DE69702286D1 - Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens - Google Patents
Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des VerfahrensInfo
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- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- Liquid Crystal (AREA)
- Preparing Plates And Mask In Photomechanical Process (AREA)
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20357896A JP3324403B2 (ja) | 1996-08-01 | 1996-08-01 | マスクとワークの位置合わせ方法および装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69702286D1 true DE69702286D1 (de) | 2000-07-20 |
DE69702286T2 DE69702286T2 (de) | 2000-12-21 |
Family
ID=16476435
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69702286T Expired - Lifetime DE69702286T2 (de) | 1996-08-01 | 1997-07-31 | Verfahren zur Positionierung einer Maske bezüglich eines Werkstücks und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5923990A (de) |
EP (1) | EP0822455B1 (de) |
JP (1) | JP3324403B2 (de) |
KR (1) | KR100463213B1 (de) |
DE (1) | DE69702286T2 (de) |
TW (1) | TW324795B (de) |
Families Citing this family (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6129259A (en) * | 1997-03-31 | 2000-10-10 | Micron Technology, Inc. | Bonding and inspection system |
JPH11233397A (ja) * | 1998-02-13 | 1999-08-27 | Mitsubishi Electric Corp | アライメント方法及び半導体装置 |
DE19882963T1 (de) * | 1998-12-22 | 2001-05-10 | Mitsubishi Electric Corp | Positionsfehler-Messverfahren und Einrichtung unter Verwendung einer Positionsmarke und Bearbeitungseinrichtung zum Korrigieren einer Position auf Grundlage eines Ergebnisses oder eines Messpositionsfehlers unter Verwendung einer Positionsmarke |
US7113258B2 (en) * | 2001-01-15 | 2006-09-26 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
US6768539B2 (en) * | 2001-01-15 | 2004-07-27 | Asml Netherlands B.V. | Lithographic apparatus |
JP4208467B2 (ja) * | 2002-01-08 | 2009-01-14 | キヤノン株式会社 | カメラシステム及びその制御方法、デバイス製造装置、露光装置並びにデバイスの製造方法 |
KR100441100B1 (ko) * | 2002-07-11 | 2004-07-19 | 엘지전자 주식회사 | 노광공정의 위치측정장치 및 위치측정방법 |
JP4112472B2 (ja) | 2003-10-21 | 2008-07-02 | 株式会社東芝 | 半導体装置の製造方法及び半導体装置の製造装置 |
US7525671B2 (en) * | 2006-04-11 | 2009-04-28 | Micronic Laser Systems Ab | Registration method and apparatus therefor |
US9547231B2 (en) * | 2013-06-12 | 2017-01-17 | Avago Technologies General Ip (Singapore) Pte. Ltd. | Device and method for making photomask assembly and photodetector device having light-collecting optical microstructure |
CN109950191B (zh) * | 2019-03-20 | 2021-04-30 | 纳研科技(上海)有限公司 | 一种双面对准的视觉系统及对准方法 |
Family Cites Families (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4052603A (en) * | 1974-12-23 | 1977-10-04 | International Business Machines Corporation | Object positioning process and apparatus |
US4573791A (en) * | 1979-04-03 | 1986-03-04 | Optimetrix Corporation | Step-and-repeat projection alignment and exposure system |
TW417158B (en) * | 1994-11-29 | 2001-01-01 | Ushio Electric Inc | Method and device for positioning mask and workpiece |
US5841520A (en) * | 1995-08-09 | 1998-11-24 | Nikon Corporatioin | Exposure apparatus and method that use mark patterns to determine image formation characteristics of the apparatus prior to exposure |
-
1996
- 1996-08-01 JP JP20357896A patent/JP3324403B2/ja not_active Expired - Fee Related
-
1997
- 1997-06-17 TW TW086108452A patent/TW324795B/zh not_active IP Right Cessation
- 1997-07-31 KR KR1019970036728A patent/KR100463213B1/ko not_active IP Right Cessation
- 1997-07-31 DE DE69702286T patent/DE69702286T2/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-07-31 EP EP97113272A patent/EP0822455B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1997-08-01 US US08/904,768 patent/US5923990A/en not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0822455A2 (de) | 1998-02-04 |
JPH1048846A (ja) | 1998-02-20 |
DE69702286T2 (de) | 2000-12-21 |
KR19980018275A (ko) | 1998-06-05 |
EP0822455A3 (de) | 1999-07-14 |
TW324795B (en) | 1998-01-11 |
EP0822455B1 (de) | 2000-06-14 |
US5923990A (en) | 1999-07-13 |
KR100463213B1 (ko) | 2005-09-30 |
JP3324403B2 (ja) | 2002-09-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition |