DE850320C

DE850320C - Process for the production of an airtight vessel

Info

Publication number: DE850320C
Application number: DEN2196D
Authority: DE
Inventors: Johan George Kronouer; Frits Prakke
Original assignee: Philips Gloeilampenfabrieken NV
Current assignee: Koninklijke Philips NV
Priority date: 1943-08-13
Filing date: 1944-08-08
Publication date: 1952-09-22
Also published as: GB640705A; CH244457A; BE457219A; NL61585C; FR906767A

Description

Verfahren zur Herstellung eines luftdicht abgeschlossenen Gefäßes Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung eines luftdicht abgeschlossenen Gefäßes, dessen Wandung wenigstens zum Teil aus Glas besteht, in das ein oder mehrere Leiter eingeschmolzen werden sollen, die dazu bestimmt sind, im Betrieb Hochfrequenz zu führen. Das Verfahren soll insbesondere zur Herstellung von Entladungsröhren, Glühlampen usw. dienen.Process for the production of an airtight vessel The invention relates to a method for producing an airtight seal Vessel, the wall of which consists at least partially of glass, into which one or more Conductors are to be melted down, which are intended to operate at high frequency respectively. The method is intended in particular for the production of discharge tubes, Incandescent lamps, etc. are used.

Es ist bekannt, daß bei der Einschmelzung von Metall in Glas auf möglichst gute Übereinstimmung der Wärmeausdehnungskoeffizienten geachtet werden muß. Aber selbst wenn es gelingt, die Ausdehnungskoeffizienten durch geeignete Wahl der Zusammensetzung des Glases und des Metalls praktisch gleich groß zu machen, besteht ein oft eintretender Nachteil in dem ungenügenden Anhaften des Glases am Metall bei der Verschmelzungstemperatur. Die Anwendung von Borax als Flußmittel verbessert zwar das Benetzen und damit das Haften, bringt aber Nachteile mit sich, die zum Teil in der niedrigen Schmelztemperatur von Borax begründet sind und u. a. in der Verstopfung der Werkzeuge beim Einschmelzen von Metallstiften in gepreßte Glasteile bestehen.It is known that when melting metal in glass on as possible good agreement of the coefficient of thermal expansion must be observed. but even if it succeeds, the expansion coefficient through a suitable choice of composition Making the glass and the metal practically the same size is a frequent occurrence Disadvantage in the insufficient adhesion of the glass to the metal at the fusion temperature. The use of borax as a flux improves the wetting and thus the Adherence, however, has disadvantages, some of which are due to the low melting temperature are based on borax and i.a. in the clogging of the tools when melting down consist of metal pins in pressed glass parts.

Es ist auch schon bekannt, zur Herabsetzung der durch den Skineffekt bedingten Widerstandserhöhung von Leitern, die von hochfrequenten Strömen durchflossen sind, diese mit einer dünnen Schicht aus Kupfer, Silber oder ä'hnlic'hem gut leitendem Material zu überziehen; gerade beim EinsdhTnelzen solcher Leiter in Glas treten, die obenerwähnten Schwierigkeiten häufig störend auf.It is also already known to reduce the skin effect conditional increase in resistance of conductors through which high-frequency currents flow are these with a thin layer of copper, silver or similar highly conductive Coating material; just at the Influence of such a ladder occur in glass, the above-mentioned difficulties often bothersome.

Eine sehr gute Einschmelzung wird demgegenüber durch Anwendung des Verfahrens gemäß der vorliegenden Erfindung erzielt. Dieses Verfahren zur Herstellung eines luftdicht geschlossenen Gefäßes, dessen Wand zumindest teilweise aus Glas besteht, in das ein oder mehrere stromführende Leiter eingeschmolzen werden, die dazu bestimmt sind, Hochfrequenzstrom zu führen, und die aus einem Kernkörper bestehen, der mit einer dünnen Schicht aus Kupfer; Silber oder ähnlichem gutleitendem Material überzogen sind, besteht darin, daß der derart überzogene Kernkörper vor dem Einschmelzen mit einem weiteren, sehr dünnen Überzug aus Chrom versehen wird, dessen Dicke o,5 bis i Mikron ist. Es ist nicht ausgeschlossen, daß dieses Verfahren deshalb sehr günstige Ergebnisse liefert, weil die dünne Chromschicht beim Einschmelzen ganz zu Chromtrioxyd oxydiert, das eine sehr gute Anschmelzung an Glas ergibt, da das Glas an ihm sehr gut haftet.In contrast, a very good seal is achieved by using the Method according to the present invention achieved. This method of manufacture an airtight vessel, the wall of which is at least partially made of glass consists in which one or more current-carrying conductors are melted, the are designed to carry high frequency current and which consist of a core body, the one with a thin layer of copper; Silver or similar highly conductive material are coated, consists in that the core body coated in this way before being melted down is provided with another, very thin coating of chrome, the thickness of which is 0.5 until i is micron. It is not ruled out that this procedure is therefore very great gives favorable results because the thin chromium layer is completely melted down oxidized to chromium trioxide, which results in a very good melting on glass, since the Glass adheres to it very well.

Das Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung ist anwendbar bei jeder Kombination von Leitern und Glas. So können Durchführungen aus Eisen, die mit einer Silber- oder Kupferschicht überzogen. sind, mit einer Chromschicht überzogen werden; es ist jedoch auch möglich, einen Kern aus Nickel, Nickeleisen und ähnlichen Werkstoffen zu verwenden oder beispielsweise Kerne .aus Wolfram, Molybdän usw. Die Erfindung ist insbesondere bei Entladungsröhren für kurze und sehr kurze Wellen anzuwenden. Die Dicke der Chromschicht ist kritisch, denn sie soll so dünn sein, daß sie ganz in Chromoxyd umgesetzt wird. Wenn nämlich eine auf bekannte Weise, beispielsweise auf elektrolytischem Wege, aufgebrachte Chromschicht in einer Dicke von 5 bis io Mikron verwendet wird, tritt eine sehr große Zunahme des Hochfrequenzwider- 1 Standes auf.The method according to the present invention is applicable to anyone Combination of ladders and glass. For example, bushings made of iron that come with a Silver or copper layer coated. are to be coated with a chrome layer; however, it is also possible to have a core made of nickel, nickel iron and similar materials to use or for example cores made of tungsten, molybdenum, etc. The invention is particularly applicable to discharge tubes for short and very short waves. The thickness of the chrome layer is critical because it should be so thin that it is whole is converted into chromium oxide. If namely one in a known way, for example Electrolytically applied chromium layer in a thickness of 5 to 10 Micron is used, there is a very large increase in high frequency resistance on.

Bei Beachtung der erfindungsgemäßen Lehre, daß die Dicke der Chromschicht ,kleiner als i Mikron gewählt wird, verwandelt sich diese beim Einschmelzvorgang in einen am Glase gut haftenden Isolator, und es fließt im Betriebe der -Hochfrequenzstrom nahezu zur Gänze durch die Kupferschicht.If the teaching according to the invention is observed that the thickness of the chrome layer , smaller than i micron is chosen, this changes during the melting process into an insulator that adheres well to the glass, and the high-frequency current flows during operation almost entirely through the copper layer.

Die Erfindung wird an Hand eines Ausführungsbeispiels näher erläutert, in dem ein Verfahren gemäß der Erfindung im .einzelnen beschrieben wird.The invention is explained in more detail using an exemplary embodiment, in which a method according to the invention is described in detail.

Es wird von einem Chromeisenleiter mit einer Dicke von i mm ausgegangen, der elektrolytisch mit einer Kupferschicht in einer Dicke von io bis 30 w überzogen wird, worauf gleichfalls elektrolytisch eine Chromschicht in einer Dicke von höchstens i w aufgebracht wird. Der Leiter wird dann auf die gewöhnliche Weise in die Glaswand einer Entladungsröhre eingeschmolzen, und die Röhre wird auf bekannte Weise fertiggestellt.A chrome iron conductor with a thickness of 1 mm is assumed, which is electrolytically coated with a copper layer in a thickness of 10 to 30 w, whereupon a chromium layer is also electrolytically applied with a thickness of at most iw. The conductor is then fused into the glass wall of a discharge tube in the usual manner and the tube is finished in a known manner.

Das Aufbringen der verschiedenen Schichten kann auch auf andere Weise erfolgen, als im vorstehenden- --beschrieben wurde, z. B. auf kata,phoretischem Wege oder durch Aufdampfen.The application of the different layers can also be done in other ways take place than in the above - - was described, e.g. B. on kata, phoretic Ways or by vapor deposition.

Wie im vorstehenden erörtert wurde, ist die Erfindung an vielerlei Kombinationen von Durchführungsleitern und Wandmaterialien anwendbar, wobei diese Leiter aus einer oder mehreren Schichten.bestehen können. Es ist ferner einleuchtend, daß die Erfindung nicht auf die im Ausführungsbeispiel genannten Entladungsröhren beschränkt ist, sondern bei verschiedenen Arten von geschlossenen Gefäßen, wie Glühlampen, Druckkondensatoren usw., angewendet werden kann.As discussed above, the invention is diverse in nature Combinations of bushing ladders and wall materials are applicable, these Conductors can consist of one or more layers. It is also evident that the invention does not apply to the discharge tubes mentioned in the exemplary embodiment is limited, but with different types of closed vessels, such as incandescent lamps, Pressure capacitors, etc., can be applied.

Claims

PATENT CLAIM: Process for producing an airtight seal Vessel, the wall of which is at least partially made of glass, into which one or more serving as a high-frequency power supply conductor are melted, which consists of a The core body consists of a thin layer of copper, silver or the like highly conductive material is coated, characterized in that the coated in this way Core body before melting with another, very thin coating of chrome is provided, the thickness of which is 0.5 to i microns.