DE7416254U - Vorrichtung zum gleichzeitigen, beiderseitigen beschichten mehrerer halbleiterscheiben mit einem schutzlack - Google Patents
Vorrichtung zum gleichzeitigen, beiderseitigen beschichten mehrerer halbleiterscheiben mit einem schutzlackInfo
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Description
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Gesellschaft für dpipfififchf eiääw und Elektronik ·. b. H.
8500 N U r'n.b β r $„, Ί<1·»ο'»1*ΐ1β$αβο 40
Telefon 0911 / 37781 - Telex 06/22155
6. Mai 1974 PA - Bu/wl
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zu» gleichzeitigen, beiderseitigen
Beschichten Mehrerer Halbleiterscheiben »it eine» Schutzlack.
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md die OberschUssige Menge abgeschleudert wird. Zu diese» Zweck ist
«ine drehbare Trägerplatte in eine» becherfttmigen Behälter angeordnet
Knd an eine Unterdruckarpparatur angeschlossen. Die Halbleiterscheibe
ttird dabei durch Ansaugen auf der Tragerplatte fest aufgebracht und
•wf ihrer freien Oberrieite »it Schutzlack beschichtet. Zur beiderseitigen
Beschichtung »vß die Behandlung der Unterseite zeitlich getrennt
«rfclgea. AuBenle» Karat alt de» bekannten Aufbau jeweils nur eine Schei-(be
bearbeitet werdcin.
Bei einer andere^/ bekonnten Verfahrensanordnung werden »ehrere Halbleiterscheiben horizontal auf ein Forderband gelegt, gleichzeitig zwischen
zwei in wählbare» Abstand senkrecht Übereinander angeordnete Walzen geführt und auf ihrer freien oberen Flache »it Hilfe der lockspendenden,
oberen Walz« »it einer Lackschicht gewünschter Dicke versehen. Eine
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beiderseitige Beschichtung erfordert ebenfall« die aufeinanderfolgende
Behandlung der beiden Scheibenffeiten.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Anordnung zu schaffen, alt
«κ ^5^wÄ«Ä*«äss^wÄS«s «π γ·«»«««« nncmu UiUfIWUi Hxx eine· scnvczxocK
beschichtet werden können·
Die Ltfsung der Erfindung besteht in einer Vorrichtung, bei ά·χ zwei TrL-gerteile
und wenigstens drei spindelftfcaige Bauteile zu ein··) kafigferaigen
Aufbau eit zueinander parallelen Stirnseiten zur Aufnahme und zwr rototionssyetrischen
Halterung einer Anzahl vcn Halbleiterscheiben verbunden sind, und ' die spindelförsiigen Bauteile in parallelen Ebenem Vertiefungen zur Jeweils puaktfonigen Halterung einer Halbleiterseheibe aufwei-
Anhand der in den Figuren 1 bis 6 dargestellten AusfUhrvnfisbeispiele werden
Aufbau wtä Wirkungsweise des Gegenstand^
<ler Erfindung aufgezeigt und erläutert. Die Figuren 1,3 und 5 zeigen )oN*ils perspektivisch unterschiedliche
Bauforsen der erfindugesaen Anordnung. In Figur 2 sind ein
zvr punktfeniaen Halterung der Halbleiterscheiben dienendes Bauteil des
Erfindungsgegenstandes urd in rflualicher Zuordnung ein» Anzahl von Halbleiterscheiben
ia Schnitt dargestellt. Figur 4 zeigt in Draufsicht ein
Tragerteil der Baufon gsiBft Figur 3 und in Figur 6 ist die Anordnung der
erfindgo»o Vorrichtung in eine· Verfahrensaufbau zus>
Beschichte·! von Halbleiterscheiben dargestellt. FUr gleiche Teile sind in allen Figuren
gleich· Bezeichnungen gewählt.
Der kSfigfSssige Aufbau gesBS Figur } besteht aus den Tragerteilen 11 und
15 «it je 4 Aussparungen, wovon Je drei ( 11a bzw. 15a ) auf eines) geaeinsowen
Teilkreis üb den Hittelpunkt und paarweise deckungsgleich sowie Je
eine vierte Aussparung 11b bzw. 15b in vergleichsweise größere* Abstand
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Mittelpunkt ebenfalls deckungsgleich angeordnet sind, und weiter
vier spindelfBreigen Beuteilen 17, 18 «it beiderseits »tufenfrraij verjüngt ausgebildeten Enden. Drei Ubereinstiaaend ausgebildete Spindeln 17
sind nit ihren nit Gewinde vereee Enden 17a Jeweils durch eine Ausepo-
U feet nit den Tragerteilen 11, 15 verbunden. Die vierte Spindel 18 weist
einen vergleichsweise leien Endabschnitt 181» geringeren Querschnitts zur
Durchfuhrung durch die Aussparung 11b und einen kurzen Edabschnitt 18a
geringeren Querschnitts zun Einstecken in die Aussparung 15b auf. Sie ist
■ittels Federdruck eines Über den Abschnitt 18b geführten Federkerpers 19,
der sich gegen das Tragerteil 11 und gegen den Absatz an Ende des Abschnitts 18b abstutzt, zwischen den Trflgerteilea fixiert.
Die Aussparungen 11a bzw. 15a der beispielsweise kreisscheiben- und sternscheibenfVrnigen
Tragerteile 11 bzw. 15 lUgen auf einen zentrischen Yeilkreisbogen
von lÄT, und seitliche Aussparungen der Trttgerteile liegen
oei» ao£$esteiiten Ausfuiurungsfteispiex jeweils aur Koaianeen, axe e:
Winkel von 90° einschließen. Die Spindeln 17 weisen in «inen Ubereinstianede
Bereich zwischen den Trogerteilen jeweils eii* gleiche Anzahl von
ringfarnigen, in sich geschloscenen Vertiefungen 17· auf ( Figur 2 ).
Diese dienen zur punktfOraigwi Auflage Je einer Halbleiterscheit t>
und sind so angeordnet, OeS die Halbleiterscheiben in gewünschten gegenseitigen
Abstand in parallelen Ebenen jeweils horizontal in den der jsweiligen
Ebene zugeordneten Vertiefungen aufliegen. Die gegenseitige rttunl*«^
ong der Spindeln 17, 18 und danit auch der grO8*e gegenseitige Abstand
der Vertiefungen 17e wird durch die lineare Ausdehnung der vorgesehenen Halbleiterscheiben sowie durch die Forderungen sowohl nach stabiler
Auflage derselben vor des Schließen U* Käfigs durch Anordnung der Spindel
18 als auch nach Berücksichtigung von Ausdehnungstoleranzen beittisat.
Entsprechend diesen Fordere liegt sonit die Spindel 18 auf einen Teilkreis alt einen Radius, der un das lichte MaB der Vertiefung großer ist
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als der Radius des Teilkreises der Spindeln 17. Das Trtfgerteil 11 ist sin
seiner Vorderseite nit einen zylindrischen Ansatz 12 versehen, der beispielsweise
in einer zentralen Aussparung lic befestigt sein kann und
einen radial durchgehenden und Überstehenden Mitnahnerbolzee Ϊ3 zun Eingriff
eines Antriebsaggregats aufweist.
Die Tragerteile und/oder die Spindeln können aus einen Metall bestehen
und gegebenenfalls oberflöchenbehandelt sein oder aber aus einen Kunststoff hergestellt sein.
Bei Wahl einer entspede befestigungsart der Spindeln 17 an den Trogerteilen 11, 15 ist nit einen Satz Spindeln und nit Trttgerplattenpaaren
jeweils unterschiedlicher Flöchenausaehnung und unterschiedlicher Teilung der Aussparungen 11a, 15s bzw. 11b, 15b ein der jeweiligen Grosse der vorgesehenen Halbleiterscheiben entsprechender köfigföxaiger Aufbau
erzielbor.
Figur 2 zeigt einen nit ringföraigen Vertiefungen 17· versehenen Langenabschnitt und ein stufenförmig verjüngt ausgebildetes, nit Gewinde versehenes
Ende 17a einer Spindel 17. Die Vertiefungen 17· können beliebiges Profil aufweisen und nit oder ohne zwischenliegenden, horizontalen
Abschnitt 17f aufeinanderliegend angeordnet sein. Fora und Tiefe der Vertiefungen 17· werden durch die Forderungen bestinsrt, daß Halbleiterscheiben
nit noch zulässiger geringerer Flöchenousdehnung auch bei exzentrischer Lageänderung noch an allen vorgesehenen Stellen aufliegen
nassen, und daS ein Lackstau bein Schleudervorgang verhindert werden nuß.
Die Teilung der Vertiefungen 17· richtet sich nach den erforderlichen
Mindestabstand der Halbleiterscheiben, bei den noch eine einwandfreie Verteilung des Schutziackes zwischen aufeinanderfolgenden Scheiben ge-
wahrleistet ist,und bei den eine nSgliche Abto»verringerung zwischen
zwei Scheiben eufgrund tieferer Lage der oben liegenden Scheibe infolge
ihrer gen Floausdsun und ie Falle ansteigender Flanken <k
Vertiefungen berücksichtigt ist. Die Spindeln 17 können beliebigen Querschnitt
aufweisen. Weiterhin kennen krei«- oder vieleckfBnige Halbleiterscheiben
verwendet r.
Eine Weiterbildung des Gegenstandes der Erfindung besteht genVfi der Darstellung
in den Figuren 3 und 4 darin, daS zur ordg und Halterung von HolbI.ii*«*^*iUr. 5 lediglich drei Sri^l» 17 »»»uhtn sind, wobei
eine Spindel in einer schlitzförmigen, kreisbogenfSrBig verlaufenden,
durchgehenden Öffnung 21c veränderlich angeordnet ist. Die beiden Tragerteile
21 des Aufbaue 2 weisen je zwei Aussparungen 21a zur definierter und festen Ansednung )e einer Spindel 17 auf, wie dies in Figur 1 dargestellt und entsprechend erlButert ist. Dabei schließen die Radianten, auf
welchen die Aussparungen 21a liegen, einen Winkel $rV8er 90 vad kleiner
180°, beispielsweise einen solchen von 120° ein ( Figur 4 ). In ihrer Ausgangsstellung, on Anfang dmx Öffnung 21c und in einen Winkelabstand von
180° zur ersten Aussparung 21a, liegt, die veränderliche Spindel 17 der
ersten fest angeee Spindel dtaaetral gegenüber, entsprechend der
Darstellung in Figur 1. Nach Einbringung der Halbleiterscheiben wird die veränderliche Spindel in ihr* £ndstoUung gebracht und ist an Ende der
Öffnung 21c und in einen Winkelabstand kleiner 180° zur zweiten Aussparung
21a befestigt, so daß bei geschlossenen Käfig sämtliche Spindeln
17 beispielsweise auf eitlen Teilkreis un 120° versetzt angeordnet »ind.
Der zur Halterung des «Hfigs 2 dienende axiale Ansatz 12 des einen TrO-gerteils
21 kenn in einer zentralen Aussparung 21b des letzteren angebracht
sein.
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Ein· andere Weiterbildung ^s Gegenstandes der Erf indumg ist ia Figur 5
aufgezeigt. Si· besteht derin, daß zwei stegfdzaige Teile 37 ait ihr**
Enden j«mUs «ι der Romdzene der Tr&gerteile 31 befestigt sind und «it
dies·» mim·* rotationssmmasch— Rohmen bilden, wad ooß ia dsn TicB-gerteilen
ascki»gsgleich schlitzförmige, radial verlauf·»«** öfu 31c
zur veränderlich«* Anordnung von sämtlichen Spindeln 17, 18 angebracht
sied* Di· Spindel 18 ist gen»« der Drcstellung in Figur 1 *o ausgebildet*
daß sie zum Stapeln der Halbleiterscheiben herausnehmbar und anschliessend
unter F«?ä*rdruck wieder eicar ist· Di· Spindeln sind gegen
wii Dfw« ves i« 4m* 5f SIs rs^isl ssch ssSss vls Γ!!
pe» 39 alt Hilfe von Stellschraube* 36, die durch Gewiadebokrungen 31d
ve* der NantelflOctie der Tragerteile 31 au» in die zugeordneten öffnungen 31a verlaufen, jfeweils auf eine der Flachono*gde 4mx zur Beschichtung vorgesehenen Halbleiterscheibe» entsprochende Position Justiert* Bedarfsweit'%
kann wenigsten« ein TrOgiirteil longs ds« Öffnungen 31a Stellnarken
zur Justierung der Spindeln Ί7 aufwaisen. Ein derartiger Aufbau
ermöglicht ohne Auswechseln von BauJbeilen die Lackbeschichtung von Halbleiterscheiben nit unterschiedlicheir Flachenausdeheung }· vorgesehen»
Anzahl.
Bein Zusammenbau einer Vorrichtung gemBB Figur 1 werden zunächst die Spindel» 17 nit ihren Enden durch Aussparungen 11a bzw. 15a gefuhrt und mit
Hilfe der Muttern 14 «it den TrOgerieilen 11 bzw. 15 fest verbunden. Die
Spindel 18 wird nach der Einbringung der Halbleiterscheiben 5 eingesteckt.
Bein Zusammenbau einer Vorrichtung gemaB Figur 5 werden in entsprehender
Weise zunächst di· Spindeln 17 jeweils in die Offnungen 31a der Tragerteile
31 eingeführt und vorzugsweise mit Hilfe der Feststellschrauben fixiert. Anschließend werden die Stlfbe 37, deren Ausbildung und Befestigung
nicht erfinwetlich und dabei* euch nicht erlOutnrt ist, on
den TrSgsrteües befestigt, sh der Äefbau die notweffdigs aeehawiteh»
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Festigkeit erhält. Noch der Justierung d»t Spindeln 17 xur Av/nohe· von
Halbleiterscheiben 5 gewünschter GrBBe wird die Spindel 18 in der vorbsschriebenen
Weise eingesteckt und ebenfalls Mittels Feststellschraube fixiert.
In Figur 6 ist schließlich eine Verfahrensanordnung zur ng 4ms erfindwsgsgeaseen
Vorrichtung scheaotisch dargestellt. Der kafigf esaige Aufbau 1 axt Halbleiterscheiben 5 ist an einer Rotatioe*vor?icntung S befestigt und zusoKBen alt dieser an eines: Stativ 7 vertikal veränderlich
angebracht. In der dargestellten Lage ist die Vorrichtung ΐ in einen becherförmig·« Beheiter 6 obgesenkt und in den bis zv einen bestimmen Miveert*
in Behälter reichenden Lack eingetaucht, wodurch sich santliche Halbleiterscbeiben
5 gleichzeitig vollständig in Schutzlack befinden. In einer
weiteren Stellung der Vorrichtung Ober den Schutzleek, jedoch siech
innerhalb des Behälters 6, erfolgt durch Rotation der Schleudexvoxgang
und die gewünschte gleichzeitige beiderseitige Beschichtung saatlicher
Halbleiterscheiben,
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Claims (8)
1. Vorrichtung zu« gleichzeitigen, beiderseitigen Beschichten nehrerer
Kalbleiterscheiben «it eines Schutzlack, dadurch gekennzeichnet,
daS zwei Tragerteile ( 11, 21, 31 ) und wenigstens drei spindelförmige
Bauteile (17) zu eines käfigföreigen Aufbau ( 1,2,3 ) »it zueinander
parallelen Stirnseiten zur Aufnahme und zur rotationssymetrischen
Halterung einer Anzahl von Halbleiterscheiben ( 5 ) verbunden sind, und
daß die spindelfttraigers Bauteile ( 17 ) in parallelen Ebenen Vertiefungen
(17e ) zur jeweils punktfureigen Halterung einer Halbleiterscheibe
( 5 ) aufweisen.
2. Vorrichtung noch Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die Trögerteile
scrteibenföroig ausgebildet sind.
3. Vorrichtung noch eines de? Anspruchs 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß in beiden Trägerteilen ( 21 ) deckungsgleich auf einen zentrischen
Teilkreis jeweils wenigstens zwei Aussparungen ( 21a ) zur νesten Anordnung
je eines spindelförmigen, «it Vertiefungen versehenen Bauteils auf
Radianten liegen, die einen Winkel größer 90 und kleiner 180 einsch.liesen,
und daß zur veränderlichen Anordnung eines weiteren, spindelfureigen
Bauteils »it Vertiefungen jeweils eine schlitzförmige, kreisbogenförmig
verlaufende, durchgehende iJffr.ung ( 21c } vorgesehen ist; die in
eines Winkelabstand von 180 zur ersten Aussparung beginnt und in eine«
Winkelabstand kleiner 180 zur zweiten oder letzten Aussparung endet.
4. Vorrichtung nach eine· der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß in beiden Trägerteilen ( 11, 15 ) deckungsgleich auf eine· zentrischen Teilkreisbogen von 180 jeweils drei oder »ehr Aussparungen
( 11α, 15α ) zur festen Anordnung*von'mit'Vertiefungen ( 17e ) versehenen,
spindelförmigen Bauteilen ( 17 ) und jeweils eine weitere, dazu exzentrische Aussparung ( 11b, 15b ) zu-n Einstecken eines weiteren spindelförmigen
Bauteils ( 18 ) vorgesehen sind.
5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das zum Einstek
ken vorgesehene, spindelförmige Bauteil ( 18 ) sich an einem Ende über
einen über das abgesetzt ausgebildete Ende ( 18b ) geführten Federkörper
( 19 ) gegen das zugeordnete Trägerteil ( 11 ) abstützt.
6. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet,
daß zwei stegförmige Teile { 37 ) mit ihren Enden jeweils an der Randzone der Trägerteile ( 31 ) befestigt sind und mit diesen einen rotationssymmetrischen
Rahmen bilden, daß in den irägerteilen deckungsgleich schlitzförmige,
radial verlaufende Öffnungen ( 31a ) zur veränderlichen Anordnung von spindelförmigen Bauteilen ( 17 ) vorgesehen sind, und daß die spindelförmigen
Bauteile gegen den Druck von in den Öffnungen radial nach außen wirkenden Federkörpern ( 39 ) mit Hilfe von Stellschrauben ( 36 ), die
von der Mantelfläche der Trägerteile ( 31 ) durch Gewindebohrungen (3Id)
in die Öffnungen (31a)verlaufen, jeweils auf eine der Flächenai'sdehnung
der zur Beschichtung vorgesehenen Halbleiterscheiben entsprechende Position justiert sind.
7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet,
daß die Trägerteile ( 11, 21, 31 ) und/oder die spindelförmigen Bauteile
( ]7, 18 ) aus einem Metoll bestehen und gegebenenfalls oberflächenbehandelt
sind.
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8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet,
daß die Trägerteile ( 11, 21, 31 ) und/oder die spindelförmigen Bauteile ( 17, 18 ) aus einem Kunststoff bestehen.
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Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19747416254 DE7416254U (de) | 1974-05-09 | 1974-05-09 | Vorrichtung zum gleichzeitigen, beiderseitigen beschichten mehrerer halbleiterscheiben mit einem schutzlack |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19747416254 DE7416254U (de) | 1974-05-09 | 1974-05-09 | Vorrichtung zum gleichzeitigen, beiderseitigen beschichten mehrerer halbleiterscheiben mit einem schutzlack |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE7416254U true DE7416254U (de) | 1978-05-24 |
Family
ID=31957300
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19747416254 Expired DE7416254U (de) | 1974-05-09 | 1974-05-09 | Vorrichtung zum gleichzeitigen, beiderseitigen beschichten mehrerer halbleiterscheiben mit einem schutzlack |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE7416254U (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0077408A1 (de) * | 1981-10-16 | 1983-04-27 | Helmut Seier GmbH | Verfahren und Gerät zum thermischen Behandeln von Halbleiterkörpern |
DE3634935A1 (de) * | 1986-10-14 | 1988-04-28 | Heraeus Schott Quarzschmelze | Vertikalhorde |
-
1974
- 1974-05-09 DE DE19747416254 patent/DE7416254U/de not_active Expired
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0077408A1 (de) * | 1981-10-16 | 1983-04-27 | Helmut Seier GmbH | Verfahren und Gerät zum thermischen Behandeln von Halbleiterkörpern |
DE3634935A1 (de) * | 1986-10-14 | 1988-04-28 | Heraeus Schott Quarzschmelze | Vertikalhorde |
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