DEP0038599DA - Verfahren zum Herstellen von Trockengleichrichtern mit Silizium als halbleitender Substanz - Google Patents

Verfahren zum Herstellen von Trockengleichrichtern mit Silizium als halbleitender Substanz

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DEP0038599DA
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DE
Germany
Prior art keywords
silicon
substance
manufacture
crystalline
base
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English (en)
Original Assignee
LICENTIA Patent-Verwaltungs-GmbH, Hamburg
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Description

mm. !«rstfcelXea. voa Srocks&glele&riehtem mit Silislum als Miblidtoaior '.ö
Is slaä ;£yoekt&€$©iotJxieMi£}3? mit
'Subßfcasi'· bekannt, bei äa&aa S.lXI
Mb Ge-msaimg- srÖSer«2*-.2pIstßlleib-s^eitot erii.
,' Ibrer yeEwes^uag 'slie&fc suüem ©atrg&gea^' äaß-aer Vildgrsolches? GXeiehma{3t©r\f*är .ü,eo Fo4r,-e/ga?vssfcK;-m'>sisM.ltaIs .isfc, well al© Sßlbleit;©rscliiobi:'nicht so ßß&n ga 9 wie ö."urch, 3lied©reeiJ.iXag«3ii -des SiXisiümsr. aiis δε·2?
; erfίΙΧΙβη solche.aas && 'Ifeniif-
la· oebue mivoiXkoiHaÄia©3? K©ise aie aa -ivxoo^sag jj.t$XX@Ä<3ön. Öedinptagaii· Ss "ist vorgeacfela^sa t?oi*dea, die sea
sehXacs ^u büüööiai* Biests'" fexfsiireü fulix't .^e do ob. si tihi /ä Ürf ·3Χ£. [Jelier^aadhends^ieise erM(It .sum •^odo.si
ii; höryarraQSix4e^--!-:i^eja0ftiia£fctea+ wsim iiioa. das SiIieiner m&ctest&itg. auf. XgOifös \roi?sugs?/0ise'auf X96OÖS 'erliitatiea. ioMBtalliaea HiäsÄage, sus' Sei?' phase ax©äö3?@c-hlägc. .Öi©seß" jerf-iadiUJissgeraäSö.TGrfaltreii. bietst audits den 'Tortails-;aaE «ia A^beitsgaag',-aäsiLid:i"tllö ■1 ernährafcurbehsiJidlan^ der italbleiteatie^ ■Siibstäa3,"'5«? .Mb ifntö^las» *s>ev^ia?l·- sicii SiiisitiQ-Dai'biiJi "'eiern gferi .göiaisohiseleitfähigkeit bemr:::ond@ Beibaa^iiigäa Eiigesetet sinä*
iiie isristalliae "Gatöxlag=1 i-aaü. jsit '.förtsil aiidi ■ aurda ■ cliej6aisöh.e
g· eier Ob©rfXäcsiisasdiidb.t "der'üi»ässaj©i©Ir^rode gsfeiläet &n, Will maa beispielsweise öiliEi-um~!3-ieic!irliÄi,t6r
fe-terlag8 iisrsfeelleas so k@, iio aas E.oS.ieiist off odsx sine UuJ! & liter ^ sajgöbre.ch.-b© liohXoBD-toiTBdriicsiiti in ainsr- 'Sili und Wasserstoff m3M^u&^M^l^mms&9^s^£S aatlialtesflsa AtrnospMre ,aiades'beas Ms sur.BildHag ^iner d:aan,eB Oberflä'düe von Sillsiuin-öarbid sin? fteaiition. l?ringoa.
oüei? zuminde st en verfcürat.

Claims (1)

  1. Patentansprüche B
    Verfahren zum Herstellen von !trockengleichrichter!! lsit Silicium sis halbleitend© Substanz, dadurch gekennzeichnet s Hess das Silizium auf einer mindestens auf 3|5Qi0 Cj vorzugsweise auf über 195° C-» erhitzten kristallinen Unterlage ua$ d6r Dampfphase D,ieäerg:esclilagoii tird.
    Veifaliren aacb Patentanspjuoli 1S äactarchi fjefcßmizeichnct? s öaes als Unterlage Siliciumcarbid mit geringfügigen, gemisciite feitl'ähißkeit bemrkenden Beimengatigen verwendet wir<3·
    Verfahren joacn Patentan-sprueii 1 -oder 2S dadurch, gisteenn— seicMiet, üass öle kristalline Unterlage durch «hemiseiie Umwandlung 3er öberXlächensciiiciit der Irägei'elelctzOdeii gebildet isird·
    Yerfsnren nack Patentansprucii 3 zum flerstellen von Silisiiiia-Sleicliricateria mit Siliaiuakarbidunterlafee, dadarch gekemizeiebnet, dass eine frägerelekt.-ode aus Eonlenstoff oder eine auf einer Trägerele&trode angebrachte Kolalenstoffseliicat in einer Siliziamtetraehlor-id and Wasserstoff
    enthaltenden AtaaoSphäre mindestens bis zut BiI einer dämien Oberflächenschicht τοη SiligiuiaicarMd aur Beafction gebracht tuird»
    »iüsiiuai^ßleieiäriciater nach dem Terfahr-en naeh Patentanspruch 1 oder f ο'-senden, dadurch eeiceiiazeiGimet, dass als halbleitende Substanz aus der Bampfphase auf einer kristallinen Unterlage, vorzugsweise Siliziumkarbid, bei einer Kondensstionstemperatur von -mindestens 1&o° ö vorzugsweise von über 19§° ö» niedergeschlagenes Silizium vorgesehen ist»

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