DE69702286T2 - Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents

Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens

Info

Publication number
DE69702286T2
DE69702286T2 DE69702286T DE69702286T DE69702286T2 DE 69702286 T2 DE69702286 T2 DE 69702286T2 DE 69702286 T DE69702286 T DE 69702286T DE 69702286 T DE69702286 T DE 69702286T DE 69702286 T2 DE69702286 T2 DE 69702286T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
workpiece
mask
positioning
carrying
respect
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE69702286T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69702286D1 (de
Inventor
Shinetsu Miura
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Original Assignee
Ushio Denki KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK filed Critical Ushio Denki KK
Application granted granted Critical
Publication of DE69702286D1 publication Critical patent/DE69702286D1/de
Publication of DE69702286T2 publication Critical patent/DE69702286T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7088—Alignment mark detection, e.g. TTR, TTL, off-axis detection, array detector, video detection
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70775—Position control, e.g. interferometers or encoders for determining the stage position
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7003—Alignment type or strategy, e.g. leveling, global alignment
    • G03F9/7023—Aligning or positioning in direction perpendicular to substrate surface
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F9/00—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically
    • G03F9/70—Registration or positioning of originals, masks, frames, photographic sheets or textured or patterned surfaces, e.g. automatically for microlithography
    • G03F9/7073—Alignment marks and their environment
    • G03F9/7084—Position of mark on substrate, i.e. position in (x, y, z) of mark, e.g. buried or resist covered mark, mark on rearside, at the substrate edge, in the circuit area, latent image mark, marks in plural levels

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Multimedia (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
DE69702286T 1996-08-01 1997-07-31 Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens Expired - Lifetime DE69702286T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP20357896A JP3324403B2 (ja) 1996-08-01 1996-08-01 マスクとワークの位置合わせ方法および装置

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69702286D1 DE69702286D1 (de) 2000-07-20
DE69702286T2 true DE69702286T2 (de) 2000-12-21

Family

ID=16476435

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69702286T Expired - Lifetime DE69702286T2 (de) 1996-08-01 1997-07-31 Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens

Country Status (6)

Country Link
US (1) US5923990A (de)
EP (1) EP0822455B1 (de)
JP (1) JP3324403B2 (de)
KR (1) KR100463213B1 (de)
DE (1) DE69702286T2 (de)
TW (1) TW324795B (de)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6129259A (en) * 1997-03-31 2000-10-10 Micron Technology, Inc. Bonding and inspection system
JPH11233397A (ja) * 1998-02-13 1999-08-27 Mitsubishi Electric Corp アライメント方法及び半導体装置
DE19882963T1 (de) * 1998-12-22 2001-05-10 Mitsubishi Electric Corp Positionsfehler-Messverfahren und Einrichtung unter Verwendung einer Positionsmarke und Bearbeitungseinrichtung zum Korrigieren einer Position auf Grundlage eines Ergebnisses oder eines Messpositionsfehlers unter Verwendung einer Positionsmarke
KR100579603B1 (ko) * 2001-01-15 2006-05-12 에이에스엠엘 네델란즈 비.브이. 리소그래피 장치
US7113258B2 (en) * 2001-01-15 2006-09-26 Asml Netherlands B.V. Lithographic apparatus
JP4208467B2 (ja) * 2002-01-08 2009-01-14 キヤノン株式会社 カメラシステム及びその制御方法、デバイス製造装置、露光装置並びにデバイスの製造方法
KR100441100B1 (ko) * 2002-07-11 2004-07-19 엘지전자 주식회사 노광공정의 위치측정장치 및 위치측정방법
JP4112472B2 (ja) 2003-10-21 2008-07-02 株式会社東芝 半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置
US7525671B2 (en) * 2006-04-11 2009-04-28 Micronic Laser Systems Ab Registration method and apparatus therefor
US9547231B2 (en) * 2013-06-12 2017-01-17 Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. Device and method for making photomask assembly and photodetector device having light-collecting optical microstructure
CN109950191B (zh) * 2019-03-20 2021-04-30 纳研科技(上海)有限公司 一种双面对准的视觉系统及对准方法

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4052603A (en) * 1974-12-23 1977-10-04 International Business Machines Corporation Object positioning process and apparatus
US4573791A (en) * 1979-04-03 1986-03-04 Optimetrix Corporation Step-and-repeat projection alignment and exposure system
TW381298B (en) * 1994-11-29 2000-02-01 Ushio Electric Inc Positioning method and apparatus between photo mask and workpiece
US5841520A (en) * 1995-08-09 1998-11-24 Nikon Corporatioin Exposure apparatus and method that use mark patterns to determine image formation characteristics of the apparatus prior to exposure

Also Published As

Publication number Publication date
JP3324403B2 (ja) 2002-09-17
EP0822455A3 (de) 1999-07-14
KR100463213B1 (ko) 2005-09-30
JPH1048846A (ja) 1998-02-20
TW324795B (en) 1998-01-11
DE69702286D1 (de) 2000-07-20
EP0822455B1 (de) 2000-06-14
EP0822455A2 (de) 1998-02-04
US5923990A (en) 1999-07-13
KR19980018275A (ko) 1998-06-05

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69610750T2 (de) Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich einer anderen Maske und eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE69605512T2 (de) Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Projektionsbelichtungsapparat zur Durchführung des Verfahrens
DE69533230D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur verbesserung der fehlertoleranz eines netzwerkes
DE69515497T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum verbinden einer komponente mit einem werkstück
DE59707475D1 (de) Verfahren zum Betreiben einer Motorbremse und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE69603598T2 (de) Verfahren und vorrichtung zum anbringen eines gegenstandes an einer glasoberfläche
DE69323966D1 (de) Verfahren zur Ausführung eines Kopierverfahrens und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE69517087D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Einstellung eines Druckkopfes
DE69515447D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung eines Flächenhaftverschluss
ATA149894A (de) Vorrichtung und verfahren zur beeinflussung eines ventils
DE59309398D1 (de) Verfahren zur überwachung eines gebietes und anordnung zur durchführung des verfahrens
DE59502635D1 (de) Verfahren zum Positionieren eines Faserbandendes an einer befüllten Flachkanne und Vorrichtung zur Durchführung
DE69520553T2 (de) Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE59708625D1 (de) Verfahren zur Regelung der Leistung einer Turbogruppe und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE59304566D1 (de) Verfahren zum Anstellen einer Kammerrakel an eine farbabgebende Walze und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE69904694T2 (de) Verfahren zur herstellung und umwälzung eines schaums in einer installation und vorrichtung zum durchführen des verfahrens
DE69413611T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Einstellung des Abstandes zwischen einem Werkstück und einer Maske
DE69707518D1 (de) Mustersuchverfahren und Vorrichtung zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks
DE69702286D1 (de) Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
ATA138894A (de) Verfahren zum einstellen eines vorritzers gegenüber einem trennsägeblatt und vorrichtung zur durchführung des verfahrens
DE50002920D1 (de) Verfahren und vorrichtung zum befestigen eines hilfsfügeteils an einem blechartigen werkstück und werkstück mit hilfsfügeteil
DE69506484D1 (de) Verfahren zur zerstörungsfreien Kennzeichnung des Oberflächenzustandes eines Werkstücks
DE19882118T1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Schaffung eines Einlasses in einer Einheit
DE69511201T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Ausrichtung einer Maske und einem Werkstück
DE59303860D1 (de) Verfahren zur spanenden Bearbeitung eines Radsatzes und Einrichtung zur Durchführung des Verfahrens

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition