DE878341C - Statische Zone fuer Kleinelektrofilter - Google Patents
Statische Zone fuer KleinelektrofilterInfo
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- DE878341C DE878341C DES17572D DES0017572D DE878341C DE 878341 C DE878341 C DE 878341C DE S17572 D DES17572 D DE S17572D DE S0017572 D DES0017572 D DE S0017572D DE 878341 C DE878341 C DE 878341C
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Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B03—SEPARATION OF SOLID MATERIALS USING LIQUIDS OR USING PNEUMATIC TABLES OR JIGS; MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C—MAGNETIC OR ELECTROSTATIC SEPARATION OF SOLID MATERIALS FROM SOLID MATERIALS OR FLUIDS; SEPARATION BY HIGH-VOLTAGE ELECTRIC FIELDS
- B03C3/00—Separating dispersed particles from gases or vapour, e.g. air, by electrostatic effect
- B03C3/34—Constructional details or accessories or operation thereof
- B03C3/86—Electrode-carrying means
Landscapes
- Electrostatic Separation (AREA)
Description
- Die Kleinelektrofilter besitzen gewöhnlich zwei Behandlungsstufen, nämlicheine sogenannte Auflade-oder Sprühzone, in der die zu reinigenden Gase ionisiert werden, und eine daran anschließende statische Zone, in der die in den Gasen, insbesondere der Luft, enthaltenen aufgeladenen Schwebeteilchen niedergeschlagen werden.
- Die in der statischen Zone angeordneten Platten sind abwechselnd an die Hochspannung angeschlossen bzw. geerdet. Ein Ausschnitt aus einer solchen statischen Zone ist in der Fig. i dargestellt, wo i die an Hochspannung gelegten Platten und 2 die zwischen ihnen angeordneten, an Erde gelegten Platten bedeuten. Die an Hochspannung gelegten Platten i werden meist durch einen oder mehrere Kämme 3 gehalten. Dieser Kamin muß nun auch um die der Gehäusewand 4 zunächst liegende Platte i herumgreifen. Da nun der MetaUkan'm 3 von dem Gehäuse 4 mindestens so weit entfernt bleiben muß, wie es dem Spannungsabstand zwischen den Platten i und 2 entspricht, so ergibt sich hieraus als Folge, daß zwischen der äußersten Platte i und der Gehäusewand 4 ein so großer Spannungsabstand entsteht, daß die Abscheidewirkung an dieser Stelle stark. vermindert wird. Im folgenden wird nun gezeigt, wie dieser Übelstand beseitigt werden kann.
- Gemäß der Erfindung ist die statische Zone zu diesem Zweck in der Weise ausgebildet, daß der dem die Randplatte umfassenden Kammende gegenüberliegende Teil der Gehäusewand ausgespart und der Abstand der Randplatte von der Gehäusewand mindestens so groß wie der Abstand der übrigen Platten voneinander gehalten ist. Hierdurch wird insbesondere der Vorteil erreicht, daß der Teil des Gasstromes, der zwischen der Randplatte 'und der Gehäusewand hindurchgeht, ebensogut wie der übrige durch die statische Zone hindurchgehende Gasstrom von den in ihm vorhandenen Schwebeteilchen befreit wird. Die Aussparungen der Gehäusewand, die sich auf der Reingasseite gegenüber den dort befindlichen Haltekämmen befinden, können in der Regel offen bleiben, ohne daß hierdurch ein Nachteil entsteht. Die Aussparung der Außenwand, die sich insbesondere auf der Eintrittsseite der statischen Zone befindet, ist zweckmäßig durch einen nach außen gewölbten Deckel verschlossen, um das Austreten von ungereinigtem Gas aus dem Gehäuse zu verhüten.
- In der Fig. :z ist ein Ausführungsbeispiel einer gemäß der Erfindung ausgebildeten statischen Zone im Aufriß dargestellt, ii sind die isoliert angeordneten, mit der Hochspannungsquelle verbundenen Platten, zwischen denen die geerdeten Platten i?, angeordnet sind. 13 ist ein Kamm, durch den die Hochspannung führenden Platten ii gehalten werden. 14 ist die Gehäusewand der statischen Zone, durch welche der zu reinigende Gas- bzw. Luftstrom in der Pfeilrichtung 15 hindurchströmt. In der Gehäusewand 14 ist nun an der Stelle, die gegenüber dem Ende des Kammes 13 sich befindet, eine Aussparung 16 vorgesehen, die durch einen nach außen gewölbten Deckel 17 verschlossen ist. Die der Gehäusewand 14 zunächst liegende, mit der Hochspannungsquelle verbundene Platte ii hat dabei einen Abstand von der Gehäusewand 14, der etwa ebenso groß wie die Abstände der Platten ii und 12 voneinander ist. Ein Überschlag zwischen dem die äußerste Platte ii umgreifenden Kamm 13 und der Gehäusewand 14 kann hierbei nicht eintreten, da infolge der vorgesehenen Aussparung 16 das Ende des Kammes 13 von der Gehäusewand 14 einen größeren Abstand hat als der Abstand zwischen der äußersten Platte ii und der Gehäusewand 14 beträgt. - Wenn in der Gehäusewand 14 mehrere solche nebeneinanderliegende Aussparungen vorhanden sind, so können sie gemäß der Erfindung durch eine z. B. aus Blech bestehende Rinne od. dgl. überdeckt sein, wodurch sich eine besonders billige Ausführung ergibt. In manchen Fällen kann es auch vorteilhaft sein, die Gehäusewand selbst an der entsprechenden Stelle mit einer vorzugsweise nach außen hindurchgedrückten Vertiefung, Rinne bzw. Sicke zu versehen. Ein Ausführungsbeispiel hierfür ist in der Fig. 3 im Aufriß dargestellt. Hier ist in der Gehäusewand 21 an der dem die Hochspannung führenden Platten haltenden Kamm gegenüberliegenden Stelle eine Ausdrückung 22 vorgesehen.
Claims (1)
- PATENTANSPRÜCHE: i. Statische Zone für Kleinelektrofilter, bei der die an Hochspannung gelegten Platten durch Kämme gehalten werden, dadurch gekennzeichnet, daß der dem die Randplatte umfassenden Kammende gegenüberliegende Teil der Gehäusewand ausgespart und der Abstand der Randplatte von der Gehäusewand etwa so groß wie der Abstand der übrigen Platten voneinander ist. ?- Statische Zone nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Aussparung der Außenwand, insbesondere auf der Einlaßseite der statischen Zone, durch einen nach außen gewölbten Deckel verschlossen ist. 3. Statische Zone nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß mehrere nebeneinanderliegende Aussparungen durch eine Rinne od. dgl. überdeckt sind. 4. Statische Zone nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Gehäusewand selbst an der die Aussparungen enthaltenden Stelle mit einer vorzugsweise nach außen herausgedrückten Vertiefung, Rille oder Sicke versehen ist.
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DES17572D DE878341C (de) | 1942-06-26 | 1942-06-26 | Statische Zone fuer Kleinelektrofilter |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DES17572D DE878341C (de) | 1942-06-26 | 1942-06-26 | Statische Zone fuer Kleinelektrofilter |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE878341C true DE878341C (de) | 1953-06-01 |
Family
ID=7475440
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DES17572D Expired DE878341C (de) | 1942-06-26 | 1942-06-26 | Statische Zone fuer Kleinelektrofilter |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| DE (1) | DE878341C (de) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3237780A1 (de) * | 1981-10-12 | 1983-04-28 | Senichi Tokyo Masuda | Elektrostatische hochleistungs-filteranordnung |
-
1942
- 1942-06-26 DE DES17572D patent/DE878341C/de not_active Expired
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
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