DE69413611T2 - Verfahren und Vorrichtung zur Einstellung des Abstandes zwischen einem Werkstück und einer Maske - Google Patents

Verfahren und Vorrichtung zur Einstellung des Abstandes zwischen einem Werkstück und einer Maske

Info

Publication number
DE69413611T2
DE69413611T2 DE69413611T DE69413611T DE69413611T2 DE 69413611 T2 DE69413611 T2 DE 69413611T2 DE 69413611 T DE69413611 T DE 69413611T DE 69413611 T DE69413611 T DE 69413611T DE 69413611 T2 DE69413611 T2 DE 69413611T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
workpiece
mask
adjusting
distance
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE69413611T
Other languages
English (en)
Other versions
DE69413611D1 (de
Inventor
Yoneta Tanaka
Shoichi Okada
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Ushio Denki KK
Original Assignee
Ushio Denki KK
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Ushio Denki KK filed Critical Ushio Denki KK
Publication of DE69413611D1 publication Critical patent/DE69413611D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE69413611T2 publication Critical patent/DE69413611T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
    • H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/682—Mask-wafer alignment
DE69413611T 1993-07-08 1994-07-07 Verfahren und Vorrichtung zur Einstellung des Abstandes zwischen einem Werkstück und einer Maske Expired - Lifetime DE69413611T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP19270993 1993-07-08

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE69413611D1 DE69413611D1 (de) 1998-11-05
DE69413611T2 true DE69413611T2 (de) 1999-02-25

Family

ID=16295757

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE69413611T Expired - Lifetime DE69413611T2 (de) 1993-07-08 1994-07-07 Verfahren und Vorrichtung zur Einstellung des Abstandes zwischen einem Werkstück und einer Maske

Country Status (4)

Country Link
US (1) US5543890A (de)
EP (1) EP0633505B1 (de)
KR (1) KR100208739B1 (de)
DE (1) DE69413611T2 (de)

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0722122B1 (de) * 1995-01-10 1998-09-16 Ushiodenki Kabushiki Kaisha Verfahren und Vorrichtung zur Einstellung des Abstandes zwischen eine Werkstuck und einer Maske
KR100379873B1 (ko) * 1995-07-11 2003-08-21 우시오덴키 가부시키가이샤 막질개량방법
JP3334569B2 (ja) * 1996-09-27 2002-10-15 ウシオ電機株式会社 照射角度を変えられるプロキシミティ露光装置
JP3322167B2 (ja) * 1997-05-29 2002-09-09 ウシオ電機株式会社 マスク保持フレームの支持構造
JPH11312635A (ja) 1998-04-28 1999-11-09 Ushio Inc コンタクト露光方法
JP3678079B2 (ja) * 1999-10-26 2005-08-03 ウシオ電機株式会社 マスクとワークの間隔設定手段を備えたコンタクト露光装置
JP2003029414A (ja) * 2001-07-19 2003-01-29 Adtec Engineeng Co Ltd 露光装置
JP4122922B2 (ja) * 2002-10-18 2008-07-23 ウシオ電機株式会社 平面ステージ装置
JP4158514B2 (ja) 2002-12-24 2008-10-01 ウシオ電機株式会社 両面投影露光装置
US7413612B2 (en) * 2003-07-10 2008-08-19 Applied Materials, Inc. In situ substrate holder leveling method and apparatus
US20060097992A1 (en) * 2004-10-25 2006-05-11 Motorola, Inc. Apparatus and method of determining a user selection in a user interface
US7572340B2 (en) * 2004-11-29 2009-08-11 Applied Materials, Inc. High resolution substrate holder leveling device and method
WO2013040219A1 (en) * 2011-09-14 2013-03-21 Memc Singapore Pte, Ltd. Directional solidification furnace having movable heat exchangers
JP5993313B2 (ja) * 2013-01-18 2016-09-14 株式会社アルバック 姿勢制御装置
KR102181233B1 (ko) * 2013-07-19 2020-11-23 삼성디스플레이 주식회사 기상 증착 장치 및 이를 이용한 표시 장치의 제조방법
CN103885298B (zh) 2014-03-06 2015-11-25 京东方科技集团股份有限公司 曝光装置及曝光系统
CN111730430B (zh) * 2020-07-30 2021-10-15 华海清科(北京)科技有限公司 具有可调节的吸盘转台的磨削设备

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3192844A (en) * 1963-03-05 1965-07-06 Kulicke And Soffa Mfg Company Mask alignment fixture
US3645622A (en) * 1970-03-31 1972-02-29 Ibm Method and apparatus for aligning a photomask
JPS5784306A (en) * 1980-11-14 1982-05-26 Toshiba Corp Method for providing gap
US4431304A (en) * 1981-11-25 1984-02-14 Mayer Herbert E Apparatus for the projection copying of mask patterns on a workpiece
DD233284A3 (de) * 1983-07-01 1986-02-26 Udo Battig Aufnahmetisch zum pruefen und bearbeiten von halbleiterscheiben

Also Published As

Publication number Publication date
KR100208739B1 (ko) 1999-07-15
DE69413611D1 (de) 1998-11-05
KR950004371A (ko) 1995-02-17
EP0633505A1 (de) 1995-01-11
EP0633505B1 (de) 1998-09-30
US5543890A (en) 1996-08-06

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE69610750T2 (de) Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich einer anderen Maske und eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE69517087T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Einstellung eines Druckkopfes
DE69533230D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur verbesserung der fehlertoleranz eines netzwerkes
DE69413611D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Einstellung des Abstandes zwischen einem Werkstück und einer Maske
DE59401422D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur erzeugung eines werkstücks
ATA149894A (de) Vorrichtung und verfahren zur beeinflussung eines ventils
DE69415791D1 (de) Vorrichtung und verfahren zum einstellen der bearbeitungsbedingungen einer drahtfunkenerosionsvorrichtung
DE69313973T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen einer Normalisierungskurve
DE69423605D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Directformung einer Dichtung auf einem Werkstück.
DE69432613D1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Kommunikation zwischen einem Rechner und einem periphären Gerät
DE69317243D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung eines Prozesses
DE69609213T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Beseitigung der Längskrümmung einer Metallplatte
DE69520553D1 (de) Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE69403003D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Pulverbeschichtung einer Fahrzeugkarosserie
DE69511201D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Ausrichtung einer Maske und einem Werkstück
DE69702286D1 (de) Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
DE69301474T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Hochdruck-IMC-Beschichtung
DE69309046D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Ueberwachung einer Spalte
DE69010248D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung eines Druckers.
DE69330153T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Evaluieren der Interaktion zwischen einer Pflanze und einer Mikrobe
DE69312746D1 (de) Verfahren und vorrichtung zum herstellen einer strassenmarkierung
DE69425362D1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Steuerung eines Halbleiterlasers
DE69421722D1 (de) Verfahren und vorrichtung zur verbesserung der kegelform eines zylindrischen werkstückes
DE69409282T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Rekonfiguration in Echtzeit einer Fahrzeugstrajektorie
DE59502734D1 (de) Vorrichtung zur Bearbeitung eines Werkstücks

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition