EA002900B1 - Твердотельный материал - Google Patents
Твердотельный материал Download PDFInfo
- Publication number
- EA002900B1 EA002900B1 EA200100604A EA200100604A EA002900B1 EA 002900 B1 EA002900 B1 EA 002900B1 EA 200100604 A EA200100604 A EA 200100604A EA 200100604 A EA200100604 A EA 200100604A EA 002900 B1 EA002900 B1 EA 002900B1
- Authority
- EA
- Eurasian Patent Office
- Prior art keywords
- pores
- filling
- accordance
- metal
- filaments
- Prior art date
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims abstract description 124
- 239000011148 porous material Substances 0.000 claims abstract description 84
- 238000000034 method Methods 0.000 claims abstract description 47
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 22
- 239000002344 surface layer Substances 0.000 claims abstract description 19
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 14
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000010949 copper Substances 0.000 claims abstract description 8
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 8
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000010931 gold Substances 0.000 claims abstract description 8
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 8
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 8
- 229910010293 ceramic material Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000003989 dielectric material Substances 0.000 claims abstract description 7
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 claims abstract description 5
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 claims abstract 3
- 239000002070 nanowire Substances 0.000 claims description 9
- 230000008021 deposition Effects 0.000 claims description 4
- 239000007787 solid Substances 0.000 abstract description 5
- 230000003628 erosive effect Effects 0.000 abstract 2
- 238000001556 precipitation Methods 0.000 abstract 2
- WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N tungsten Chemical compound [W] WFKWXMTUELFFGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- 239000007858 starting material Substances 0.000 description 4
- 229910052721 tungsten Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010937 tungsten Substances 0.000 description 4
- 239000000523 sample Substances 0.000 description 3
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 description 2
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 2
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 2
- 239000012535 impurity Substances 0.000 description 2
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 2
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 2
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 description 2
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011149 active material Substances 0.000 description 1
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000956 alloy Substances 0.000 description 1
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 description 1
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CSSYLTMKCUORDA-UHFFFAOYSA-N barium(2+);oxygen(2-) Chemical class [O-2].[Ba+2] CSSYLTMKCUORDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 1
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 1
- 230000008878 coupling Effects 0.000 description 1
- 238000010168 coupling process Methods 0.000 description 1
- 238000005859 coupling reaction Methods 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 238000001746 injection moulding Methods 0.000 description 1
- UTVFAARNXOSXLG-UHFFFAOYSA-M iodo(sulfanylidene)stibane Chemical compound I[Sb]=S UTVFAARNXOSXLG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000005272 metallurgy Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- 239000002086 nanomaterial Substances 0.000 description 1
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 1
- 239000006104 solid solution Substances 0.000 description 1
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 1
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005641 tunneling Effects 0.000 description 1
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910000859 α-Fe Inorganic materials 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/009—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone characterised by the material treated
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82B—NANOSTRUCTURES FORMED BY MANIPULATION OF INDIVIDUAL ATOMS, MOLECULES, OR LIMITED COLLECTIONS OF ATOMS OR MOLECULES AS DISCRETE UNITS; MANUFACTURE OR TREATMENT THEREOF
- B82B3/00—Manufacture or treatment of nanostructures by manipulation of individual atoms or molecules, or limited collections of atoms or molecules as discrete units
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/45—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements
- C04B41/4596—Coating or impregnating, e.g. injection in masonry, partial coating of green or fired ceramics, organic coating compositions for adhering together two concrete elements with fibrous materials or whiskers
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/53—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone involving the removal of at least part of the materials of the treated article, e.g. etching, drying of hardened concrete
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/81—Coating or impregnation
- C04B41/85—Coating or impregnation with inorganic materials
- C04B41/88—Metals
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B41/00—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone
- C04B41/80—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics
- C04B41/91—After-treatment of mortars, concrete, artificial stone or ceramics; Treatment of natural stone of only ceramics involving the removal of part of the materials of the treated articles, e.g. etching
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/08—Shaping or machining of piezoelectric or electrostrictive bodies
- H10N30/085—Shaping or machining of piezoelectric or electrostrictive bodies by machining
-
- H—ELECTRICITY
- H10—SEMICONDUCTOR DEVICES; ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N—ELECTRIC SOLID-STATE DEVICES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H10N30/00—Piezoelectric or electrostrictive devices
- H10N30/01—Manufacture or treatment
- H10N30/09—Forming piezoelectric or electrostrictive materials
- H10N30/092—Forming composite materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y30/00—Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B82—NANOTECHNOLOGY
- B82Y—SPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
- B82Y40/00—Manufacture or treatment of nanostructures
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C04—CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
- C04B—LIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
- C04B2111/00—Mortars, concrete or artificial stone or mixtures to prepare them, characterised by specific function, property or use
- C04B2111/00474—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00
- C04B2111/00844—Uses not provided for elsewhere in C04B2111/00 for electronic applications
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Ceramic Engineering (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Structural Engineering (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Nanotechnology (AREA)
- Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
- Composite Materials (AREA)
- Inorganic Chemistry (AREA)
- Catalysts (AREA)
- Porous Artificial Stone Or Porous Ceramic Products (AREA)
- Transducers For Ultrasonic Waves (AREA)
- Crystals, And After-Treatments Of Crystals (AREA)
- Compositions Of Oxide Ceramics (AREA)
- Powder Metallurgy (AREA)
- Micromachines (AREA)
- Other Surface Treatments For Metallic Materials (AREA)
- Investigating Or Analyzing Materials By The Use Of Ultrasonic Waves (AREA)
- Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
- Internal Circuitry In Semiconductor Integrated Circuit Devices (AREA)
- Inorganic Fibers (AREA)
Abstract
Описан способ обработки твердотельных материалов, при котором в поверхностном слое материала формируют поры с сечением до 100 нм, а эти поры заполняют нитями из другого материала или того же самого. При этом обеспечивается улучшение ряда характеристик материала: прочность, акустические потери. Изобретение может быть использовано наиболее успешно при изготовлении пьезокерамики.
Description
Изобретение относится к способам обработки твердотельных материалов, в том числе сталей, конструкционных сплавов, полупроводниковых материалов, диэлектриков, ферритов, пьезокерамических материалов и т.д., с целью придания им улучшенных характеристик. Оно может быть использовано также для обработки деталей (изделий).
Предшествующий уровень техники
Одним из известных направлений обработки твердотельных материалов с целью улучшения их характеристик является обеспечение наличия в поверхностном слое материала тех или иных примесей, улучшающих определенные характеристики материала, в частности, его прочность.
Известен твердотельный материал (Авторское свидетельство СССР № 1220104), приповерхностный слой которого содержит дополнительно примесь золота.
Недостатком этого материала является недостаточная прочность, обусловленная отсутствием регулярного упорядочивания кристаллической решетки приповерхностных областей.
Известен твердотельный материал (В.М.Паращенко, М.М.Рахманкулов, А.П.Цисин Технология литья под давлением, М.: Металлургия, 1996 г., с. 187), приповерхностный слой которого содержит дополнительно примеси азота либо бора, углерода, серы, хрома, алюминия.
Недостатком этого материала является также отсутствие регулярного упорядочивания кристаллической решетки приповерхностных областей.
Известен пьезокерамический материал (Авторское свидетельство СССР № 1172906) на основе твердого раствора окислов циркония, свинца и бария, в приповерхностном слое которого содержится повышенная концентрация свинца (на 0,5-0,8 об.%), что приводит к образованию дополнительных приповерхностных центров кристаллизации.
Однако и этот материал имеет недостаточную прочность, обусловленную отсутствием регулярного упорядочивания кристаллической решетки монокристаллических зерен в поверхностных слоях.
Раскрытие изобретения
Одной из задач изобретения является повышение прочности материала за счет пространственного упорядочивания исходной кристаллической структуры материала в его приповерхностных слоях.
Другой задачей, решаемой настоящим изобретением, является улучшение такой характеристики материала, как величина акустических потерь, принципиально значимой для пьезокерамических материалов.
Указанные задачи решаются благодаря созданию принципиально новой структуры приповерхностного слоя твердотельного материала.
Эта структура представляет собой образованные в поверхностном слое материала поры наномерного сечения диаметром до 200 нм и размещенные в порах нити нанометрового сечения (до 200 нм), из другого или того же самого материала.
В качестве исходного материала для получения материала с указанной структурой поверхностного слоя может быть использован любой твердотельный кристаллический, керамический материал (в том числе твердые композитные смеси). Исходный материал может быть проводящим (например, медь, никель, титан, сталь), полупроводящим (например, кремний, арсенид галлия).
Формирование структуры вложенная в нанопору нанонить позволяет существенно уменьшить уровень акустических потерь твердотельного материала и повысить его прочность за счет пространственного упорядочивания кристаллической структуры вдоль границ структур вложенная в нанопору нанонить. Для пьезоактивных материалов указанный эффект приводит к увеличению количества доменов, вектор поляризации которых ориентирован нормально к поверхности структуры вложенная в нанопору нанонить.
В качестве материала нитей для пьезокерамики целесообразно использовать такие металлы как серебро, золото, платина или медь.
Объектом изобретения является также способ обработки твердотельного материала, заключающийся в формировании в его поверхностном слое указанной структуры вложенная в наноструктуру нанонить. При этом формирование нанопор может быть осуществлено электроэрозионной обработкой поверхности заготовки материала, а их заполнение нанонитями путем локального ионного осаждения материала нитей.
Объектом изобретения является также и способ обработки готовых деталей (изделий) из твердотельных материалов, путем формирования в поверхностном слое указанной структуры вложенная в нанопору нанонить.
Примеры осуществления изобретения
Пример 1. Пьезокерамика с вложенными в поры металлическими нитями.
На одном из торцов пьезокерамической заготовки, изготовленной по стандартной технологии (спрессованная пьезокерамическая шихта со связующим прошла обжиг при температуре 1450°С и плавно охлаждена), методом электроэрозии с помощью первого зонда с диаметром острия примерно 20 нм, изготовленного из сульфоиодида сурьмы (88Ы), при подаче импульсов отрицательной полярности формируют нанопоры (шаг обработки - 600 нм, модифицирующее напряжение - 4 В; время обработки каждой поры - 400 нс). Затем с помощью второго зонда из серебра (диаметр острия 10 нм) при подаче импульсов положительной полярности методом локального ионного осаждения в сформированных нанопорах формируют нанонити из Ад (шаг обработки -600 нм; модифицирующее напряжение 2 В; время обработки каждой поры 600 нс). Позиционирование первого и второго зондов осуществляется при помощи сканирующего туннельного микроскопа. Концентрация пор составляла в среднем 3 поры на мкм2.
Обработанная описанным методом пьезокерамическая пластина была подвергнута исследованию на прочность (на разрыв). Она составила 3100 н/мм2, в то время как прочность аналогичной пластины, не прошедшей указанной обработки, равнялась 2200 н/мм2.
Коэффициент электромеханической связи, обратно пропорциональный величине акустических потерь в материале, увеличился с 0,71 до 0,85.
Пример 2. Металл с вложенными в поры полупроводниковыми нитями.
Исходный материал - вольфрам. На поверхности вольфрама на глубину 100-1000 нм сформированы поры сечением 10-200 нм. Поры заполнены нитями длиной 100-1000 нм сечением 10-200 нм. Концентрация пор составляет в среднем 3 поры на мкм2. Материал нитей кремний.
Прочность исследованной вольфрамовой проволоки без использования структуры вложенная в нанопору нанонить составила 3600 н/мм2. При использовании структуры вложенная в нанопору нанонить после обработки прочность составила 4400 н/мм2. Коэффициент акустических потерь в материале при этом снизился в среднем на 20%.
Пример 3. Металл со вложенными в поры диэлектрическими нитями.
Исходный материал - вольфрам. На поверхности вольфрама на глубину 100-1 000 нм сформированы поры сечением 10-200 нм. Поры заполнены нитями длиной 100-1000 нм сечением 10-200 нм. Концентрация пор составляет в среднем 3 поры на мкм2. Материал нитей - сера.
Прочность исследованной вольфрамовой проволоки без использования структуры вложенная в нанопору нанонить составила 3600 н/мм2 При использовании структуры вложенная в нанопору нанонить после обработки прочность составила 4100 н/мм2.
Коэфициент акустических потерь в материале при этом снизился в среднем на 20%.
Claims (32)
1. Способ обработки заготовки твердотельных материалов, заключающийся в образовании в поверхностном слое материала заготовки пор диаметром до 200 нм и заполнении ука занных пор нитями из иного или того же самого материала, что и материал заготовки.
2. Способ по п. 1, отличающийся тем, что в каждую пору помещают несколько нанонитей.
3. Способ по п.1, отличающийся тем, что поры в материале образуют путем электроэрозионной обработки, а заполнение их осуществляют путем локального ионного осаждения материала нитей.
4. Способ по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что обрабатываемый материал представляет собой керамический материал, а материал для заполнения пор представляет собой металл.
5. Способ по п.4, отличающийся тем, что обрабатываемый материал представляет собой пьезокерамику.
6. Способ по п.5, отличающийся тем, что материал для заполнения пор представляет собой серебро.
7. Способ по п.5, отличающийся тем, что материал для заполнения пор представляет собой золото.
8. Способ по п.5, отличающийся тем, что материал для заполнения пор представляет собой платину.
9. Способ по п.5, отличающийся тем, что материал для заполнения пор представляет собой медь.
10. Способ по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что обрабатываемый материал представляет собой металл, а материал для заполнения пор представляет собой полупроводниковый материал.
11. Способ по любому из пп.1-3, отличающийся тем, что обрабатываемый материал представляет собой металл, а материал для заполнения пор представляет собой диэлектрический материал.
12. Способ обработки деталей, включающий в себя образование пор, по меньшей мере, в поверхностном слое материала, из которого изготовлена обрабатываемая деталь, причем указанные поры имеют размер до 200 нм, заполнение указанных пор нитями из иного или того же самого материала, что и материал детали.
13. Способ по п.12, отличающийся тем, что поры в материале детали образуют путем электроэрозионной обработки, а заполнение их осуществляют путем локального ионного осаждения материала нитей.
14. Способ по любому из пп. 12-13, отличающийся тем, что обрабатываемая деталь выполнена из керамики, а материал для заполнения пор представляет собой металл.
15. Способ по п.13, отличающийся тем, что обрабатываемая деталь выполнена из пьезокерамики.
16. Способ по п. 14, отличающийся тем, что материал для заполнения пор представляет собой серебро.
17. Способ по п.15, отличающийся тем, что материал для заполнения пор представляет собой золото.
18. Способ по п.15, отличающийся тем, что материал для заполнения пор представляет собой платину.
19. Способ по п.15, отличающийся тем, что материал для заполнения пор представляет собой медь.
20. Способ по любому из пп. 12-13, отличающийся тем, что обрабатываемая деталь выполнена из металла, а материал для заполнения пор представляет собой полупроводниковый материал.
21. Способ по любому из пп. 12-13, отличающийся тем, что обрабатываемая деталь выполнена из металла, а материал для заполнения пор представляет собой диэлектрический материал.
22. Твердотельный материал, отличающийся тем, что, по меньшей мере, в поверхностном слое материала сформированы поры диаметром от 10 до 200 нм, а в них помещены нити из другого материала.
23. Твердотельный материал, отличающийся тем, что, по меньшей мере, в поверхностном слое материала сформированы поры диа метром от 10 до 200 нм, а в них помещены нити из того же материала.
24. Материал по п.22 или 23, отличающийся тем, что поры имеют глубину от 100 до 1000 нм.
25. Материал по п.24, отличающийся тем, что он представляет собой керамический материал, а нити, заполняющие поры, выполнены из металла.
26. Материал по п.25, отличающийся тем, что он представляет собой пьезокерамику.
27. Материал по п. 26, отличающийся тем, что нити, заполняющие поры, выполнены из серебра.
28. Материал по п.26, отличающийся тем, что нити, заполняющие поры, выполнены из золота.
29. Материал по п.26, отличающийся тем, что нити, заполняющие поры, выполнены из платины.
30. Материал по п. 26, отличающийся тем, что нити, заполняющие поры, выполнены из меди.
31. Материал по п.22, отличающийся тем, что он представляет собой металл, а нити, заполняющие поры, выполнены из полупроводникового материала.
32. Материал по п. 22, отличающийся тем, что он представляет собой металл, а нити, заполняющие поры, выполнены из диэлектрического материала.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
PCT/RU1998/000446 WO2000040506A1 (fr) | 1998-12-30 | 1998-12-30 | Materiau monolithique |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
EA200100604A1 EA200100604A1 (ru) | 2001-12-24 |
EA002900B1 true EA002900B1 (ru) | 2002-10-31 |
Family
ID=20130316
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
EA200100604A EA002900B1 (ru) | 1998-12-30 | 1998-12-30 | Твердотельный материал |
Country Status (19)
Country | Link |
---|---|
EP (1) | EP1156011A4 (ru) |
JP (1) | JP2002534784A (ru) |
KR (1) | KR20010108054A (ru) |
CN (1) | CN1177754C (ru) |
AU (1) | AU748084B2 (ru) |
BR (1) | BR9816131A (ru) |
CA (1) | CA2357039A1 (ru) |
CZ (1) | CZ20012400A3 (ru) |
EA (1) | EA002900B1 (ru) |
EE (1) | EE200100352A (ru) |
GB (1) | GB2365875B (ru) |
HK (1) | HK1040975B (ru) |
HU (1) | HUP0104899A3 (ru) |
MX (1) | MXPA01006754A (ru) |
NO (1) | NO20013232L (ru) |
SK (1) | SK9302001A3 (ru) |
TR (1) | TR200101912T2 (ru) |
UA (1) | UA60396C2 (ru) |
WO (1) | WO2000040506A1 (ru) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6943526B2 (en) | 2000-10-28 | 2005-09-13 | Intellikraft Limited | Rechargeable battery |
GB2368465B (en) * | 2000-10-28 | 2003-01-22 | Intellikraft Ltd | Rechargeable battery |
CN1502142A (zh) * | 2000-10-28 | 2004-06-02 | 可再充电的电池 | |
GB2371327B (en) * | 2000-12-12 | 2002-11-13 | Intellikraft Ltd | Reinforced material |
CN103341630B (zh) * | 2013-06-27 | 2015-05-13 | 广州市日森机械有限公司 | 一种微通道芯体制造工艺 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE1248305B (de) * | 1964-10-02 | 1967-08-24 | Glyco Metall Werke | Gleit- oder Reibwerkstoff auf Al-, Mg- oder Ti-Basis mit oxydischer Fuellmasse |
DE3050427A1 (en) * | 1980-06-09 | 1982-08-26 | E Filimonov | Method of making antifrictional materials |
SU1172906A1 (ru) * | 1983-02-07 | 1985-08-15 | Московский Институт Радиотехники,Электроники И Автоматики | Способ изготовлени пьезоэлектрического керамического материала |
US4683161A (en) * | 1985-02-28 | 1987-07-28 | Piezo Electric Products, Inc. | Ceramic body with ordered pores |
DE3924268A1 (de) * | 1989-07-22 | 1991-01-31 | Vaw Ver Aluminium Werke Ag | Keramik-metall-verbundwerkstoff |
DE4031623C1 (ru) * | 1990-10-05 | 1992-03-12 | Siemens Ag, 8000 Muenchen, De | |
WO1992018213A1 (en) * | 1991-04-12 | 1992-10-29 | E.I. Du Pont De Nemours And Company | High dielectric constant flexible ceramic composite |
RU2072280C1 (ru) * | 1993-12-10 | 1997-01-27 | Индивидуальное частное предприятие "Оптимум" | Способ обработки диэлектрических материалов |
US5503213A (en) * | 1994-03-16 | 1996-04-02 | The Dow Chemical Company | Shaped ceramic-metal composites |
-
1998
- 1998-10-30 GB GB0019426A patent/GB2365875B/en not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-30 EE EEP200100352A patent/EE200100352A/xx unknown
- 1998-12-30 CN CNB988143801A patent/CN1177754C/zh not_active Expired - Fee Related
- 1998-12-30 WO PCT/RU1998/000446 patent/WO2000040506A1/ru not_active Application Discontinuation
- 1998-12-30 KR KR1020017008258A patent/KR20010108054A/ko not_active Application Discontinuation
- 1998-12-30 TR TR2001/01912T patent/TR200101912T2/xx unknown
- 1998-12-30 UA UA2001075407A patent/UA60396C2/ru unknown
- 1998-12-30 AU AU38551/99A patent/AU748084B2/en not_active Ceased
- 1998-12-30 HU HU0104899A patent/HUP0104899A3/hu unknown
- 1998-12-30 CZ CZ20012400A patent/CZ20012400A3/cs unknown
- 1998-12-30 JP JP2000592222A patent/JP2002534784A/ja active Pending
- 1998-12-30 BR BR9816131-8A patent/BR9816131A/pt not_active IP Right Cessation
- 1998-12-30 MX MXPA01006754A patent/MXPA01006754A/es unknown
- 1998-12-30 SK SK930-2001A patent/SK9302001A3/sk unknown
- 1998-12-30 EA EA200100604A patent/EA002900B1/ru not_active IP Right Cessation
- 1998-12-30 EP EP98967054A patent/EP1156011A4/en not_active Withdrawn
- 1998-12-30 CA CA002357039A patent/CA2357039A1/en not_active Abandoned
-
2001
- 2001-06-27 NO NO20013232A patent/NO20013232L/no not_active Application Discontinuation
-
2002
- 2002-04-08 HK HK02102589.1A patent/HK1040975B/zh not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP1156011A4 (en) | 2006-08-09 |
CN1177754C (zh) | 2004-12-01 |
NO20013232L (no) | 2001-08-07 |
EA200100604A1 (ru) | 2001-12-24 |
WO2000040506A1 (fr) | 2000-07-13 |
HUP0104899A3 (en) | 2002-04-29 |
EE200100352A (et) | 2002-10-15 |
CA2357039A1 (en) | 2000-07-13 |
AU748084B2 (en) | 2002-05-30 |
BR9816131A (pt) | 2001-10-09 |
SK9302001A3 (en) | 2002-01-07 |
GB2365875A9 (en) | 2002-11-20 |
CZ20012400A3 (cs) | 2002-03-13 |
HUP0104899A2 (hu) | 2002-03-28 |
CN1336901A (zh) | 2002-02-20 |
MXPA01006754A (es) | 2003-06-24 |
UA60396C2 (ru) | 2003-10-15 |
AU3855199A (en) | 2000-07-24 |
NO20013232D0 (no) | 2001-06-27 |
TR200101912T2 (tr) | 2002-09-23 |
HK1040975B (zh) | 2003-08-01 |
GB2365875B (en) | 2003-03-26 |
JP2002534784A (ja) | 2002-10-15 |
WO2000040506A8 (fr) | 2001-05-25 |
KR20010108054A (ko) | 2001-12-07 |
GB0019426D0 (en) | 2000-09-27 |
EP1156011A1 (en) | 2001-11-21 |
HK1040975A1 (en) | 2002-06-28 |
GB2365875A (en) | 2002-02-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
Mohri et al. | Some considerations to machining characteristics of insulating ceramics-towards practical use in industry | |
US7846819B2 (en) | Method of synthesizing nanoscale filamentary structures, and electronic components comprising such structures | |
KR20110103971A (ko) | 전기 방전 절삭공정용 와이어 전극 | |
JP7051879B2 (ja) | 合金で被覆したedmワイヤ | |
DE102012209708A1 (de) | Verfahren zur gesteuerten Schichtübertragung | |
US20160039027A1 (en) | Piezoelectric wire edm | |
EA002900B1 (ru) | Твердотельный материал | |
Liew et al. | Material deposition on aluminium by electrical discharge coating (EDC) with a tungsten powder suspension | |
Panfilov et al. | The plastic flow of iridium | |
CN104372275B (zh) | 一种铜镁合金的组合加工方法 | |
Horton | Some observations of grain boundary sliding in the presence of second phase particles | |
Lu et al. | Laser-induced deposition of Ni lines on ferrite in NiSO 4 aqueous solution | |
KR100500657B1 (ko) | 실리콘 단결정 제조용 종결정 및 실리콘 단결정의 제조방법 | |
NZ512707A (en) | Solid-state material | |
Sitnikov et al. | The microstructure of rapidly quenched TiNiCu ribbons crystallized by isothermal and electropulse treatments | |
Hu et al. | Fabrication of dendrite‐like Au nanostructures and their enhanced photoluminescence emission | |
JPH10265879A (ja) | 電解コンデンサ用アルミニウム箔 | |
TW201100183A (en) | Manufacturing method of metal wire | |
Bobkov et al. | Investigation of the impact of WEDM modes on surface morphology, roughness and cracking of zirconium, niobium and vanadium | |
Muttamara et al. | Effect of Electrical Discharge Machining on Surface Characteristics and Microstructure of Aluminum Alloy 2024 | |
Oras et al. | The effect of heat-treatment on morphology and mobility of Au nanoparticles | |
Wang et al. | Effects of impurities and grain size on welding performance of T3 copper | |
Minton et al. | The Fracture Behaviour of Copper Compacts Containing Residual Porosity | |
Elices et al. | STRENGTH AND FRACTURE OF METALLIC FILAMENTS | |
KR20110034222A (ko) | 소우 와이어의 제조방법 및 그로부터 제조된 소우 와이어 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
MM4A | Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s) |
Designated state(s): AM AZ KZ KG MD TJ TM |
|
TC4A | Change in name of a patent proprietor in a eurasian patent |
Designated state(s): AM AZ KZ KG MD TJ TM |
|
MM4A | Lapse of a eurasian patent due to non-payment of renewal fees within the time limit in the following designated state(s) |
Designated state(s): BY RU |