DEP0038599DA - Process for the manufacture of dry rectifiers with silicon as a semiconducting substance - Google Patents

Process for the manufacture of dry rectifiers with silicon as a semiconducting substance

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DEP0038599DA
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DE
Germany
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silicon
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crystalline
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German (de)
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LICENTIA Patent-Verwaltungs-GmbH, Hamburg
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fe-terlag8 iisrsfeelleas so k@, iio aas E.oS.ieiist off odsx sine UuJ! & liter ^ sajgöbre.ch.-b© liohXoBD-toiTBdriicsiiti in ainsr- 'Sili und Wasserstoff m3M^u&^M^l^mms&9^s^£S aatlialtesflsa AtrnospMre ,aiades'beas Ms sur.BildHag ^iner d:aan,eB Oberflä'düe von Sillsiuin-öarbid sin? fteaiition. l?ringoa.fe-terlag8 iisrsfeellea s so k @, iio aas E.oS.ieiist off odsx sine UuJ! & liter ^ sajgöbre.ch.-b © liohXoBD-toiTBdriicsiiti in ainsr- 'Sili and Hydrogen m3M ^ u & ^ M ^ l ^ mms & 9 ^ s ^ £ S aatlialtesflsa AtrnospMre, aiades'beas Ms sur.BildHag ^ iner d: aan, eB surface of Sillsiuin-öarbid sin? fteaiition. l? ringoa.

oüei? zuminde st en verfcürat.oüei? at least they are available.

Claims (1)

Patentansprüche B Claims B Verfahren zum Herstellen von !trockengleichrichter!! lsit Silicium sis halbleitend© Substanz, dadurch gekennzeichnet s Hess das Silizium auf einer mindestens auf 3|5Qi0 Cj vorzugsweise auf über 195° C-» erhitzten kristallinen Unterlage ua$ d6r Dampfphase D,ieäerg:esclilagoii tird.Process for the manufacture of ! Dry rectifiers !! lsit silicon sis semiconductive © substance, characterized in that the silicon s Hess on a least 3 | preferably crystalline 5Qi Cj 0 to about 195 ° C »heated pad, among others $ D6R vapor phase D, ieäerg: esclilagoii tird. Veifaliren aacb Patentanspjuoli 1S äactarchi fjefcßmizeichnct? s öaes als Unterlage Siliciumcarbid mit geringfügigen, gemisciite feitl'ähißkeit bemrkenden Beimengatigen verwendet wir<3·Veifaliren aacb Patentanspjuoli 1 S äactarchi fjefcßmizeichnct? s öaes as a base silicon carbide bemrkenden with minor, gemisciite feitl'ähißkeit Beimengatigen we used <3 · Verfahren joacn Patentan-sprueii 1 -oder 2S dadurch, gisteenn— seicMiet, üass öle kristalline Unterlage durch «hemiseiie Umwandlung 3er öberXlächensciiiciit der Irägei'elelctzOdeii gebildet isird·Process joacn patent application 1 - or 2 S by, gisteenn - seicMiet, so that oil crystalline base is formed by "hemiseiie conversion of 3 overXlächensciiiciit of the surface elelctzodeii" Yerfsnren nack Patentansprucii 3 zum flerstellen von Silisiiiia-Sleicliricateria mit Siliaiuakarbidunterlafee, dadarch gekemizeiebnet, dass eine frägerelekt.-ode aus Eonlenstoff oder eine auf einer Trägerele&trode angebrachte Kolalenstoffseliicat in einer Siliziamtetraehlor-id and WasserstoffYerfsnren nack Patentansprucii 3 for flerstellen of Silisiiiia-Sleicliricateria with Siliaiuakarbidunterlafee, dadarch gekemizeiebnet that a frägerelekt.-ode from Eonlenstoff or on a Trägerele & trode mounted Kolalenstoffseliicat in a Siliziamtetraehlor-id and hydrogen enthaltenden AtaaoSphäre mindestens bis zut BiI einer dämien Oberflächenschicht τοη SiligiuiaicarMd aur Beafction gebracht tuird»Containing AtaaoSphere at least up to the level of a demi surface layer τοη SiligiuiaicarMd aur beafction is done » »iüsiiuai^ßleieiäriciater nach dem Terfahr-en naeh Patentanspruch 1 oder f ο'-senden, dadurch eeiceiiazeiGimet, dass als halbleitende Substanz aus der Bampfphase auf einer kristallinen Unterlage, vorzugsweise Siliziumkarbid, bei einer Kondensstionstemperatur von -mindestens 1&o° ö vorzugsweise von über 19§° ö» niedergeschlagenes Silizium vorgesehen ist»»Iüsiiuai ^ ßleieiäriciater after the Terfahr-en according to patent claim 1 or f ο'-send, thereby eeiceiiazeiGimet that as a semiconducting substance from the vapor phase on a crystalline base, preferably silicon carbide, at a condensation temperature of at least 1 ° ö, preferably more than 19 ° ö »precipitated Silicon is provided »

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