DE745958C - Abdruckverfahren zur mikroskopischen Untersuchung von Oberflaechen, insbesondere von Kristallschichten auf Metallen - Google Patents

Abdruckverfahren zur mikroskopischen Untersuchung von Oberflaechen, insbesondere von Kristallschichten auf Metallen

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DE745958C
DE745958C DEH166859D DEH0166859D DE745958C DE 745958 C DE745958 C DE 745958C DE H166859 D DEH166859 D DE H166859D DE H0166859 D DEH0166859 D DE H0166859D DE 745958 C DE745958 C DE 745958C
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crystal layers
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DEH166859D
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Dr Aloys Wuestefeld
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HAK HANSEATISCHES KETTENWERK G
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HAK HANSEATISCHES KETTENWERK G
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    • G01MEASURING; TESTING
    • G01NINVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
    • G01N1/00Sampling; Preparing specimens for investigation
    • G01N1/28Preparing specimens for investigation including physical details of (bio-)chemical methods covered elsewhere, e.g. G01N33/50, C12Q
    • G01N1/2806Means for preparing replicas of specimens, e.g. for microscopal analysis

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Description

  • Abdruckverfahren zur mikroskopischen Untersuchung von Oberflächen, insbesondere von Kristallschichten auf Metallen Bei betrieblich hergestellten Kristallschichten auf Metallen wurde die Untersuchung der kristallinen Oberfläche stets beeinträchtigt durch Schmutz und Staubteilen, die sich im Kristallnet festgesetzt hatten. Besonders in letzter Zeit wurden Obelflächenuntersuchungsverfahren bekannt, die meistens mit rein optischen Hilfsmitteln durchgeführt wurden. Es ist bereits bekannt, getreue Abbildung der Oberfläche vermittels eines wieder abziehbaren dünnen Oberflächenfilms zu erhalten oder die Oberfläche in ein durchsichtiges Material geringer Dicke abzudrucken. Diese beiden Verfahren wurden entwickelt zur Untersuchung besonders feiner Oberflächen, wie Gefügereliefs oder Oberflächen von Sei den raupeneiern, Maulbeerblättern usw.
  • Mit den aufgeführten Verfahren können verschmutzte rauhe Oberflächen, beispielsweise Kristallschichten, nicht untersucht werden.
  • Die vorliegende Erfindung dient dem Zweck der Herstellung eines getreuen Abbildes der Oberfläche selbst von verschmutzten Kristallschichten mit Hilfe eines Abdruckverfahrens, das sich der Anwendung optischer wie mechanischer Hilfsmittel bedient.
  • Legt man erfindungsgemäß auf die zu unter suchende kristalline Schicht ein poliertes Metallband, das weicher als die zu untersuchenden Kristalle und härter als die ihnen anhaftenden Schmutzteilchen ist, und iibt darauf einen hohen Druck aus, so erhält man überratschend gute Abbilder der kristallinen Schicht, weil sich die Kristalle in das Band eindrücken und die Schmutzteilchen nicht mit abgedrückt werden.
  • Nach dem vorstehenden Verfahren wurden Abdrücke erzielt, die, im Mikroskop bei Dunkelfeldbeleuchtung betrachtet oder photogra phiert, wesentlich eindeutigere und kontrastreichere Bilder erg2ben, als sie bei Betrachtung selbst sauberer Rristallschichten im Original erhalten werden können.
  • Mit Erfolg für den Abdruck benutztes Metallband fanden Wir in blankgewalztem Material einer Aluminium-Magnesium-Legierung.
  • Die praktische Ausführung des Verfahrens ist einfach und schnell, bietet wesentliche Erleichterungen bei der mikroskopischen Untersuchung und ermöglicht sie überhaupt erst, wenn verschmutzte Oberflächen vorliegen.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUCH: Verfahren zur Untersuchung nichtmetallischer, kristalliner Oberflächen, dadurch gekennzeichnet, daß von diesen unabhängig von ihrer Verschmutzung für die mikroskopische Betrachtung ein getreuer Ahdruck auf einem Material hergestellt wird, das poliert, undurchsichtig und gleichzeitig weicher als die zu untersuchenden Kristalle und härter als die ihnen anhaftenden Schmutzteilchen ist.
    Zur Abgrenzung des Anmeldungsgegenstandes vom Stand der Technik sind im Erteilungsverfahren folgende Druckschriften in Betracht gezogen worden: deutsche Patentschrift ...., Nr. 572 098; Zeitschrift »Metallwirtschaft«, Bd. 20, 1941 S. 983 bis 986.
DEH166859D 1941-11-26 1941-11-26 Abdruckverfahren zur mikroskopischen Untersuchung von Oberflaechen, insbesondere von Kristallschichten auf Metallen Expired DE745958C (de)

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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE572098C (de) * 1930-01-25 1933-03-10 Gunze Seishi Kabushiki Kwaisha Verfahren zur mikroskopischen Untersuchung von Oberflaechen

Patent Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE572098C (de) * 1930-01-25 1933-03-10 Gunze Seishi Kabushiki Kwaisha Verfahren zur mikroskopischen Untersuchung von Oberflaechen

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