DE69707518T2 - Mustersuchverfahren und Vorrichtung zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks - Google Patents

Mustersuchverfahren und Vorrichtung zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks

Info

Publication number
DE69707518T2
DE69707518T2 DE69707518T DE69707518T DE69707518T2 DE 69707518 T2 DE69707518 T2 DE 69707518T2 DE 69707518 T DE69707518 T DE 69707518T DE 69707518 T DE69707518 T DE 69707518T DE 69707518 T2 DE69707518 T2 DE 69707518T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
workpiece
mask
positioning
respect
search method
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE69707518T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69707518D1 (de
Inventor
Yoneta Tanaka
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Original Assignee
Ushio Denki KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK filed Critical Ushio Denki KK
Application granted granted Critical
Publication of DE69707518D1 publication Critical patent/DE69707518D1/de
Publication of DE69707518T2 publication Critical patent/DE69707518T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • GPHYSICS
    • G03PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03FPHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Image Analysis (AREA)
  • Image Processing (AREA)
DE69707518T 1996-01-11 1997-01-10 Mustersuchverfahren und Vorrichtung zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks Expired - Fee Related DE69707518T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP8002953A JPH09189519A (ja) 1996-01-11 1996-01-11 パターン検出方法およびマスクとワークの位置合わせ装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69707518D1 DE69707518D1 (de) 2001-11-29
DE69707518T2 true DE69707518T2 (de) 2002-05-08

Family

ID=11543742

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69707518T Expired - Fee Related DE69707518T2 (de) 1996-01-11 1997-01-10 Mustersuchverfahren und Vorrichtung zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks

Country Status (6)

Country Link
US (1) US6072915A (de)
EP (1) EP0786702B1 (de)
JP (1) JPH09189519A (de)
KR (1) KR970059847A (de)
DE (1) DE69707518T2 (de)
TW (1) TW355757B (de)

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE19728144C2 (de) 1997-07-02 2001-02-01 Ekra Eduard Kraft Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Testmustern
JPH11312635A (ja) * 1998-04-28 1999-11-09 Ushio Inc コンタクト露光方法
JP3802309B2 (ja) * 2000-03-28 2006-07-26 株式会社アドテックエンジニアリング 多層回路基板製造における位置合わせ装置及び露光装置
US6498863B1 (en) 2000-09-20 2002-12-24 Media Cybernetics Inc. Method, system, and product for analyzing a digitized image of an array to create an image of a grid overlay
FR2836575B1 (fr) * 2002-02-28 2004-07-02 Patrick Sandoz Procede de mesure de la localisation d'un objet par detection de phase
KR100479305B1 (ko) * 2002-08-20 2005-03-25 삼성전자주식회사 얼라인 마크 패턴인식방법
CN100390502C (zh) * 2003-03-12 2008-05-28 中国科学院沈阳自动化研究所 一种精密平行度测量方法
GB2403799B (en) * 2003-07-11 2006-04-12 Rolls Royce Plc Image-based measurement
US7388663B2 (en) * 2004-10-28 2008-06-17 Asml Netherlands B.V. Optical position assessment apparatus and method
EP1983412A4 (de) * 2006-01-31 2011-07-20 Kenji Yoshida Bildverarbeitungsverfahren
CN101122457B (zh) * 2006-08-09 2010-09-29 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 影像边界扫描系统及方法
JP4274214B2 (ja) * 2006-09-08 2009-06-03 セイコーエプソン株式会社 液体噴射ヘッドのアライメント装置及びそのアラインメント方法
AU2008243688B2 (en) * 2007-04-26 2013-12-12 Gryphon Systems Engineering Pty Ltd Method and apparatus for three dimensional image processing and analysis
US9547231B2 (en) * 2013-06-12 2017-01-17 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Device and method for making photomask assembly and photodetector device having light-collecting optical microstructure

Family Cites Families (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS5214112B2 (de) * 1973-02-22 1977-04-19
JPS5369063A (en) * 1976-12-01 1978-06-20 Hitachi Ltd Detector of position alignment patterns
US4475122A (en) * 1981-11-09 1984-10-02 Tre Semiconductor Equipment Corporation Automatic wafer alignment technique
US4794648A (en) * 1982-10-25 1988-12-27 Canon Kabushiki Kaisha Mask aligner with a wafer position detecting device
US4566125A (en) * 1982-12-08 1986-01-21 Texas Instruments Incorporated Apparatus and method for pattern location
US4688088A (en) * 1984-04-20 1987-08-18 Canon Kabushiki Kaisha Position detecting device and method
JPS6240146A (ja) * 1985-08-14 1987-02-21 Mitsubishi Electric Corp 荷電ビ−ムパタ−ン欠陥検査装置
US4955062A (en) * 1986-12-10 1990-09-04 Canon Kabushiki Kaisha Pattern detecting method and apparatus
JPH0663740B2 (ja) * 1987-09-28 1994-08-22 住友重機械工業株式会社 アライメントマークの位置検出方法
US4878114A (en) * 1988-05-10 1989-10-31 University Of Windsor Method and apparatus for assessing surface roughness
US5543921A (en) * 1989-05-08 1996-08-06 Canon Kabushiki Kaisha Aligning method utilizing reliability weighting coefficients
JP2851023B2 (ja) * 1992-06-29 1999-01-27 株式会社鷹山 Icの傾き検査方法

Also Published As

Publication number Publication date
EP0786702A2 (de) 1997-07-30
EP0786702B1 (de) 2001-10-24
US6072915A (en) 2000-06-06
TW355757B (en) 1999-04-11
KR970059847A (ko) 1997-08-12
EP0786702A3 (de) 1998-01-07
JPH09189519A (ja) 1997-07-22
DE69707518D1 (de) 2001-11-29

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69610750T2 (de) Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich einer anderen Maske und eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE69610479D1 (de) Vorrichtung und gerät zur standortsbestimmung eines werkzeugs
DE878824T1 (de) Verfahren und Gerät zur Ätzung eines Werkstücks
DE69605512D1 (de) Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Projektionsbelichtungsapparat zur Durchführung des Verfahrens
DE69526985D1 (de) Anordnung und Verfahren zur automatischen Positionierung einer Schiebmarke auf einer Kontrollfläche
DE69707518T2 (de) Mustersuchverfahren und Vorrichtung zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks
DE59503972D1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Beeinflussung eines Ventils
DE69423306D1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Auswahl eines Schriftensatzes
DE59401422D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur erzeugung eines werkstücks
DE69432092D1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Veränderung des Massstabs eines gedruckten Musters
DE59304566D1 (de) Verfahren zum Anstellen einer Kammerrakel an eine farbabgebende Walze und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE69520553D1 (de) Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE69413611D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Einstellung des Abstandes zwischen einem Werkstück und einer Maske
DE69702286T2 (de) Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE69626101D1 (de) Vorrichtung und verfahren zur phasenindexierung eines kurbelzapfens
DE59405408D1 (de) Verfahren und vorrichtung zum einhalten einer vorgegebenen fahrgeschwindigkeit eines fahrzeugs
DE69511201T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Ausrichtung einer Maske und einem Werkstück
DE59801648D1 (de) Vorrichtung und verfahren zum kühlen einer planarinduktivität
DE19983316T1 (de) Drehmaschine und Verfahren zum Drehen eines Werkstücks auf einer Drehmaschine
DE59800780D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Positionieren eines Stellgliedes einer Druckmaschine
DE69520393D1 (de) Gerät und Verfahren zur Definition einer Referenzlage eines Werkzeuges
DE69315416T2 (de) Verfahren zum Stricken eines Kreuzmusters und Vorrichtung zum Stricken eines Kreuzmusters an einer Flachstrickmachine
DE69018086T2 (de) Verfahren und anordnung zur kühlung eines gebäudes.
DE69828280D1 (de) Verfahren zum positionieren mindestens eines bauteils auf einer leiterplatte und vorrichtung um dieses verfahren durchzuführen
DE59502734D1 (de) Vorrichtung zur Bearbeitung eines Werkstücks

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee