171457A EA021766B1 EA 021766 B1 EA021766 B1 EA 021766B1 EA 201171457 A EA201171457 A EA 201171457A EA 201171457 A EA201171457 A EA 201171457A EA 021766 B1 EA021766 B1 EA 021766B1
Authority
EA
Eurasian Patent Office
Prior art keywords
glass substrate
glass
coating
droplets
paragraphs
Prior art date
Application number
EA201171457A
Other languages
English (en)
Other versions
EA201171457A1 (ru
Inventor
Маркку Раяла
Сами Кауппинен
Original Assignee
Бенек Ой
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Бенек Ой filed Critical Бенек Ой
Publication of EA201171457A1 publication Critical patent/EA201171457A1/ru
Publication of EA021766B1 publication Critical patent/EA021766B1/ru

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C17/00—Surface treatment of glass, not in the form of fibres or filaments, by coating
    • C03C17/001—General methods for coating; Devices therefor
    • C03C17/002—General methods for coating; Devices therefor for flat glass, e.g. float glass
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/448—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials
    • C23C16/4486—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for generating reactive gas streams, e.g. by evaporation or sublimation of precursor materials by producing an aerosol and subsequent evaporation of the droplets or particles
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/455—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for introducing gases into reaction chamber or for modifying gas flows in reaction chamber
    • C23C16/45595—Atmospheric CVD gas inlets with no enclosed reaction chamber
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/46—Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating characterised by the method used for heating the substrate
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C03—GLASS; MINERAL OR SLAG WOOL
    • C03C—CHEMICAL COMPOSITION OF GLASSES, GLAZES OR VITREOUS ENAMELS; SURFACE TREATMENT OF GLASS; SURFACE TREATMENT OF FIBRES OR FILAMENTS MADE FROM GLASS, MINERALS OR SLAGS; JOINING GLASS TO GLASS OR OTHER MATERIALS
    • C03C2218/00—Methods for coating glass
    • C03C2218/10—Deposition methods
    • C03C2218/15—Deposition methods from the vapour phase
    • C03C2218/151—Deposition methods from the vapour phase by vacuum evaporation

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Dispersion Chemistry (AREA)
  • Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
  • Geochemistry & Mineralogy (AREA)
  • Surface Treatment Of Glass (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Abstract

Изобретение относится к способу для нанесения покрытия поверхности (8) стеклянной подложки (6) при нормальном давлении воздуха, при котором по меньшей мере один жидкий исходный материал распыляют каплями (12), образованные капли (12) направляют к поверхности (8), подлежащей покрытию. Образованные капли (12) испаряются, по существу, вблизи поверхности (8), подлежащей покрытию, до их вступления в контакт с этой поверхностью, благодаря подаче в зону покрытия тепловой энергии, необходимой для испарения капель (12), при помощи стеклянной подложки (6).

Description

(57) Изобретение относится к способу для нанесения покрытия поверхности (8) стеклянной подложки (6) при нормальном давлении воздуха, при котором по меньшей мере один жидкий исходный материал распыляют каплями (12), образованные капли (12) направляют к поверхности (8), подлежащей покрытию. Образованные капли (12) испаряются, по существу, вблизи поверхности (8), подлежащей покрытию, до их вступления в контакт с этой поверхностью, благодаря подаче в зону покрытия тепловой энергии, необходимой для испарения капель (12), при помощи стеклянной подложки (6).
021766 Β1

Claims (24)

1. Способ нанесения покрытия на стеклянную подложку в камере осаждения при нормальном давлении воздуха, при котором стеклянную подложку или поверхность стеклянной подложки нагревают и по меньшей мере один жидкий исходный материал распыляют каплями, образованные капли направляют к поверхности, подлежащей покрытию, и подвергают испарению, по существу, вблизи поверхности, подлежащей покрытию в камере осаждения, таким образом, что компоненты исходного материала вступают в реакцию в газовой фазе друг с другом и/или с материалом стеклянной подложки на поверхности стеклянной подложки в камере осаждения для формирования покрытия, отличающийся тем, что способ включает нагрев стеклянной подложки или поверхности стеклянной подложки до подачи стеклянной подложки в камеру осаждения и подачу тепловой энергии, необходимой для испарения капель, в зону покрытия в камере осаждения при помощи стеклянной подложки.
2. Способ по п.1, отличающийся тем, что стеклянную подложку или, по меньшей мере, поверхность стеклянной подложки нагревают после покрытия.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что стеклянную подложку подают для покрытия непосредственно после изготовления стеклянной подложки или после стадии изготовления стеклянной подложки, при котором стеклянная подложка обладает тепловой энергией, необходимой для испарения капель, по существу, вблизи поверхности, подлежащей покрытию.
4. Способ по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что покрытие на поверхности, подлежащей покрытию, образуется при вступлении в реакцию одного или более испаренных исходных материалов с подлежащей покрытию поверхностью стеклянной подложки.
5. Способ по п.4, отличающийся тем, что покрытие на поверхности, подлежащей покрытию, образуется при вступлении в реакцию друг с другом двух или более исходных материалов.
6. Способ по любому из пп.4, 5, отличающийся тем, что покрытие на поверхности, подлежащей покрытию, образуется при вступлении в реакцию с этой поверхностью одного или более продуктов реакции, образованных в результате реакции компонентов по меньшей мере одного испаренного исходного
- 5 021766 материала друг с другом.
7. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что один или более испаренных исходных материалов вступают в реакцию с образованием частиц, эти частицы направляют к поверхности, подлежащей покрытию.
8. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что средний диаметр образованных капель составляет менее 10 мкм.
9. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что средний диаметр образованных капель составляет приблизительно 3 мкм.
10. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что распределение по размеру образованных капель составляет от 1 до 10 мкм.
11. Способ по любому из предшествующих пунктов, отличающийся тем, что стеклянная подложка является листовым стеклом или другим стеклянным продуктом.
12. Способ по любому из пп.1-10, отличающийся тем, что наносят покрытие на листовое стекло на линии изготовления листового стекла, и/или на линии закалки листового стекла, и/или на стеклянные подложки на линии изготовления стеклянных подложек для фотогальванических элементов.
13. Устройство для осуществления способа по п.1, содержащее по меньшей мере одно средство (14) нагрева для нагрева стеклянной подложки (6) или поверхностного слоя стеклянной подложки (6), камеру (2) осаждения, имеющую по меньшей мере один распылитель (10) для распыления каплями (12) по меньшей мере одного жидкого исходного материала, используемого для покрытия стеклянной подложки (6), и направления капель (12) к подлежащей покрытию поверхности (8) стеклянной подложки (6) таким образом, что капли подвергают испарению, по существу, вблизи поверхности (8), подлежащей покрытию, и компоненты исходных материалов вступают в реакцию в газовой фазе друг с другом и/или с материалом стеклянной подложки на поверхности стеклянной подложки в камере (2) осаждения для формирования покрытия, отличающееся тем, что по меньшей мере одно средство (14) нагрева расположено перед входом в камеру (2) осаждения и выполнено с возможностью нагрева стеклянной подложки (6) или поверхностного слоя стеклянной подложки (6) до подачи подложки в камеру (2) осаждения для обеспечения подачи тепловой энергии, необходимой для испарения капель (12), в камеру (2) осаждения при помощи стеклянной подложки.
14. Устройство по п.13, отличающееся тем, что средство (14) нагрева выполнено с возможностью подачи количества тепловой энергии к стеклянной подложке (6) или к поверхностному слою стеклянной подложки (6), по существу, необходимого для испарения капель (12).
15. Устройство по п.13 или 14, отличающееся тем, что по меньшей мере одно средство (14) нагрева выполнено с возможностью нагрева стеклянной подложки (6) или поверхностного слоя стеклянной подложки (6) после удаления подложки из камеры (2) осаждения.
16. Устройство по любому из пп.13-15, отличающееся тем, что средства (14) нагрева содержат одно или более средств, выбранных из пламени, печей, резисторных нагревателей или потоков нагревающего газа, для нагрева стеклянной подложки (6) или, по меньшей мере, подлежащей покрытию поверхности (8) стеклянной подложки (6).
17. Устройство по любому из пп.13-16, отличающееся тем, что камера (2) осаждения выполнена с возможностью нанесения покрытия на стеклянную подложку (6), по существу, в изоляции от окружающей атмосферы.
18. Устройство по любому из пп.13-17, отличающееся тем, что выполнено с возможностью нанесения покрытия на стеклянную подложку (6), непрерывно движущуюся через камеру (2) осаждения.
19. Устройство по любому из пп.13-18, отличающееся тем, что выполнено с возможностью работы в периодическом режиме.
20. Устройство по любому из пп.13-19, отличающееся тем, что распылитель (10) выполнен с возможностью получения капель (12) со средним диаметром менее 3 мкм.
21. Устройство по любому из пп.13-20, отличающееся тем, что распылитель (10) выполнен с возможностью получения капель (12) со средним диаметром менее 1 мкм.
22. Устройство по любому из пп.13-21, отличающееся тем, что распылитель (10) выполнен с возможностью получения капель (12), имеющих распределение по размеру от 1 до 10 мкм.
23. Устройство по любому из пп.13-22, отличающееся тем, что стеклянная подложка (6) является листовым стеклом или другим стеклянным продуктом.
24. Устройство по любому из пп.13-23, отличающееся тем, что установлено на линии изготовления листового стекла, и/или на линии закалки листового стекла, и/или на линии изготовления стеклянных подложек для фотогальванических элементов.
- 6 021766
Фиг. 3
- 7 021766
EA201171457A 2009-06-10 2010-06-08 Способ и устройство для нанесения покрытия на стеклянную подложку EA021766B1 (ru)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FI20095651A FI20095651A0 (fi) 2009-06-10 2009-06-10 Menetelmä ja laitteisto lasisubstraatin pinnoittamiseksi
PCT/FI2010/050469 WO2010142847A2 (en) 2009-06-10 2010-06-08 Method and apparatus for coating glass substrate

Publications (2)

Publication Number Publication Date
EA201171457A1 EA201171457A1 (ru) 2012-05-30
EA021766B1 true EA021766B1 (ru) 2015-08-31

Family

ID=40825357

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
EA201171457A EA021766B1 (ru) 2009-06-10 2010-06-08 Способ и устройство для нанесения покрытия на стеклянную подложку

Country Status (8)

Country Link
US (1) US8642120B2 (ru)
EP (1) EP2440502A2 (ru)
JP (1) JP2012529417A (ru)
CN (1) CN102459109A (ru)
EA (1) EA021766B1 (ru)
FI (1) FI20095651A0 (ru)
TW (1) TWI499573B (ru)
WO (1) WO2010142847A2 (ru)

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FI20106088A0 (fi) * 2010-10-21 2010-10-21 Beneq Oy Pinnankäsittelylaite ja -menetelmä
EP3337771A1 (en) 2015-08-21 2018-06-27 Corning Incorporated Methods and apparatus for processing glass
DE102016102408A1 (de) * 2015-12-04 2017-06-08 Ernst Pennekamp Gmbh & Co. Ohg Vorrichtung zur Oberflächenbehandlung von Glaswaren und Verfahren hierzu

Citations (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2564708A (en) * 1947-09-03 1951-08-21 Corning Glass Works Heat screen
US4232065A (en) * 1979-01-31 1980-11-04 Ball Corporation Aqueous metal coordination compounds as protective coatings for glass
US4278735A (en) * 1979-01-31 1981-07-14 Ball Corporation Aqueous metal coordination compounds as protective coatings for glass
JPS5696749A (en) * 1979-12-28 1981-08-05 Central Glass Co Ltd Preparation of heat radiation reflecting glass
US4414015A (en) * 1980-06-20 1983-11-08 Bfg Glassgroup Process and apparatus for forming a metal or metal compound coating
US5882368A (en) * 1997-02-07 1999-03-16 Vidrio Piiano De Mexico, S.A. De C.V. Method for coating glass substrates by ultrasonic nebulization of solutions
EP1926109A1 (en) * 2005-09-13 2008-05-28 Fujikura, Ltd. Film forming apparatus and method of film formation

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2110622A5 (ru) * 1970-10-23 1972-06-02 Commissariat Energie Atomique
US4022601A (en) * 1975-06-02 1977-05-10 Ppg Industries, Inc. Method and apparatus for coating a glass substrate
GB2185249B (en) * 1985-12-20 1989-10-18 Glaverbel Apparatus for and process of coating glass
US4735861A (en) 1987-07-13 1988-04-05 Ford Motor Company Coated glass substrate
US5445324A (en) * 1993-01-27 1995-08-29 The United States Of America As Represented By The United States Department Of Energy Pressurized feed-injection spray-forming apparatus
GB9900955D0 (en) * 1999-01-15 1999-03-10 Imperial College Material deposition
JP3745959B2 (ja) * 2000-12-28 2006-02-15 セイコーエプソン株式会社 シリコン薄膜パターンの形成方法
US6635307B2 (en) * 2001-12-12 2003-10-21 Nanotek Instruments, Inc. Manufacturing method for thin-film solar cells
JP4411901B2 (ja) * 2003-08-11 2010-02-10 セイコーエプソン株式会社 霧化装置
US7871664B2 (en) * 2006-03-23 2011-01-18 Guardian Industries Corp. Parabolic trough or dish reflector for use in concentrating solar power apparatus and method of making same

Patent Citations (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2564708A (en) * 1947-09-03 1951-08-21 Corning Glass Works Heat screen
US4232065A (en) * 1979-01-31 1980-11-04 Ball Corporation Aqueous metal coordination compounds as protective coatings for glass
US4278735A (en) * 1979-01-31 1981-07-14 Ball Corporation Aqueous metal coordination compounds as protective coatings for glass
JPS5696749A (en) * 1979-12-28 1981-08-05 Central Glass Co Ltd Preparation of heat radiation reflecting glass
US4323598A (en) * 1979-12-28 1982-04-06 Nissan Motor Co., Ltd. Method of coating glass surface with heat-reflecting metal oxide film
US4414015A (en) * 1980-06-20 1983-11-08 Bfg Glassgroup Process and apparatus for forming a metal or metal compound coating
US5882368A (en) * 1997-02-07 1999-03-16 Vidrio Piiano De Mexico, S.A. De C.V. Method for coating glass substrates by ultrasonic nebulization of solutions
EP1926109A1 (en) * 2005-09-13 2008-05-28 Fujikura, Ltd. Film forming apparatus and method of film formation

Also Published As

Publication number Publication date
TW201103877A (en) 2011-02-01
US8642120B2 (en) 2014-02-04
WO2010142847A2 (en) 2010-12-16
TWI499573B (zh) 2015-09-11
CN102459109A (zh) 2012-05-16
EA201171457A1 (ru) 2012-05-30
WO2010142847A3 (en) 2011-05-26
FI20095651A0 (fi) 2009-06-10
EP2440502A2 (en) 2012-04-18
JP2012529417A (ja) 2012-11-22
US20120070579A1 (en) 2012-03-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101119863B1 (ko) 대기압 화학 기상 증착
TW200712258A (en) Method for microstructure control of ceramic thermal spray coating
JP2007517647A5 (ru)
JP2007077435A (ja) 成膜装置
JP2015505291A (ja) 合成石英ガラスの製造方法
EA018506B1 (ru) Устройство для получения аэрозоля, способ и устройство для покрытия стекла
EA021766B1 (ru) Способ и устройство для нанесения покрытия на стеклянную подложку
TW201143911A (en) Coating method and apparatus
JP5730215B2 (ja) ガラスをコーティングする方法及び装置
EP0130916A1 (fr) Procédé pour réaliser des dépôts bioactifs de phosphates calciques et produits obtenus
WO2016165553A1 (zh) 蒸镀方法和蒸镀装置
CN207357482U (zh) 一种超声波雾化镀膜装置
WO2012049922A1 (ja) 製膜装置及び製膜方法
JP2007077436A (ja) 成膜装置
CN103814266A (zh) 干燥被施用于基底的流体膜的方法和装置
JP4166062B2 (ja) 大気開放型ｃｖｄ装置
TR201810802T4 (tr) Uzaktan yanmalı biriktirme brülörleri ve/veya ilgili yöntemler.
KR20130113591A (ko) 히터가 구비된 박막 제조 장치
US20130078388A1 (en) Apparatus and method for charging nanoparticles
EA018224B1 (ru) Способ модификации поверхности стекла
JP2014047934A (ja) 裏面負圧式フローティングタイプの乾燥装置
KR20160023250A (ko) 박막 형성을 위한 전구체 공급 장치 및 이를 포함하는 박막 형성 장치
JP2004169144A (ja) 有機物蒸気の被覆装置

Legal Events

Date Code Title Description
MM4A Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s)

Designated state(s): AM AZ BY KZ KG MD TJ TM

MM4A Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s)

Designated state(s): RU