DE69616723T2 - Negativarbeitendes Bildaufzeichnungsmaterial - Google Patents
Negativarbeitendes BildaufzeichnungsmaterialInfo
- Publication number
- DE69616723T2 DE69616723T2 DE69616723T DE69616723T DE69616723T2 DE 69616723 T2 DE69616723 T2 DE 69616723T2 DE 69616723 T DE69616723 T DE 69616723T DE 69616723 T DE69616723 T DE 69616723T DE 69616723 T2 DE69616723 T2 DE 69616723T2
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- negative
- working image
- group
- water
- image recording
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Lifetime
Links
- 239000000463 material Substances 0.000 title claims description 85
- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 50
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 50
- 239000000049 pigment Substances 0.000 claims description 49
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 45
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 44
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 38
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims description 32
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 31
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 claims description 30
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 21
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 19
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 claims description 13
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 13
- 239000006229 carbon black Substances 0.000 claims description 12
- 229920000178 Acrylic resin Polymers 0.000 claims description 9
- 239000004925 Acrylic resin Substances 0.000 claims description 9
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 8
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 claims description 8
- 239000003513 alkali Substances 0.000 claims description 7
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 claims description 5
- 229920006267 polyester film Polymers 0.000 claims description 5
- 125000002252 acyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 4
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 97
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 86
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 72
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 64
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 44
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 42
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 42
- 238000007639 printing Methods 0.000 description 35
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 32
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 30
- -1 hydroxymethylene groups Chemical group 0.000 description 23
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 19
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 18
- BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L potassium carbonate Chemical compound [K+].[K+].[O-]C([O-])=O BWHMMNNQKKPAPP-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 18
- QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N Sulfuric acid Chemical compound OS(O)(=O)=O QAOWNCQODCNURD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- 238000011282 treatment Methods 0.000 description 16
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 15
- 238000004007 reversed phase HPLC Methods 0.000 description 15
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 14
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 14
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 14
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 12
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;2-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=CC=C1O VOOLKNUJNPZAHE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 11
- 239000011541 reaction mixture Substances 0.000 description 11
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 10
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 10
- 239000010408 film Substances 0.000 description 10
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 9
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 9
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 9
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 9
- 229910000027 potassium carbonate Inorganic materials 0.000 description 9
- 235000011181 potassium carbonates Nutrition 0.000 description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 9
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 9
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 8
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 8
- 238000010992 reflux Methods 0.000 description 8
- YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N Dichloromethane Chemical compound ClCCl YMWUJEATGCHHMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M Potassium hydroxide Chemical compound [OH-].[K+] KWYUFKZDYYNOTN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 6
- 238000007788 roughening Methods 0.000 description 6
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 6
- VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)-N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)C(=O)NCCC(N1CC2=C(CC1)NN=N2)=O VZSRBBMJRBPUNF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 5
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 5
- 125000004184 methoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 5
- HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 1-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C(CN1CC2=C(CC1)NN=N2)=O HMUNWXXNJPVALC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 2-methylphenol;3-methylphenol;4-methylphenol Chemical compound CC1=CC=C(O)C=C1.CC1=CC=CC(O)=C1.CC1=CC=CC=C1O QTWJRLJHJPIABL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N Fluorine atom Chemical compound [F] YCKRFDGAMUMZLT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L Sodium Carbonate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-]C([O-])=O CDBYLPFSWZWCQE-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M Sodium bicarbonate Chemical compound [Na+].OC([O-])=O UIIMBOGNXHQVGW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 4
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 4
- 229930003836 cresol Natural products 0.000 description 4
- 150000001989 diazonium salts Chemical class 0.000 description 4
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 4
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 4
- 229920001568 phenolic resin Polymers 0.000 description 4
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 4
- ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxy-6-methylbenzaldehyde Chemical compound CC1=CC=CC(O)=C1C=O ZRUOTKQBVMWMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YTTFFPATQICAQN-UHFFFAOYSA-N 2-methoxypropan-1-ol Chemical compound COC(C)CO YTTFFPATQICAQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M Lithium hydroxide Chemical compound [Li+].[OH-] WMFOQBRAJBCJND-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N N-[3-oxo-3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CCNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 AFCARXCZXQIEQB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N Triethylamine Chemical compound CCN(CC)CC ZMANZCXQSJIPKH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 3
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 3
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 3
- 239000003945 anionic surfactant Substances 0.000 description 3
- 239000000987 azo dye Substances 0.000 description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 238000000354 decomposition reaction Methods 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N diisopropylamine Chemical compound CC(C)NC(C)C UAOMVDZJSHZZME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;4-methylphenol Chemical compound O=C.CC1=CC=C(O)C=C1 USEUJPGSYMRJHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 3
- 239000000178 monomer Substances 0.000 description 3
- 239000000843 powder Substances 0.000 description 3
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 3
- 238000004381 surface treatment Methods 0.000 description 3
- ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M thionine Chemical compound [Cl-].C1=CC(N)=CC2=[S+]C3=CC(N)=CC=C3N=C21 ANRHNWWPFJCPAZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethanone Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)N1CC2=C(CC1)NN=N2 WZFUQSJFWNHZHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethyl acetate Chemical compound COCCOC(C)=O XLLIQLLCWZCATF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VJMWNJWOAKHNDM-UHFFFAOYSA-N 4-[3,3,5-tris(4-hydroxyphenyl)pentyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CCC(C=1C=CC(O)=CC=1)(C=1C=CC(O)=CC=1)CCC1=CC=C(O)C=C1 VJMWNJWOAKHNDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 6-[(5S)-5-[[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]methyl]-2-oxo-1,3-oxazolidin-3-yl]-3H-1,3-benzoxazol-2-one Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)C[C@H]1CN(C(O1)=O)C1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 CONKBQPVFMXDOV-QHCPKHFHSA-N 0.000 description 2
- ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N Ammonium bicarbonate Chemical compound [NH4+].OC([O-])=O ATRRKUHOCOJYRX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N Argon Chemical compound [Ar] XKRFYHLGVUSROY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N Dimethylamine Chemical compound CNC ROSDSFDQCJNGOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N Dimethylsulphoxide Chemical compound CS(C)=O IAZDPXIOMUYVGZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N Ethylamine Chemical compound CCN QUSNBJAOOMFDIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M Ilexoside XXIX Chemical compound C[C@@H]1CC[C@@]2(CC[C@@]3(C(=CC[C@H]4[C@]3(CC[C@@H]5[C@@]4(CC[C@@H](C5(C)C)OS(=O)(=O)[O-])C)C)[C@@H]2[C@]1(C)O)C)C(=O)O[C@H]6[C@@H]([C@H]([C@@H]([C@H](O6)CO)O)O)O.[Na+] DGAQECJNVWCQMB-PUAWFVPOSA-M 0.000 description 2
- BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N Methylamine Chemical compound NC BAVYZALUXZFZLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N Nitric acid Chemical compound O[N+]([O-])=O GRYLNZFGIOXLOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004677 Nylon Substances 0.000 description 2
- BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N Orthosilicate Chemical compound [O-][Si]([O-])([O-])[O-] BPQQTUXANYXVAA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical compound CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N Phosphoric acid Chemical compound OP(O)(O)=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004698 Polyethylene Substances 0.000 description 2
- 239000002202 Polyethylene glycol Substances 0.000 description 2
- 239000004743 Polypropylene Substances 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000004111 Potassium silicate Substances 0.000 description 2
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N Pyrrole Chemical compound C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N Tributyl citrate Chemical compound CCCCOC(=O)CC(O)(C(=O)OCCCC)CC(=O)OCCCC ZFOZVQLOBQUTQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000010724 Wisteria floribunda Nutrition 0.000 description 2
- WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N acetyl chloride Chemical compound CC(Cl)=O WETWJCDKMRHUPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012346 acetyl chloride Substances 0.000 description 2
- 150000008065 acid anhydrides Chemical class 0.000 description 2
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 2
- VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K aluminium trichloride Chemical compound Cl[Al](Cl)Cl VSCWAEJMTAWNJL-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 239000001099 ammonium carbonate Substances 0.000 description 2
- 229910052786 argon Inorganic materials 0.000 description 2
- UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N beta-alanine Chemical compound NCCC(O)=O UCMIRNVEIXFBKS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 2
- JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N cyclohexanone Chemical compound O=C1CCCCC1 JHIVVAPYMSGYDF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N diammonium hydrogen phosphate Chemical group [NH4+].[NH4+].OP([O-])([O-])=O MNNHAPBLZZVQHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N dibutyl phthalate Chemical compound CCCCOC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OCCCC DOIRQSBPFJWKBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003792 electrolyte Substances 0.000 description 2
- 125000005745 ethoxymethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])OC([H])([H])* 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N formaldehyde;phenol Chemical compound O=C.OC1=CC=CC=C1 SLGWESQGEUXWJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 2
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 description 2
- FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M malachite green Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1C(C=1C=CC=CC=1)=C1C=CC(=[N+](C)C)C=C1 FDZZZRQASAIRJF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 2
- 125000001434 methanylylidene group Chemical group [H]C#[*] 0.000 description 2
- 239000012046 mixed solvent Substances 0.000 description 2
- 229910017604 nitric acid Inorganic materials 0.000 description 2
- 229920001778 nylon Polymers 0.000 description 2
- 239000003960 organic solvent Substances 0.000 description 2
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 description 2
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 description 2
- 239000005011 phenolic resin Substances 0.000 description 2
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical compound O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 description 2
- 239000004033 plastic Substances 0.000 description 2
- 229920003023 plastic Polymers 0.000 description 2
- 229920000573 polyethylene Polymers 0.000 description 2
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 229920001155 polypropylene Polymers 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 238000012805 post-processing Methods 0.000 description 2
- NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N potassium silicate Chemical compound [K+].[K+].[O-][Si]([O-])=O NNHHDJVEYQHLHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052913 potassium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000019353 potassium silicate Nutrition 0.000 description 2
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 2
- WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N pyrylium Chemical class C1=CC=[O+]C=C1 WVIICGIFSIBFOG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000012487 rinsing solution Substances 0.000 description 2
- 239000011734 sodium Substances 0.000 description 2
- 229910052708 sodium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910000030 sodium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- 235000017557 sodium bicarbonate Nutrition 0.000 description 2
- 229910000029 sodium carbonate Inorganic materials 0.000 description 2
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 2
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 2
- GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N trimethylamine Chemical compound CN(C)C GETQZCLCWQTVFV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K tripotassium phosphate Chemical group [K+].[K+].[K+].[O-]P([O-])([O-])=O LWIHDJKSTIGBAC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 1,4-Dioxane Chemical compound C1COCCO1 RYHBNJHYFVUHQT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-2-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)C(CN1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)=O OHVLMTFVQDZYHP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 1-aminopropan-2-ol Chemical compound CC(O)CN HXKKHQJGJAFBHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]ethanone Chemical compound C1CN(CC2=NNN=C21)CC(=O)N3CCN(CC3)C4=CN=C(N=C4)NCC5=CC(=CC=C5)OC(F)(F)F LDXJRKWFNNFDSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 2-(bromomethyl)-1-iodo-4-(trifluoromethyl)benzene Chemical compound FC(F)(F)C1=CC=C(I)C(CBr)=C1 YEVQZPWSVWZAOB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 2-Aminoethan-1-ol Chemical compound NCCO HZAXFHJVJLSVMW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 2-[4-[2-(2,3-dihydro-1H-inden-2-ylamino)pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]-N-(2-oxo-3H-1,3-benzoxazol-6-yl)acetamide Chemical compound C1C(CC2=CC=CC=C12)NC1=NC=C(C=N1)N1CCN(CC1)CC(=O)NC1=CC2=C(NC(O2)=O)C=C1 JQMFQLVAJGZSQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-hydroxy-2,2-bis(hydroxymethyl)propoxy]methyl]-2-(hydroxymethyl)propane-1,3-diol Chemical compound OCC(CO)(CO)COCC(CO)(CO)CO TXBCBTDQIULDIA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 2-methoxy-6-methylphenol Chemical compound [CH]OC1=CC=CC([CH])=C1O KXGFMDJXCMQABM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 2-phenylethenol Polymers OC=CC1=CC=CC=C1 XLLXMBCBJGATSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 3-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)-1-[4-[2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidin-5-yl]piperazin-1-yl]propan-1-one Chemical compound N1N=NC=2CN(CCC=21)CCC(=O)N1CCN(CC1)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F YLZOPXRUQYQQID-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 3-methoxypropyl acetate Chemical compound COCCCOC(C)=O CCTFMNIEFHGTDU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004203 4-hydroxyphenyl group Chemical group [H]OC1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 8beta-(2,3-epoxy-2-methylbutyryloxy)-14-acetoxytithifolin Natural products COC(=O)C(C)O LPEKGGXMPWTOCB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 1
- QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O Ammonium Chemical compound [NH4+] QGZKDVFQNNGYKY-UHFFFAOYSA-O 0.000 description 1
- 229910000013 Ammonium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N Ammonium hydroxide Chemical compound [NH4+].[OH-] VHUUQVKOLVNVRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920001747 Cellulose diacetate Polymers 0.000 description 1
- DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N Cellulose propionate Chemical compound CCC(=O)OCC1OC(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C1OC1C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(OC(=O)CC)C(COC(=O)CC)O1 DQEFEBPAPFSJLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002284 Cellulose triacetate Polymers 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N Cyclohexane Chemical compound C1CCCCC1 XDTMQSROBMDMFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N Ethylenediamine Chemical compound NCCN PIICEJLVQHRZGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N Inositol-hexakisphosphate Chemical compound OP(O)(=O)O[C@H]1[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@H](OP(O)(O)=O)[C@@H]1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-GPIVLXJGSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N Methacrylic acid Chemical compound CC(=C)C(O)=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000881 Modified starch Polymers 0.000 description 1
- FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylacetamide Chemical compound CN(C)C(C)=O FXHOOIRPVKKKFG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N N-[1-oxo-1-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)propan-2-yl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(C(C)NC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 MKYBYDHXWVHEJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N N-[2-oxo-2-(2,4,6,7-tetrahydrotriazolo[4,5-c]pyridin-5-yl)ethyl]-2-[[3-(trifluoromethoxy)phenyl]methylamino]pyrimidine-5-carboxamide Chemical compound O=C(CNC(=O)C=1C=NC(=NC=1)NCC1=CC(=CC=C1)OC(F)(F)F)N1CC2=C(CC1)NN=N2 NIPNSKYNPDTRPC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930192627 Naphthoquinone Natural products 0.000 description 1
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N Phenylphosphonic acid Chemical compound OP(O)(=O)C1=CC=CC=C1 QLZHNIAADXEJJP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N Phosphorous acid Chemical compound OP(O)=O ABLZXFCXXLZCGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N Phytic acid Natural products OP(O)(=O)OC1C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C(OP(O)(O)=O)C1OP(O)(O)=O IMQLKJBTEOYOSI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N Potassium Chemical compound [K] ZLMJMSJWJFRBEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N Quinacridone Chemical compound N1C2=CC=CC=C2C(=O)C2=C1C=C1C(=O)C3=CC=CC=C3NC1=C2 NRCMAYZCPIVABH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910006069 SO3H Inorganic materials 0.000 description 1
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 1
- 239000006087 Silane Coupling Agent Substances 0.000 description 1
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002125 Sokalan® Polymers 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N Sulfurous acid Chemical compound OS(O)=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N TOTP Chemical compound CC1=CC=CC=C1OP(=O)(OC=1C(=CC=CC=1)C)OC1=CC=CC=C1C YSMRWXYRXBRSND-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N Triethanolamine Chemical compound OCCN(CCO)CCO GSEJCLTVZPLZKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N [(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5-diacetyloxy-3-[(2s,3r,4s,5r,6r)-3,4,5-triacetyloxy-6-(acetyloxymethyl)oxan-2-yl]oxy-6-[(2r,3r,4s,5r,6s)-4,5,6-triacetyloxy-2-(acetyloxymethyl)oxan-3-yl]oxyoxan-2-yl]methyl acetate Chemical compound O([C@@H]1O[C@@H]([C@H]([C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O)O[C@H]1[C@@H]([C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@@H](COC(C)=O)O1)OC(C)=O)COC(=O)C)[C@@H]1[C@@H](COC(C)=O)O[C@@H](OC(C)=O)[C@H](OC(C)=O)[C@H]1OC(C)=O NNLVGZFZQQXQNW-ADJNRHBOSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 1
- 239000002250 absorbent Substances 0.000 description 1
- 230000002745 absorbent Effects 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000001241 acetals Chemical class 0.000 description 1
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000004450 alkenylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 1
- 150000005215 alkyl ethers Chemical class 0.000 description 1
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 description 1
- 229910000147 aluminium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012538 ammonium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- 235000012501 ammonium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000000908 ammonium hydroxide Substances 0.000 description 1
- 239000002280 amphoteric surfactant Substances 0.000 description 1
- 125000000129 anionic group Chemical group 0.000 description 1
- PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N anthraquinone Natural products CCC(=O)c1c(O)c2C(=O)C3C(C=CC=C3O)C(=O)c2cc1CC(=O)OC PYKYMHQGRFAEBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001000 anthraquinone dye Substances 0.000 description 1
- 150000004056 anthraquinones Chemical class 0.000 description 1
- 239000008346 aqueous phase Substances 0.000 description 1
- 239000007900 aqueous suspension Substances 0.000 description 1
- 239000002585 base Substances 0.000 description 1
- 239000000981 basic dye Substances 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 125000003236 benzoyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(C([H])=C1[H])C(*)=O 0.000 description 1
- AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N benzyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CC(=C)C(=O)OCC1=CC=CC=C1 AOJOEFVRHOZDFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940000635 beta-alanine Drugs 0.000 description 1
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 description 1
- 239000001055 blue pigment Substances 0.000 description 1
- KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N boric acid Chemical compound OB(O)O KGBXLFKZBHKPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004327 boric acid Substances 0.000 description 1
- 239000001058 brown pigment Substances 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004063 butyryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N cadmium helium Chemical compound [He].[Cd] UIZLQMLDSWKZGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005626 carbonium group Chemical group 0.000 description 1
- 125000002915 carbonyl group Chemical group [*:2]C([*:1])=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 125000002091 cationic group Chemical group 0.000 description 1
- 239000003093 cationic surfactant Substances 0.000 description 1
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 1
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 1
- 229920001727 cellulose butyrate Polymers 0.000 description 1
- 229920006218 cellulose propionate Polymers 0.000 description 1
- 239000013522 chelant Substances 0.000 description 1
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 description 1
- KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L chromic acid Substances O[Cr](O)(=O)=O KRVSOGSZCMJSLX-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 239000003086 colorant Substances 0.000 description 1
- 238000004040 coloring Methods 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 150000004696 coordination complex Chemical class 0.000 description 1
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 1
- ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M crystal violet Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC=C1[C+](C=1C=CC(=CC=1)N(C)C)C1=CC=C(N(C)C)C=C1 ZXJXZNDDNMQXFV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000002425 crystallisation Methods 0.000 description 1
- 230000008025 crystallization Effects 0.000 description 1
- 238000010908 decantation Methods 0.000 description 1
- 239000012954 diazonium Substances 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N diethylamine Chemical compound CCNCC HPNMFZURTQLUMO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N diisopropanolamine Chemical compound CC(O)CNCC(C)O LVTYICIALWPMFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043276 diisopropanolamine Drugs 0.000 description 1
- 229940043279 diisopropylamine Drugs 0.000 description 1
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001760 dimethyl sulfoxide Drugs 0.000 description 1
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 1
- PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N dioxazine Chemical compound O1ON=CC=C1 PPSZHCXTGRHULJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L dipotassium hydrogen phosphate Chemical compound [K+].[K+].OP([O-])([O-])=O ZPWVASYFFYYZEW-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H dipotassium;hexafluorozirconium(2-) Chemical compound [F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[F-].[K+].[K+].[Zr+4] BJZIJOLEWHWTJO-UHFFFAOYSA-H 0.000 description 1
- ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N doxepin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2C(=C/CCN(C)C)/C2=CC=CC=C21 ODQWQRRAPPTVAG-GZTJUZNOSA-N 0.000 description 1
- 238000004070 electrodeposition Methods 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 125000001033 ether group Chemical group 0.000 description 1
- 229940093499 ethyl acetate Drugs 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000004088 foaming agent Substances 0.000 description 1
- 125000002485 formyl group Chemical group [H]C(*)=O 0.000 description 1
- AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N furo[3,4-b]pyrazine-5,7-dione Chemical compound C1=CN=C2C(=O)OC(=O)C2=N1 AWJWCTOOIBYHON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 239000001056 green pigment Substances 0.000 description 1
- 239000008233 hard water Substances 0.000 description 1
- 230000020169 heat generation Effects 0.000 description 1
- CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N helium neon Chemical compound [He].[Ne] CPBQJMYROZQQJC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N hexane-1,1-diol Chemical compound CCCCCC(O)O ACCCMOQWYVYDOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000001771 impaired effect Effects 0.000 description 1
- 230000002401 inhibitory effect Effects 0.000 description 1
- 229910001389 inorganic alkali salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001023 inorganic pigment Substances 0.000 description 1
- 238000010884 ion-beam technique Methods 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N isoindolin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NCC2=C1 PXZQEOJJUGGUIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N isopropylamine Chemical compound CC(C)N JJWLVOIRVHMVIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052743 krypton Inorganic materials 0.000 description 1
- DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N krypton atom Chemical compound [Kr] DNNSSWSSYDEUBZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 229940107698 malachite green Drugs 0.000 description 1
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 1
- QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N mercury Chemical compound [Hg] QSHDDOUJBYECFT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910001507 metal halide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000005309 metal halides Chemical class 0.000 description 1
- 229920000609 methyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 229940057867 methyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000001923 methylcellulose Substances 0.000 description 1
- 235000010981 methylcellulose Nutrition 0.000 description 1
- CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M methylene blue Chemical compound [Cl-].C1=CC(N(C)C)=CC2=[S+]C3=CC(N(C)C)=CC=C3N=C21 CXKWCBBOMKCUKX-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229960000907 methylthioninium chloride Drugs 0.000 description 1
- 150000007522 mineralic acids Chemical class 0.000 description 1
- 235000019426 modified starch Nutrition 0.000 description 1
- LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N n'-hydroxy-2-propan-2-ylsulfonylethanimidamide Chemical compound CC(C)S(=O)(=O)CC(N)=NO LNOPIUAQISRISI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004108 n-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000004123 n-propyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 150000002791 naphthoquinones Chemical class 0.000 description 1
- 125000004957 naphthylene group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000449 nitro group Chemical group [O-][N+](*)=O 0.000 description 1
- 125000000018 nitroso group Chemical group N(=O)* 0.000 description 1
- 239000002736 nonionic surfactant Substances 0.000 description 1
- 238000007645 offset printing Methods 0.000 description 1
- 239000001053 orange pigment Substances 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N perinone Chemical compound C12=NC3=CC=CC=C3N2C(=O)C2=CC=C3C4=C2C1=CC=C4C(=O)N1C2=CC=CC=C2N=C13 DGBWPZSGHAXYGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000002080 perylenyl group Chemical group C1(=CC=C2C=CC=C3C4=CC=CC5=CC=CC(C1=C23)=C45)* 0.000 description 1
- CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N peryrene Natural products C1=CC(C2=CC=CC=3C2=C2C=CC=3)=C3C2=CC=CC3=C1 CSHWQDPOILHKBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- 239000001007 phthalocyanine dye Substances 0.000 description 1
- 230000000704 physical effect Effects 0.000 description 1
- 235000002949 phytic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000000467 phytic acid Substances 0.000 description 1
- 229940068041 phytic acid Drugs 0.000 description 1
- 239000002985 plastic film Substances 0.000 description 1
- 229920006255 plastic film Polymers 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 239000004584 polyacrylic acid Substances 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229910052700 potassium Inorganic materials 0.000 description 1
- 229960003975 potassium Drugs 0.000 description 1
- 239000011591 potassium Substances 0.000 description 1
- 239000011736 potassium bicarbonate Substances 0.000 description 1
- 229910000028 potassium bicarbonate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000015497 potassium bicarbonate Nutrition 0.000 description 1
- TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M potassium hydrogencarbonate Chemical compound [K+].OC([O-])=O TYJJADVDDVDEDZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229940086066 potassium hydrogencarbonate Drugs 0.000 description 1
- 229910000160 potassium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000011009 potassium phosphates Nutrition 0.000 description 1
- 159000000001 potassium salts Chemical class 0.000 description 1
- CIBMHJPPKCXONB-UHFFFAOYSA-N propane-2,2-diol Chemical compound CC(C)(O)O CIBMHJPPKCXONB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000008262 pumice Substances 0.000 description 1
- 239000001057 purple pigment Substances 0.000 description 1
- JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N pyrazol-3-one Chemical compound O=C1C=CN=N1 JEXVQSWXXUJEMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N quinoline yellow Chemical compound C1=CC=CC2=NC(C3C(C4=CC=CC=C4C3=O)=O)=CC=C21 IZMJMCDDWKSTTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001008 quinone-imine dye Substances 0.000 description 1
- 239000001054 red pigment Substances 0.000 description 1
- 239000011134 resol-type phenolic resin Substances 0.000 description 1
- 229920003987 resole Polymers 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 239000004576 sand Substances 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000002210 silicon-based material Substances 0.000 description 1
- 229920002379 silicone rubber Polymers 0.000 description 1
- 239000004945 silicone rubber Substances 0.000 description 1
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004332 silver Substances 0.000 description 1
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 1
- 239000000344 soap Substances 0.000 description 1
- 235000015424 sodium Nutrition 0.000 description 1
- 235000017550 sodium carbonate Nutrition 0.000 description 1
- 239000001488 sodium phosphate Substances 0.000 description 1
- 229910000162 sodium phosphate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000004071 soot Substances 0.000 description 1
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 1
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000547 substituted alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000000446 sulfanediyl group Chemical group *S* 0.000 description 1
- 125000000542 sulfonic acid group Chemical group 0.000 description 1
- 239000001117 sulphuric acid Substances 0.000 description 1
- 235000011149 sulphuric acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000000999 tert-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)(C([H])([H])[H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N tetrahydrofuran Natural products C=1C=COC=1 YLQBMQCUIZJEEH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000101 thioether group Chemical group 0.000 description 1
- JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N thioindigo Chemical compound S\1C2=CC=CC=C2C(=O)C/1=C1/C(=O)C2=CC=CC=C2S1 JOUDBUYBGJYFFP-FOCLMDBBSA-N 0.000 description 1
- STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N tributyl phosphate Chemical compound CCCCOP(=O)(OCCCC)OCCCC STCOOQWBFONSKY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003866 trichloromethyl group Chemical group ClC(Cl)(Cl)* 0.000 description 1
- RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N triisopropylamine Chemical compound CC(C)N(C(C)C)C(C)C RKBCYCFRFCNLTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K trisodium phosphate Chemical compound [Na+].[Na+].[Na+].[O-]P([O-])([O-])=O RYFMWSXOAZQYPI-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 238000001132 ultrasonic dispersion Methods 0.000 description 1
- 125000003774 valeryl group Chemical group O=C([*])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N victoria blue bo Chemical compound [Cl-].C12=CC=CC=C2C(NCC)=CC=C1C(C=1C=CC(=CC=1)N(CC)CC)=C1C=CC(=[N+](CC)CC)C=C1 ROVRRJSRRSGUOL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 230000004304 visual acuity Effects 0.000 description 1
- 238000005406 washing Methods 0.000 description 1
- 229920003169 water-soluble polymer Polymers 0.000 description 1
- 239000008207 working material Substances 0.000 description 1
- 229910052724 xenon Inorganic materials 0.000 description 1
- FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N xenon atom Chemical compound [Xe] FHNFHKCVQCLJFQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001052 yellow pigment Substances 0.000 description 1
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011701 zinc Substances 0.000 description 1
Classifications
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C1/00—Forme preparation
- B41C1/10—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme
- B41C1/1008—Forme preparation for lithographic printing; Master sheets for transferring a lithographic image to the forme by removal or destruction of lithographic material on the lithographic support, e.g. by laser or spark ablation; by the use of materials rendered soluble or insoluble by heat exposure, e.g. by heat produced from a light to heat transforming system; by on-the-press exposure or on-the-press development, e.g. by the fountain of photolithographic materials
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/04—Negative working, i.e. the non-exposed (non-imaged) areas are removed
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/06—Developable by an alkaline solution
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/22—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by organic non-macromolecular additives, e.g. dyes, UV-absorbers, plasticisers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/24—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions involving carbon-to-carbon unsaturated bonds, e.g. acrylics, vinyl polymers
-
- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41C—PROCESSES FOR THE MANUFACTURE OR REPRODUCTION OF PRINTING SURFACES
- B41C2210/00—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation
- B41C2210/26—Preparation or type or constituents of the imaging layers, in relation to lithographic printing forme preparation characterised by a macromolecular compound or binder obtained by reactions not involving carbon-to-carbon unsaturated bonds
- B41C2210/262—Phenolic condensation polymers, e.g. novolacs, resols
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/145—Infrared
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
- Y10S—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y10S430/00—Radiation imagery chemistry: process, composition, or product thereof
- Y10S430/146—Laser beam
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- Thermal Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
- Materials For Photolithography (AREA)
- Thermal Transfer Or Thermal Recording In General (AREA)
- Non-Silver Salt Photosensitive Materials And Non-Silver Salt Photography (AREA)
- Printing Plates And Materials Therefor (AREA)
Description
- Die vorliegende Erfindung betrifft ein negativ arbeitendes Aufnahmematerial, das als Offset- Druckvorlage verwendet werden kann. Genauer gesagt, die vorliegende Erfindung betrifft eine lithographische Druckplatte für den sogenannten direkten Plattenherstellungsprozess, umfassend die direkte Herstellung einer Platte, ausgehend von einem digitalen Signal, wie einem Computersignal.
- Als Systeme für die direkte Herstellung einer Platte, ausgehend von digitalen Daten auf einem Computer wurden bislang die folgenden Verfahren vorgeschlagen: (1) ein elektrophotographisches Verfahren, (2) ein Photopolymerisationsverfahren, umfassend die Belichtung mit Ar-Laser und Postverarbeitung in Kombination, (3) ein Verfahren der Verwendung eines Laminats eines photoempfindlichen Harzes und eines photographischen Silbersalzmaterials, (4) ein Verfahren verwendend eine Silberdruckvorlage, (5) ein Verfahren umfassend die Zerstörung einer Silicongummischicht durch Entladung oder Laser usw.
- Im zuvor genannten elektrophotographischen Verfahren (1) ist die für die Aufladung, Belichtung und Entwicklung benötigte Verarbeitung kompliziert und auch der benötigte Apparat ist kompliziert und ausgereift. Der zuvor genannte Photopolymerisationsprozess (2) benötigt einen Nacherwärmungsschritt. Dieses Verfahren benötigt auch ein sehr hochempfindliches Material zur Plattenherstellung, das im Tageslicht (heller Raum) schwierig zu handhaben ist.
- Weiter verwenden die zuvor genannten Verfahren (3) und (4) jeweils ein Silbersalz, das eine komplizierte Verarbeitung benötigt, was die Kosten nach oben treibt. Weiter kann der zuvor genannte Prozess (5) zwar eine relativ hohe Perfektion erreichen, lässt aber manchmal im Hinblick auf die Entfernung des auf der Oberfläche der Druckplatte verbleibenden Siliconrestmaterials einiges zu wünschen übrig.
- Andererseits sind bei Lasern in vergangenen Jahren bemerkbare Fortschritte erreicht worden. Insbesondere Feststofflaser und Halbleiterlaser, die Licht im Bereich des nahen Infrarots bis Infrarot imitieren sind nun mit einem hohen Output und einer kleinen Größe einfach erhältlich. Diese Laser sind sehr nützlich als Belichtungslichtquellen für die Verwendung bei der direkten Plattenherstellung, ausgehend von digitalen Daten aus einem Computer. Wie dem auch sei, die meisten praktisch verwendbaren photoempfindlichen Bildaufnahmematerialien absorbieren Licht im Wellenlängenbereich von nicht höher als 450 nm und können also zur Bildaufnahme nicht mit diesen Lasern belichtet werden. Also ist ein Bildaufnahmematerial erwünscht, das Aufnahme unabhängig von der Wellenlänge des Belichtungslichts durchführen kann.
- Als eine Technik, die die Aufnahme unabhängig von der Wellenlänge des Belichtungslichts ermöglicht, wurde ein positiv arbeitendes Bildaufnahmematerial offenbart, umfassend eine Verbindung, die bei Auftreffen von Licht oder Wärme (z. B. Diazoniumverbindung) sich zersetzt, eine besondere Substanz, die Licht absorbieren und sie in Wärme verwandeln kann und ein Bindemittel (siehe JP-A-52-113219 (der Ausdruck "JP-A-", so wie er hier verwendet wird, bedeutet eine nicht geprüfte publizierte japanische Patentanmeldung)). Bei Erwärmung zeigt dieses positiv arbeitende Bildaufnahmematerial Zersetzung einer Diazoniumverbindung, um ein Bild aufzunehmen.
- Weiter affenbart die JP-A-58-148792 ein positiv arbeitendes fotoempfindliches wärmeempfindliches Aufnahmematerial, umfassend als wesentliche Komponenten ein besonderes thermoplastisches Harz, eine Substanz zur Foto-Wärme-Umwandlung und eine fotovernetzbare Substanz (z. B. Diazoniumverbindung). Diese Art an Aufnahmematerial verwendet ein Phänomen, dass ein besonderes thermoplastisches Harz ein Bild formt, wenn mit Wärme behandelt wird, und das weiter eine fotovernetzbare Substanz direkte Zersetzung zeigt, wenn sie von Licht getroffen wird, um ein Bild mit verbesserter Haltbarkeit zu ergeben. Das direkte Plattenherstellungsverfahren umfasst das Scannen mit einem Strahl von einer Laserquelle, um ein Bild zu schreiben. In diesem Verfahren wird ein negativ arbeitendes Material bevorzugt, da es die Schreibzeit verkürzen kann. Wie dem auch sei, kein negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial mit guten Aufnahmeeigenschaften ist bislang bekannt, welches thermische Aufnahme durch einen Feststofflaser oder einen Halbleiterlaser (Wärmemodus) mit einer Emissionswellenlänge im Bereich von nahe Infrarotlicht bis Infrarotlicht als Belichtungslichtquelle für die Verwendung bei der direkten Plattenherstellung, ausgehend von digitalen Daten auf einem Computer oder Ähnlichem, durchführen kann.
- EP-A-589309 betrifft eine positiv arbeitende vorsensibilisierte Platte zur Verwendung bei der Herstellung einer lithographischen Druckplatte, umfassend eine lichtempfindliche Zusammensetzung, umfassend ein wasserunlösliches und in alkalischem Wasser lösliches Harz, ein o-Chinondiazid- oder Diazoniumsalz oder eine Mischung einer Verbindung, fähig zur Formung einer Säure durch Belichtung mit Licht, mit einer Verbindung mit mindestens einer C-O-C-Gruppe, fähig zur Zersetzung durch die Einführung der Säure, und ein Phenolderivat mit 4 bis 8 Benzolkernen, mindestens einer phenolischen Hydroxylgruppe und mindestens zwei Gruppen, die Hydroxymethylengruppen sind, eine Alkoxymethylengruppe oder eine Methylenalkanoatgruppe.
- Es ist ein Ziel der vorliegenden Erfindung, ein negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial zur Verfügung zu stellen, das Aufnahme unabhängig von der Emissionswellenlänge der Belichtungslichtquelle durchführen kann, insbesondere ein negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial, das Aufnahme mit Licht im Wellenlängenbereich von nahem Infrarotlicht bis Infrarotlicht (Wärmebestrahlung) durchführen kann, sowie ein negativ arbeitender Bildprozess, durch den eine negativ arbeitende lithographische Druckplatte erhalten werden kann, für den direkten Plattenherstellungsprozess vom Wärmemodus, welcher Aufnahme durch einen Feststofflaser oder einen Halbleiterlaser (Wärmemodus) durchführen kann, welche eine Emissionswellenlänge im Bereich von nahe Infrarotlicht bis Infrarotlicht aufweisen, um eine Platte direkt aus digitalen Daten aus einem Computer oder Ähnlichem herzustellen, sowie die direkte Anwendung von konventionellen Prozessoren oder Druckern.
- In Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung wird dieses Ziel erreicht durch ein negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial, umfassend:
- (a) eine Substanz, die Licht absorbiert um Wärme zu erzeugen;
- (b) ein in Wasser unlösliches und in alkalischem Wasser lösliches Harz; und
- (c) ein Phenolderivat mit 4 bis 8 Benzolkernenmolekül, mindestens einer phenolischen Hydroxylgruppe und mindestens zwei Gruppen, dargestellt durch die folgende allgemeine Formel (I) im Molekül:
- -CH&sub2;OR¹ (I)
- worin R¹ ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Acylgruppe darstellt.
- Es ist bevorzugt, dass R¹ in der allgemeinen Formel (I) eine Methylgruppe ist.
- Vorzugsweise umfasst das negativ arbeitende Bildaufnahmematerial einen Träger. Es ist weiter bevorzugt, dass der Träger ein Polyesterfilm oder eine Aluminiumplatte ist.
- Es ist bevorzugt, dass die Substanz, die Licht absorbiert, um Wärme zu erzeugen, eine Substanz ist, die nahe Infrarotstrahlen oder Infrarotstrahlen absorbiert.
- Vorzugsweise ist das in Wasser unlösliche und in alkalischem Wasser lösliche Harz ein Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe oder olefinisch ungesättigten Bindung und stärker bevorzugt ein Novolakharz, ein Acrylharz mit einer Allylgruppe oder ein Acrylharz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe.
- Als Substanz, die Licht absorbiert um Wärme zu erzeugen, ist ein Farbstoff, ein Pigment oder Ruß bevorzugt.
- Weiter hat die vorliegende Erfindung die folgenden bevorzugten Ausführungsformen (2) bis (12):
- (2) Ein negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial, umfassend eine Substanz, die Licht absorbiert, um Wärme zu erzeugen, ein wasserunlösliches und in alkalischem Wasser lösliches Harz und ein Phenolderivat, mit 4 bis 8 Benzolkernen im Molekül, mindestens einer phenolischen Hydroxylgruppe und mindestens zwei Gruppen, dargestellt durch die allgemeine Formel (I), dadurch gekennzeichnet, dass besagtes wasserunlösliche und in alkalischem Wasser lösliche Harz ein Harz ist, das eine phenolische Hydroxylgruppe oder eine olefinische ungesättigte Bindung aufweist.
- (3) Ein negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial, umfassend einen Träger, darauf vorgesehen eine Substanz, die Infrarotstrahlen oder nahe Infrarotstrahlen absorbiert, um Wärme zu erzeugen, ein wasserunlösliches und in alkalischem Wasser lösliches Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe oder olefinisch ungesättigten Bindung, und ein Phenolderivat mit 4 bis 8 Benzolkernen im Molekül, mindestens einer phenolischen Hydroxylgruppe und mindestens zwei Gruppen, dargestellt durch die allgemeine Formel (I) oben gezeigt.
- (4) Das Bildaufnahmematerial in Übereinstimmung mit Ausführungsform (3), wobei besagte Substanz, die Infrarotstrahlen oder nahe Infrarotstrahlen absorbiert, um Wärme zu erzeugen, ein Farbstoff ist.
- (5) Das Bildaufnahmematerial in Übereinstimmung mit Ausführungsform (3), wobei besagte Substanz, die Infrarotstrahlen oder nahe Infrarotstrahlen absorbiert, um Wärme zu erzeugen, ein Pigment ist.
- (6) Das Bildaufnahmematerial in Übereinstimmung mit Ausführungsform (3), wobei besagte Substanz, die Infrarotstrahlen oder nahe Infrarotstrahlen absorbiert, um Wärme zu erzeugen, Ruß ist.
- (7) Das Bildaufnahmematerial in Übereinstimmung mit Ausführungsform (3), wobei als besagtes wasserunlösliches und in alkalischem Wasser lösliches Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe oder olefinisch ungesättigten Bindungen ein Novolakharz verwendet wird.
- (8) Das Bildaufnahmematerial in Übereinstimmung mit Ausführungsform (3), wobei als besagtes wasserunlösliches und in alkalischem Wasser lösliches Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe oder einer olefinisch ungesättigten Bindung ein Acrylharz mit einer Allylgruppe verwendet wird.
- (9) Das Bildaufnahmematerial in Übereinstimmung mit Ausführungsform (3), wobei als besagtes wasserunlösliches und in alkalischem Wasser lösliches Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe oder einer olefinischen ungesättigten Bindung ein Acrylharz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe verwendet wird.
- (10) Das Bildaufnahmematerial in Übereinstimmung mit Ausführungsform (3), wobei als Träger ein Polyesterfilm verwendet wird.
- (11) Das Bildaufnahmematerial in Übereinstimmung mit Ausführungsform (3), wobei als Träger eine Aluminiumplatte verwendet wird.
- (12) Ein negativ arbeitender Bildaufnahmeprozess, umfassend die Belichtung eines negativ arbeitenden Bildaufnahmematerials in Übereinstimmung mit Ausführungsform (3) mit Infrarotstrahlen oder nahen Infrarotstrahlen, emittiert durch einen Laser, und anschließende Entwicklung des negativ arbeitenden Bildaufnahmematerials mit einer alkalischen wässrigen Lösung.
- (13) Das negativ arbeitende Bildaufnahmeverfahren in Übereinstimmung mit Ausführungsform (12), wobei R¹ in der allgemeinen Formel (I), definiert in der Ausführungsform (3), eine Alkylgruppe ist.
- (14) Das negativ arbeitende Bildaufnahmeverfahren in Übereinstimmung mit Ausführungsform (12), worin R¹ in der allgemeinen Formel (I), definiert in der Ausführungsform (3), eine Methylgruppe ist.
- (15) Ein negativ arbeitendes Bildaufnahmeverfahren, umfassend die Belichtung eines negativ arbeitenden Bildaufnahmematerials in Übereinstimmung mit Ausführungsform (3) mit Infrarotstrahlen oder nahen Infrarotstrahlen, emittiert durch einen Laser, Unterwerten des negativ arbeitenden Bildaufnahmematerials einer Wärmebehandlung und anschließendes Entwickeln des negativ arbeitenden Bildaufnahmematerials mit einer wässrigen Alkalilösung.
- Die Erfinder haben ausgedehnte Studien unternommen. Als Resultat wurde gefunden, dass die kombinierte Verwendung eines Phenolderivats, mit 4 bis 8 Benzolkernen, mindestens einer phenolischen Hydroxylgruppe und mindestens zwei Gruppen, dargestellt durch die allgemeine Formel (I) im Molekül, mit einem in Wasser unlöslichen und in alkalischem Wasser löslichem Harz und einer Verbindung, die Licht absorbiert, um Wärme zu erzeugen, ein negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial zur Verfügung stellen kann, das Aufnahme durchführen kann, unabhängig von der Wellenlänge der Belichtungslichtquelle, insbesondere ein negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial, das Aufnahme durchführen kann mit Licht im Bereich von nahem Infrarotlicht bis Infrarotlicht. Also wurde die vorliegende Erfindung fertiggestellt. Die vorliegende Erfindung umfasst die Umwandlung der Energie des Belichtungslichts in Wärmeenergie, welche dann verwendet wird, um eine Kondensationsreaktion durch ein Phenolderivat hervorzurufen, wodurch ein Bild aufgenommen wird.
- Die vorliegende Erfindung ist vorteilhaft dahingehend, dass die Verwendung eines Phenolderivats mit 4 bis 8 Benzolkernen im Molekühl eine hohe Empfindlichkeit und eine hohe Filmfestigkeit in der belichteten Fläche zur Verfügung stellt, verglichen mit der Verwendung eines Phenolderivats mit nur 1 bis 3 Benzolkernen im Molekühl. Wird ein Phenolderivat mit nicht weniger als 9 Benzolkernen im Molekül verwendet, so ist dieses nachteilhaft dahingehend, dass die Entwickelbarkeit verschlechtert wird und das resultierende Bild einfach verfärbt werden kann.
- Umfasst das Phenolderivat in der vorliegenden Erfindung zwei oder mehr phenolische Hydroxylgruppen, so ist dies vorteilhaft im Hinblick auf die Entwickelbarkeit nach Belichtung. Hat das Phenolderivat vier oder mehr Gruppen, dargestellt durch die allgemeine Formel (I), so ist dies vorteilhaft dahingehend, dass die Filmfestigkeit in den belichteten Flächen angehoben wird.
- Ist die Substanz in der vorliegenden Erfindung, die Licht absorbiert, um Wärme zu erzeugen, eine Substanz, die Infrarotstrahlen oder nahe Infrarotstrahlen absorbiert, um Wärme zu erzeugen, so ist dies vorteilhaft im Hinblick darauf, dass Wärmemodusaufnahme einfach durchgeführt werden kann.
- Ist in der vorliegenden Erfindung die Substanz, die Infrarotstrahlen oder nahe Infrarotstrahlen absorbiert, um Wärme zu erzeugen, ein Farbstoff, so ist dies vorteilhaft im Hinblick auf die Entwickelbarkeit nach Belichtung. Ist die Substanz, die Infrarotstrahlen oder nahe Infrarotstrahlen absorbiert, um Wärme zu erzeugen, ein Pigment, so ist dies vorteilhaft dahingehend, dass die resultierende Empfindlichkeit gut ist. Ist weiter die Substanz, die Infrarotstrahlen oder nahe Infrarotstrahlen absorbiert, um Wärme zu entwickeln, Ruß, so ist dies vorteilhaft dahingehend, dass der Absorptionswellenlängenbereich breit ist und die resultierende Empfindlichkeit hoch.
- In der vorliegenden Erfindung kann als Träger vorteilhaft ein Polyesterfilm verwendet werden, um ein geringeres Gewicht zu ergeben. Weiter kann eine Aluminiumplatte vorteilhafterweise verwendet werden, um eine bessere Dimensionsstabilität zur Verfügung zu stellen.
- Das negativ arbeitende Bildaufnahmematerial der vorliegenden Erfindung wird vorzugsweise in einem negativ arbeitenden Bildaufnahmeverfahren verwendet, umfassend Belichtung des negativ arbeitenden Bildaufnahmematerials mit Infrarotstrahlen oder nahen Infrarotstrahlen, emittiert durch einen Laser, und anschließende Entwicklung des negativ arbeitenden Bildaufnahmematerials mit einer wässrigen Alkalilösung.
- Bevorzugte Beispiele des negativ arbeitenden Bildaufnahmematerials der vorliegenden Erfindung umfassen ein negativ arbeitendes wärmeempfindliches lithographisches Druckplattenmaterial und eine negativ arbeitende lithographische Druckplatte für Wärmemodusausnahme beim direkten Plattenherstellen.
- Der Wärmemodus ist ein Modus der Aufnahme, wobei eine geeignete Wärmestrahlungsquelle in Übereinstimmung mit einem digitalen Datensatz kontrolliert wird, um Aufnahme auf dem Bildaufnahmematerial durchzuführen. Als Wärmestrahlungsquelle können ein thermischer Kopf, wie verwendet in einem Faxgerät usw. oder ein Laser verwendet werden, der Infrarotstrahlen oder nahe Infrarotstrahlen emittiert. Wird ein thermischer Kopf verwendet, so hat das resultierende Bild eine geringe Auflösungskraft. Daher wird als Wärmestrahlungsquelle für das direkte Plattenherstellungsverfahren ein Laser verwendet, der Infrarotstrahlen oder nahe Infrarotstrahlen emittiert.
- Die vorliegende Erfindung umfasst die Umwandlung von Licht in Wärme, durch eine Foto- Wärme-Umwandlungssubstanz, wobei die Wärme dann verwendet wird, um eine Vernetzungsreaktion hervorzurufen. Also ist die vorliegende Erfindung im Wesentlichen ein fotoempfindliches Aufnahmematerial. Bevorzugte Beispiele an Strahlungen, verwendbar in der vorliegenden Erfindung, schließen ultraviolette Strahlung, sichtbare Strahlung und Infrarotstrahlung ein. Unter diesen Strahlungen wird Infrarotstrahlung üblicherweise Wärmestrahlung genannt. Wird also das Aufnehmen bei dem Aufnahmematerial der vorliegenden Erfindung durch Infrarotstrahlung durchgeführt, so kann das Aufnahmematerial der vorliegenden Erfindung als wärmeempfindliches Aufnahmematerial bezeichnet werden.
- Die vorliegende Erfindung wird nun weiter beschrieben werden.
- Bevorzugte Beispiele der Alkylgruppe, dargestellt durch R¹ in der zuvor genannten allgemeinen Formel (I), schließen C&sub1;&submin;&sub4; Alkylgruppen ein, wie Methylgruppe, Ethylgruppe, n- Propylgruppe, Isopropylgruppe, n-Butylgruppe, Isobutylgruppe, sek-Butylgruppe und t- Butylgruppe. Bevorzugte Beispiele der Acylgruppe, dargestellt durch R¹ in der zuvor genannten allgemeinen Formel (I), schließen Formylgruppe, Acetylgruppe, Butyrylgruppe, Benzoylgruppe, Cinnamoylgruppe und Valerylgruppe ein. Weiter kann eine C&sub1;&submin;&sub4;- substituierte Alkylgruppe, wie eine Methoxyethylgruppe, eine Methoxypropylgruppe, eine Hydroxyethylgruppe und eine Hydroxypropylgruppe verwendet werden.
- Das in der vorliegenden Erfindung verwendete Phenolderivat kann erhalten werden durch Reagieren einer bekannten Phenolverbindung, wie die beschrieben in JP-A-1-289946, JP- A-3-179353, JP-A-3-200252, JP-A-3-128959, JP-A-3-200254, JP-A-5-158233 und JP-A-5- 224409, mit Formaldehyd in einem stark alkalischen Medium bei einer Temperatur von etwa 0ºC bis 80ºC, vorzugsweise von 10ºC bis 60ºC, für 1 bis 30 Stunden. Also wird ein Phenolderivat, in welchem R¹ ein Wasserstoffatom ist, erhalten werden. Anschließend kann das so erhaltene Phenolderivat mit einem C&sub1;&submin;&sub4; Alkohol, substituiertem Alkohol, Säurehalogenid oder Säureanhydrid unter sauren Bedingungen reagiert werden, bei einer Temperatur von 0ºC bis 80ºC, für 1 bis 30 Stunden, um eine Phenolverbindung zu erhalten, in der R¹ Alkyl oder Acyl ist. Die Temperatur, bei der das Phenolderivat mit einem Alkohol oder substituiertem Alkohol reagiert wird, ist vorzugsweise von 20ºC bis 80ºC. Die Temperatur, bei der das Phenolderivat mit einem Säurehalogenid oder Säureanhydrid reagiert wird, ist vorzugsweise von 0ºC bis 30ºC.
- Beispiele des in der vorliegenden Erfindung zu verwendenden Phenolderivats schließen Verbindungen ein, dargestellt durch die folgenden allgemeinen Formeln (II) bis (IX), aber die vorliegende Erfindung sollte nicht so aufgefasst werden, als sei sie darauf beschränkt. Diese Phenolderivate können einzeln oder Mischung verwendet werden. Die Menge, in der solch ein Phenolderivat zu verwenden ist, ist von 0,2 bis 60 Gew.-%, vorzugsweise von 0,5 bis 20 Gew.-%, basierend auf dem Gewicht der fotoempfindlichen Zusammensetzung.
- Eine Verbindung mit 1 bis 3 Benzolkernen, einer phenolischen Hydroxylgruppe und einer Gruppe, dargestellt durch die allgemeine Formel (I), ruft einen Abfall der Einfärbungseigenschaft und des Entwicklungsspielraums hervor. Es ist also erwünscht, dass die fotoempfindliche Zusammensetzung der vorliegenden Erfindung im Wesentlichen frei von solch einer Verbindung ist. Stärker bevorzugt ist der Gehalt solch einer Verbindung nicht mehr als 5 Gew.-%, stärker bevorzugt nicht mehr als 3 Gew.-% und am meisten bevorzugt 0 Gew.- %.
- worin R² bis R&sup4;, R&sup9;, R¹&sup7; und R¹&sup8; jeweils ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom, eine Alkylgruppe oder eine Alkoxygruppe darstellen, R&sup5; und R¹³ bis R¹&sup6; jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Alkylgruppe darstellen; R&sup6; bis R&sup8; jeweils ein Wasserstoffatom, ein Halogenatom oder eine Alkylgruppe darstellen; R¹&sup0; bis R¹² jeweils eine Einfachbindung, eine Alkylengruppe, eine Alkenylengruppe, eine Phenylengruppe, eine Naphthylengruppe, eine Carbonylgruppe, eine Ethergruppe oder eine Thioethergruppe, die einen Substituenten aufweisen können, eine Amidbindung oder eine Kombination von zwei oder mehrerer dieser Bindungen oder Gruppen darstellen; Y eine Gruppe darstellt, dargestellt durch die allgemeine Formel (I); a, b, c, d, x und y jeweils eine ganze Zahl von 0 bis 3 darstellen, mit der Maßgabe, dass die Summe von a, b, c, d, x und y eine ganze Zahl von 2 bis 16 ist; k, l, m und n jeweils eine ganze Zahl von 0 bis 3 darstellen, mit der Maßgabe, dass sie nicht zur gleichen Zeit 0 sind; e, f, g, h, p, q, r, s, t und u jeweils eine ganze Zahl von 0 bis 3 darstellen; und z eine ganze Zahl von 0 oder 1 darstellt.
- Spezifische Beispiele der Verbindungen, dargestellt durch die zuvor genannten allgemeinen Formeln (II) bis (IX) schließen die ein, die die folgenden Strukturformeln aufweisen:
- worin Y¹ bis Y¹² jeweils ein Wasserstoffatom oder eine Gruppe darstellen, dargestellt durch die allgemeine Formel (I), mit der Maßgabe, dass mindestens zwei der verschiedenen Verbindungen eine Gruppe, dargestellt durch die allgemeine Formel (I), haben. Vorzugsweise sind Y¹ bis Y¹² alles Gruppen, dargestellt durch die allgemeine Formel (I.
- In der vorliegenden Erfindung kann als Substanz, die Licht absorbiert, um Wärme zu erzeugen, irgendein Pigment oder Farbstoff verwendet werden.
- Als solch ein Pigment können kommerzielle Pigmente verwendet werden und Pigmente, beschrieben in Handbook of Color Index (C. I.), "Handbook of Modern Pigments", Japan Pigment Technology Association (1977), "Applied Technology of Modern Pigments", CMC Shuppan (1986), und "Technology of Printing Ink", CMC Shuppan (1984).
- Beispiele dieser Pigmente schließen schwarzes Pigment, gelbes Pigment, oranges Pigment, braunes Pigment, rotes Pigment, purpumes Pigment, blaues Pigment, grünes Pigment, fluoreszierendes Pigment und polymergebundene Farbstoffe ein. Spezifische Beispiele an hier verwendbaren Pigmenten schließen unlösliches Azopigment, Azolakenpigment, kondensiertes Azopigment, Chelatazopigment, Phthalcyaninpigment, Anthrachinonpigmentn Perylenpigment, Perinonpigment, Thioindigopigment, Chinacridonpigment, Dioxazinpigment, Isoindolinonpigment, Chinophthalonpigment, gefärbtes Lakepigment, Azinpigment, Nitrosopigment, Nitropigment, natürliches Pigment, fluoreszierendes Pigment, anorganisches Pigment und Ruß ein.
- Solch ein Pigment kann optional vor Verwendung einer Oberflächenbehandlung unterworfen werden. Beispiele an möglichen Oberflächenbehandlungen schließen ein Verfahren ein, umfassend die Beschichtung der Oberfläche des Pigments mit einem Harz oder Wachs, sowie ein Verfahren, umfassend das Anbringen eines oberflächenaktiven Mittels auf das Pigment, und weiter auch ein Verfahren, umfassend das Binden einer reaktiven Substanz (z. B. Silankupplungsmittel, Epoxyverbindung, Polyisocyanat) an die Oberfläche des Pigments. Diese Oberflächenbehandlungsverfahren sind weiter beschrieben in "Properties and Application of Metallic Soap", Sachi Shobo (1988), "Technology of Printing Ink", CMC Shuppan (1984), und "Applied Technology of Modem Pigments", CMC Shuppan (1986).
- Der Korndurchmesser der Pigmente ist vorzugsweise von 0,01 bis 10 um, stärker bevorzugt von 0,05 um bis 1 um. Als Verfahren zur Dispergierung dieser Pigmente kann irgendein bekanntes Dispersionsverfahren, verwendet bei der Herstellung von Tinte oder Toner, verwendet werden. Beispiele an Dispergierungsapparaten, die in diesen Dispergierungsverfahren verwendet werden können, schließen Ultraschalldispersionsmaschinen, Sandmühlen, Attritoren, Perimühlen, Supermühlen, Ballmühlen, Impeller, Dispergierer, KD- Mühlen, Kolloidmühlen, Dynatron, Drei-Walzen-Mühlen und Druckkneter ein. Diese Dispergierungsapparate sind weiter beschrieben in "Applied Technology of Modem Pigments", CMC Shuppan (1986).
- Als Farbstoff kann irgendeiner der kommerziellen Farbstoffe und der bekannten Farbstoffe, beschrieben in Druckschriften (z. B. "Handbook of Dyes", The Society of Synthetic Organic Chemistry, Japan (1970)) verwendet werden. Spezifische Beispiele an hier verwendbaren Farbstoffen Azofarbstoffe, Metallkomplexazofarbstoffe, Pyrazolonazofarbstoffe, Anthrachinonfarbstoffe, Phthalocyaninfarbstoffe, Carboniumfarbstoffe, Chinoniminfarbstoffe, Methinfarbstoffe und Cyaninfarbstoffe ein. Insbesondere bevorzugt unter diesen Pigmenten oder Farbstoffen sind die, die Infrarotstrahlen oder nahe Infrarotstrahlen absorbieren. Als Pigment, das Infrarotstrahlen oder nahe Infrarotstrahlen absorbiert, kann vorzugsweise Ruß verwendet werden.
- Beispiele an Farbstoffen, die Infrarotstrahlen oder nahe Infrarotstrahlen absorbieren, schließen Cyaninfarbstoffe, beschrieben in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-59- 202829 und JP-A-60-78787, Methinfarbstoffe, beschrieben in JP-A-58-173696, JP-A-58- 181690 und JP-A-58-194595, Naphthochinonfarbstoffe, beschrieben in JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-73996, JP-A-60-52940 und JP-A-60-63744, Squaryliumfarbstoffe, beschrieben in JP-A-58-112792, und Cyanfarbstoffe, beschrieben in GB-A- 434,875 ein. Weiter können die in US-A-5,156,983 beschriebenen Absorbentien für nahes Infrarotlicht vorzugsweise verwendet werden.
- Weiter sind substituierte Arylbenzo(thio)pyryliumsalze, offenbart in US-A-3,881,924, Trimethinthiapyryliumsalze, offenbart in JP-A-57-142645 (US-A-4,327, 169), Pyryliumverbindungen, offenbart in JP-A-58-181051, JP-A-58-2201-43, JP-A-59-41363, JP-A-59-84248, JP-A- 59-84249, JP-A-59146063 und JP-A-59-146061, Cyaninfarbstoffe, offenbart in JP-A-59- 216146, Pentamethinthiopyryliumsalze, offenbart in US-A-4,283,475, und Pyryliumverbindungen, offenbart in JP-B-5-13514 (der Ausdruck "JP-B", so wie er hier verwendet wird, bedeutet eine geprüfte japanische Patentpublikation) und JP-B-5-19702 insbesondere bevorzugt.
- Ein weiteres bevorzugtes Beispiel eines Farbstoffes ist ein im nahen Infrarotlicht absorbierender Farbstoff, dargestellt durch die allgemeine Formel (I) oder (II), offenbart in US-A- 4,756,993.
- Solch ein Pigment oder Farbstoff kann in das Bildaufnahmematerial in einer Menge von 0,01 bis 50 Gew.-%, vorzugsweise von 0,1 bis 20 Gew.-%, stärker bevorzugt von 0,5 bis 15 Gew.-%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt im Bildaufnahmematerial eingearbeitet werden. Fällt der Gehalt an Pigment oder Farbstoff unter 0,01 Gew.-%, so können keine erwünschten Bilder erhalten werden. Übersteigt andererseits der Gehalt an Pigment oder Farbstoff 50 Gew.-%, so neigt das resultierende negativ arbeitende Bildaufnahmematerial dazu, beim Drucken in der Nichtbildfläche leicht Flecken anzunehmen.
- Solch ein Farbstoff oder Pigment kann in dieselbe Schicht eingearbeitet werden, in die auch das Phenolderivat eingearbeitet wird, oder in eine Schicht, vorgesehen getrennt vom Phenolderivat. Wird der Farbstoff oder das Pigment in eine getrennte Schicht eingebracht, so wird dieser Stoff vorzugsweise in eine Schicht eingeführt, die benachbart liegt zu der Schicht, in der das Phenolderivat vorliegt.
- Das wasserunlösliche und in alkalischem Wasser lösliche Harz, zu verwenden in Kombination mit dem Phenolderivat der vorliegenden Erfindung, wird im Folgenden weiter beschrieben. Als wasserunlösliches und in alkalischem Wasser lösliches Harz kann irgendein Harz verwendet werden. Insbesondere ein Harz mit einer phenolischen Hydroxylgruppe oder olefinisch ungesättigter Bindung ist bevorzugt. Bevorzugte Beispiele solch eines Harzes schließen die folgenden Novolakharze ein.
- Beispiele solcher Novolakharze schließen Cresolformaldehydharz, wie Phenolformaldehydharz, m-Cresolformaldehydharz, p-Cresolformaldehydharz, o-Cresolformaldehydharz, m/p-gemischtes Cresolformaldehydharz und Phenol/Cresol-gemischtes Formaldehydharz (Beispiele an Cresolharz schließt m-Cresolformaldehydharz, p-Cresolformaldehydharz, o- Cresolformaldehydharz, m/p-gemischtes Cresolformaldehydharz m/p/o-gemischtes Cresolformaldehydharz und o/p-gemischtes Cresolformaldehydharz ein) ein. Neben diesen Novolakharzen werden vorzugsweise Phenolharze vom Resoltyp verwendet. Bevorzugte Beispiele solcher phenolischer Harze vom Resoltyp schließen Phenol/Cresol-gemischtes Formaldehydharz (Beispiele an Cresolharz schließt m-Cresolformaldehydharz, p- Cresolformaldehydharz, o-Cresolformaldehydharz, m/p-gemischtes Cresolformaldehydharz m/p/o-gemischtes Cresolformaldehydharz und o/p-gemischtes Cresolformaldehydharz ein) ein. Insbesondere sind die in JP-A-61-217034 beschriebenen phenolischen Harze bevorzugt.
- Weiter können Phenol-modifizierte Xylolharze, Polyhydroxystyrol, polyhalogeniertes Hydroxystyrol und Acrylharze mit einer phenolischen Hydroxylgruppe, beschrieben in JP-A-50- 55406, JP-A-51-34711, JP-A-51-36129, JP-A-53-28401, JP-A-62-38454, DE-A-3,528,390, DE-A-3,528,929, US-A-4,724,195, JP-A-5-230139, JP-A-5-23C140 und JP-A-7-33839 verwendet werden.
- Beispiele an Harzen mit einer olefinischen ungesättigten Bindung, die vorzugsweise in der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, schließen die ein, die in JP-B-3-63740, US-A-3,376,138, US-A-3,556,793, JP-A-52-988 und JP-B-60-37123 beschrieben sind. Die Harze mit einer olefinisch ungesättigten Bindung enthalten vorzugsweise ein alkalilösliches Monomer als copolymerisierbare Komponente auf, um die Entwickelbarkeit des negativ arbeitenden Bildaufnahmematerials in einem wässrigen alkalischen Entwickler zu verbessern. Als alkalilösliche Gruppe können eine saure Gruppe mit einem pKa-Wert von nicht mehr als 14 verwendet werden. Beispiele solch einer sauren Gruppen schließen -SO&sub3;H, -OP(O)(OH)&sub2;, -P(O)(OH)&sub2;, -COOH, -CONHCO-, -CONHSO&sub2;-, -SO&sub2;NH- und phenolische OH-Gruppen ein.
- Als in alkalischem Wasser lösliches Harz wird vorzugsweise eins verwendet, das ein Gewichtsmittel des Molekulargewichts von 500 bis 400.000 aufweist und ein Zahlenmittel des Molekulargewichts von 200 bis 150.000.
- Diese in alkalischem Wasser löslichen Harze können einzeln oder in Kombination verwendet werden. Die Menge solch eines in alkalischem Wasser löslichen Harzes, das einzuarbeiten ist, ist von 5 bis 99 Gew.-%, vorzugsweise von 30 bis 95 Gew.-%, basierend auf dem Gesamtgewicht der fotoempfindlichen Zusammensetzung, kalkuliert im Hinblick auf den Feststoffgehalt.
- Das Bildaufnahmematerial der vorliegenden Erfindung kann optional weitere verschiedene Additive aufweisen. Zum Beispiel kann ein multifunktionelles Monomer mit zwei oder mehreren radikalisch polymerisierbaren ethylenischen Doppelbindungen pro Molekül in die Bildaufnahmeschicht eingearbeitet werden. Beispiele solch einer Verbindung schließen Ethylenglycoldi(meth)acrylat, Diethylenglycoldi(meth)acrylat, Polyethylenglycoldi(meth)acrylat, Hexandioldi(meth)acrylat, Trimethylolethantri(meth)acrylat, Trimethylolpropantri(meth)acrylat und Tri(meth)acrylat, Tetra(meth)acrylat und Hexa(meth)acrylat von Pentaerythritol und Dipentaerythritol ein. Die Menge solch eines multifunktionelles Monomers, das einzuarbeiten ist, ist normalerweise nicht mehr als 30 Gew.-%, basierend auf dem Bildaufnahmematerial.
- Weitere Beispiele an Additiven, die in die Bildaufnahmeschicht eingearbeitet werden können, schließen einen Alkylether, zur Verbesserung der Beschichtbarkeit (z. B. Ethylcellulose, Methylcellulose), ein oberflächenaktives Mittel (z. B. Fluor enthaltendes oberflächenaktives Mittel) und einen Weichmacher, zur Zurverfügungstellung von Filmerweichungseigenschaften und Abriebswiderstandsfähigkeit (z. B. Tricresylphosphat, Dimethylphthalat, Dibutylphthalat, Trioctylphosphat, Tributylphosphat, Tributylcitrat, Polyethylenglycol, Polypropylenglycol) ein. Die Menge an diesen Addiviten hängt von ihrem Zweck ab, ist aber üblicherweise von 0,5 bis 30 Gew.-%, basierend auf dem Gesamtfeststoffgehalt des Bildaufnahmematerials.
- Als repräsentatives Beispiel eines Auskopiermittels zur Zurverfügungstellung eines sichtbaren Bildes unmittelbar nach der Wärmeerzeugung durch Belichtung, ist eine Kombination einer Verbindung, die eine Säure freisetzt, wenn sie erwärmt wird, hervorgerufen durch die Belichtung, und eines organischen Farbstoffes, fähig zur Formung eines Salzes. Spezifische Beispiele an hier verwendbaren Auskopiermitteln schließen eine Kombination eines o- Naphthochinondiazid-4-sulfonathalogenids und eines salzformenden organischen Farbstoffes ein, wie offenbart in JP-A-50-36209 und JP-A-53-8128, sowie eine Kombination einer Trihalomethylverbindung und einer salzformenden organischen Farbstoffverbindung, wie offenbart in JP-A-53-36223 und JP-A-54-74728. Als Bildfärbungsmittel kann auch irgendein Farbstoff verwendet werden; verschieden von dem vorgenannten salzformenden organischen Farbstoff. Bevorzugte Beispiele an Farbstoffen, einschließlich salzformenden organischer Farbstoffe, einschließlich öllöslicher Farbstoffe und basischer Farbstoffe sind im Folgenden gegeben: Oil Yellow #101, Oil Yellow #130, Oil Pink #312, Oil Green BG, Oil Blue BOS, Oil Blue #603, Oil Black BY, Oil Black BS, Oil Black T-505 (erhältlich von Orient Chemical Industries, Inc.), Victoria Pure Blue, Crystal Violet (CI42555), Methyl Violet (CI42535), Rhodamin B (CI45170B), Malachite Green (CI42000) und Methylen Blue (CI52015).
- Das Auskopiermittel und der Farbstoff werden in das Bildaufnahmematerial in einer Menge von 0 bis 30 Gew.-% eingearbeitet.
- Ist die Substanz der vorliegenden Erfindung, die Licht absorbiert, um Wärme zu entwickeln, dazu gedacht, ein sichtbares Bild mit einer ausreichenden Dichte zu erhalten, so braucht ein solcher Farbstoff nicht zugegeben werden. Für den Zweck der Beschleunigung der Vernetzungsreaktion kann nur ein Auskopiermittel (Säureerzeuger) zugegeben werden.
- Das Bildaufnahmematerial der vorliegenden Erfindung kann zur Verfügung gestellt werden durch Beschichten eines Trägers mit den zuvor genannten Komponenten, in der Form einer Lösung oder einer Dispersion in einem Lösungsmittel. Beispiele der hier verwendbaren Lösungsmittel schließen Methanol, Ethanol, Isopropanolalkohol, n-Butylalkohol, t- Butylalkohol, Ethylendichlorid, Cyclohexanon, Aceton, Methylethylketon, Ethylenglycol, Ethylenglycolmonomethylether, Ethylenglycolmonoethylether, 2-Methoxyethylacetat, 1- Methoxy-2-propanol, 1-Methoxy-2-propylacetat, N,N-Dimethylformamid, N,N- Dimethylacetamid, Tetrahydrofuran, Dioxan, Dimethylsulfoxid, Ethylacetat, Methyllactat und Ethyllactat ein. Diese Lösungsmittel können einzeln oder in einer Mischung verwendet werden.
- Ein gemischtes Lösungsmittel, erhalten durch Zugabe zu solch einem Lösungsmittel oder einem gemischten Lösungsmittel, einer geringe Mengen an Wasser, oder eines Lösungsmittels, das die Phenolderivate oder die hochmolekularen Verbindungen nicht löst, wie Toluol, ist auch bevorzugt.
- Die Konzentration der zuvor genannten Komponenten (Feststoffgehalt) in der Lösung ist von 1 bis 50 Gew.-%. Wird die so erhaltene Lösung oder Dispersion beschichtet und getrocknet, so wird das Trocknen vorzugsweise durchgeführt bei einer Temperatur von 50ºC bis 120ºC. Das Trocknungsverfahren kann eine Vortrocknung bei einer geringen Temperatur und eine anschließende Trocknung bei einer höheren Temperatur umfassen. Alternativ kann das Trocknen bei einer hohen Temperatur durchgeführt werden, wenn das Lösungsmittel und die Konzentration richtig ausgewählt werden, wobei Trocknen bei 150ºC oder höher nicht erwünscht ist, aufgrund des wärmeempfindlichen Aufnahmematerials.
- Die Menge an aufgetragenem Beschichtungsmaterial hängt vom Zweck ab. Wird das negativ arbeitende Bildaufnahmematerial z. B. als fotoempfindliche lithographische Druckplatte verwendet (wärmeempfindliche lithographische Druckplatte), so ist die aufgetragene Menge des Beschichtungsmaterials üblicherweise von 0,5 bis 3,0 g/m², berechnet im Hinblick auf den Feststoffgehalt. Je geringer die angewandte Menge des Beschichtungsmaterials, desto höher die Empfindlichkeit, aber desto schlechter sind die physikalischen Eigenschaften der fotoempfindlichen Schicht. Falls nötig kann ein Mattiermittel oder eine Mattierschicht auf die fotoempfindliche Schicht aufgebracht werden. Weiter kann auch eine Unterbeschichtungsschicht auf der fotoempfindlichen Schicht vorgesehen werden.
- Beispiele des Trägers, der mit einem Bildaufnahmematerial der vorliegenden Erfindung zu beschichten ist, schließen Papier, Papier, laminiert mit Plastik (z. B. Polyethylen, Polypropylen, Polystyrol), Platten, hergestellt aus Metall, wie Aluminium (einschließlich Aluminiumlegierung), Zink und Kupfer, Filme, hergestellt aus Plastik, wie Cellulosediacetat, Cellulosetriacetat, Cellulosepropionat, Celluloseacetat, Celluloseacetobutyrat, Cellulosebutyrat, Polyethylenterephthalat, Polyethylen, Polystyrol, Polypropylen, Polycarbonat und Polyvinylacetal, sowie Papier oder Plastikfilme, laminiert oder vakuummetallisiert mit den zuvor genannten Metallen ein. Bevorzugt unter diesen Trägern ist ein Polyesterfilm oder eine Aluminiumplatte. Insbesondere die Aluminiumplatte weist eine merkbare Dimensionsstabilität auf. Also stellt die Verwendung solch einer Aluminiumplatte vorteilhafterweise eine gute Dimensionsstabilität zur Verfügung. Ein weiteres Beispiel eines Trägers, der vorzugsweise verwendet werden kann, ist ein Kompositblatt, erhalten durch Laminieren eines Aluminiumblattes auf einen Polyethylenterephthalatfilm, wie offenbart in JP-B-48-18327.
- Träger mit einer metallischen Oberfläche, insbesondere einer Aluminiumoberfläche, werden bevorzugt einer richtigen Hydrophilisierungsbehandlung unterworfen. Die Hydrophilisierungsbehandlung kann wie folgt durchgeführt werden. Zum Beispiel wird die Oberfläche einer Aluminiumplatte durch ein mechanisches Aufrauverfahren aufgeraut, wie Bürstenaufrauung, Nylonbürstenaufrauung mit einer Aufschlämmung von Abriebkörnern, und Kugelaufrauung, chemische Aufrauung mit HF, AlCl&sub3; oder HCl als Ätzmittel, elektrolytisches Aufrauen mit Salpetersäure oder Salzsäure als. Elektrolyt, oder ein Kompositverfahren, optional geätzt mit Säure oder Base und anschließendes anodisches Oxydieren durch Gleich- oder Wechselstrom in Schwefelsäure, Phosphorsäure, Oxalsäure, Borsäure, Chromsäure, Sulfaminsäure oder Mischungen davon, um einen starren passiven Film darauf zu formen.
- Solch ein passiver Film kann die Aluminiumoberfläche hydrophil machen. Falls notwendig, wird die Aluminiumoberfläche, so behandelt, vorzugsweise einer Behandlung mit Silikat (z. B. Natriumsilikat, Kaliumsilikat), wie offenbart in US-A-2,714,066 und US-A-3,181,461, einer Behandlung mit Kaliumfluorozirkonat, wie offenbart in US-A-2,946,638, einer Behandlung mit Phosphormolybdat, wie offenbart in US-A-3,201,247, einer Behandlung mit Alkyltitanat, wie offenbart in BG-A-1,108,559, einer Behandlung mit Polyacrylsäure, wie offenbart in DE- A-1,091,433, einer Behandlung mit Polyvinylphosphonsäure, wie offenbart in DE-A- 1,134,093, und GB-A-1,230,447, einer Behandlung mit Phosphonsäure, wie offenbart in JP-B-44-6409, einer Behandlung mit Phytinsäure, wie offenbart in US-A-3,307,951, einer Kompositbehandlung mit einer hydrophilen organischen hochmolekularen Verbindung und einem divalenten Metall, wie offenbart in JP-A-58-16893 und JP-A-58-18291, oder einer Unterbeschichtungsbehandlung mit einem wasserlöslichen Polymer mit einer Sulfonsäuregruppe, wie offenbart in JP-A-59-101651 unterworfen, so dass die Oberfläche weiter hydrophil gemacht wird. Andere Beispiele Hydrophilisierungsbehandlungen schließen Silikatelektroablagerung ein, wie offenbart in US-A-3,658,862.
- Als aktive Strahlenquelle zur Verwendung bei der bildweisen Belichtung kann eine Quecksilberdampflampe, eine Metallhalogenidlampe, eine Xenonlampe, eine chemische Lampe, eine Kohlenstoffbogenlampe oder Ähnliches verwendet werden. Beispiele an Strahlung schließen Elektronenstrahlen, Röntgenstrahlen, Ionenstrahlen und weite Infrarotstrahlen ein. Weiter können die G-Linie, die I-Linie, tiefe UV-Strahlen und hochdichte Energiestrahlen (Laserstrahlen) verwendet werden. Beispiele solch eines Laserstrahls schließen einen Heliumneonlaser, einen Argonlaser, einen Kryptonlaser, einen Heliumcadmiumlaser und einen KrF-Eximer-Laser ein. In der vorliegenden Erfindung ist eine Lichtquelle, die Licht im Bereich von nahen Infrarotstrahlen bis Infrarotstrahlen emittiert, erwünscht. Insbesondere ein Feststofflaser oder ein Halbleiterlaser ist bevorzugt.
- Als Entwickler für das negativ arbeitende Bildaufnahmematerial in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung, oder als dessen Nachfüller, können irgendwelche bekannten wässrigen Alkalilösungen verwendet werden. Beispiele an Alkali schließen anorganische Alkalisalze, wie Natriumsilikat, Kaliumsilikat, tertiäres Natriumphosphat, tertiäres Kaliumphosphat, tertiäres Ammoniumphosphat, sekundäres Natriumphosphat, sekundäres Kaliumphosphat, sekundäres Ammoniumphosphat, Natriumcarbonat, Kaliumcarbonat, Ammoniumcarbonat, Natriumhydrogencarbonat, Kaliumhydrogencarbonat, Ammoniumhydrogencarbonat, Natriumburat, Kaliumburat, Ammoniumburat, Natriumhydroxid, Ammoniumhydroxid, Kaliumhydroxid und Lithiumhydroxid ein. Alternativ können organische alkalische Mittel verwendet werden, wie Monomethylamin, Dimethylamin, Trimethylamin, Monoethylamin, Diethylamin, Triethylamin, Monoisopropylamin, Diisopropylamin, Triisopropylamin, n-Butylamin, Monoethanolamin, Diethanolamin, Triethanolamin, Monoisopropanolamin, Diisopropanolamin, Ethylenimin, Ethylendiamin und Pyridin. Diese Alkalimittel können einzeln oder in Kombination verwendet werden.
- Der Entwickler oder sein Nachfüller können optional verschiedene oberflächenaktive Mittel oder organische Lösungsmittel umfassen, für den Zweck der Beschleunigung oder der Inhibierung der Entwickelbarkeit und zum Vergrößern der Dispergierbarkeit von Entwicklungsresten, sowie zur Vergrößerung der Tintenaufnahmefähigkeit der Bildflächen auf der Druckplatte. Bevorzugte Beispiele solcher oberflächenaktiven Mittel schließen anionische, kationische, nichtionische und amphotere oberflächenaktive Mittel ein.
- Weiter können der Entwickler bzw. sein Nachfüller optional ein Reduktionsmittel umfassen, wie Hydrochinon, Resorcin und Natrium- und Kaliumsalze von anorganischen Säuren, wie Schwefelsäure und Hydrogenschwefelsäure, organischen Carboxylsäuren, sowie ein Schäummittel, Weichmacher für hartes Wasser usw.
- Bevorzugte Beispiele des hier verwendbaren Entwicklers schließen die ein, die in JP-A-54- 62004 und JP-B-57-7427 beschrieben sind. Eine Entwicklerzusammensetzung, umfassend Benzylalkohol, ein anionisches oberflächenaktives Mittel, ein alkalisches Mittel und Wasser, wie offenbart in JP-A-51-77401, eine Entwicklerzusammensetzung, umfassend eine wässrige Lösung, enthaltend Benzylalkohol, ein anionisches oberflächenaktives Mittel und eine wasserlösliche schweflige Säure, wie offenbart in JP-A-53-44202, und eine Entwicklerzusammensetzung, umfassend ein organisches Lösungsmittel mit einer Löslichkeit gegenüber Wasser von nicht mehr als 10 Gew.-% bei normaler Temperatur, ein Alkalimittel und Wasser, wie offenbart in JP-A-55-155355, können hier auch verwendet werden.
- In dem Fall, in dem das Bildaufnahmematerial in Übereinstimmung mit der vorliegenden Erfindung als Druckplatte verwendet wird, wird das negativ arbeitende Bildaufnahmematerial, welches einer Entwicklung mit den zuvor genannten Entwicklern und Nachfüllern unterworfen wurde, vorzugsweise einer Nachbehandlung mit einer Spüllösung unterworfen, enthaltend ein Waschwasser und ein oberflächenaktives Mittel, oder mit einer Entsensibilisierungslösung, enthaltend Gummiarabikum oder eine Stärkederivat. Die Nachbehandlung kann diese Behandlungen in Kombination umfassen.
- In den vergangenen Jahren wurden in der Plattenherstellungsindustrie und der Druckindustrie automatische Entwicklungsmaschinen für Druckplatten weit verbreitet verwendet, vor dem Hintergrund der Rationalisierung und Standardisierung des Plattenherstellungsverfahrens. Diese automatischen Entwicklungsmaschinen bestehend üblicherweise aus einer Entwicklungszone und einer Nachbehandlungszone. Diese automatischen Entwicklungsmaschinen umfassen einen Apparat für die Fortbewegung einer Druckplatte, verschiedene Verarbeitungstanks und einen Sprühapparat. Bei Operation werden verschiedene Verarbeitungslösungen, die hergepumpt wurden, durch entsprechende Düsen auf eine belichtete Druckplatte gesprüht, die horizontal fortbewegt wird. Ein System ist seit kurzem bekannt, in welchem die Druckplatte in einen Verarbeitungslösungstank eingetaucht wird, gefüllt mit einer Verarbeitungslösung, während die Platte, geleitet durch eine eingetauchte Leitwalze durchgeführt wird. In solch einem automatischen Prozess können die verschiedenen Verarbeitungslösungen durch die entsprechenden Nachfüller nachgefüllt werden, in Abhängigkeit von dem Durchsatz, der Operationszeit usw.
- Weiter kann ein sogenanntes Wegwerfsystem verwendet werden, umfassend die Verarbeitung mit einer im Wesentlichen ungebrauchten Verarbeitungslösung.
- Die vorliegende Erfindung wird weiter in den folgenden Beispielen beschrieben, aber die vorliegende Erfindung sollte nicht so aufgefasst werden, als sei sie darauf beschränkt.
- 20 g 1-[α-Methyl-α-(4-hydroxyphenyl)ethyl]-4-[α,α-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]benzol (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (X), in der Y¹ bis Y&sup6; Wasserstoffatome zur gleichen Zeit sind) wurden in 100 ml einer 10%igen wässrigen Lösung von Kaliumhydroxid gelöst. Zu dieser Reaktionslösung wurden dann tropfenweise 60 ml 37%iges Formalin gegeben, unter Rühren bei Raumtemperatur über 1 Stunde. Die Reaktionslösung wurde dann weiter bei Raumtemperatur für 6 Stunden gerührt und anschließend in eine wässrige Lösung von Schwefelsäure gegossen, um Kristallisation zu zeigen. Die ausgefällte Paste, so erhalten, wurde gründlich mit Wasser gewaschen, und dann aus 30 ml Methanol rekristallisiert, um ein weißes Pulver zu erhalten (Ausbeute: 20 g).
- Die so erhaltene Verbindung wurde durch NMR identifiziert als hexamethyloiertes Produkt von 1-[α-Methyl-α-(4-hydroxyphenyl)ethyl]-4-[α,α-bis(4-hydroxyphenyl)ethyl]benzol (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (X), wobei Y¹ bis Y&sup6; zur gleichen Zeit jeweils eine Methylolgruppe sind). Die Reinheit des hexamethyloierten Produktes war 92%, bestimmt durch Umkehrphasen-HPLC (Säule: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corp.); Lösungsmittel: Methanol/Wasser (Mischverhältnis = 60/40 bis 90/10, bezogen auf das Volumen)).
- 20 g des hexamethyloierten Produkts, erhalten in Synthesebeispiel 1-1 (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (X), wobei Y¹ bis Y&sup6; zur gleichen Zeit jeweils eine Methylolgruppe sind) wurden in 1.000 ml Methanol unter Erwärmung gelöst. Zu dieser Lösung wurde dann 1 ml konzentrierte Schwefelsäure zugegeben. Die Reaktionslösung wurde dann am Rückfluss für 12 Stunden erwärmt. Die Reaktionslösung wurde dann abgekühlt. Zu der Reaktionslösung wurden dann 2 g Kaliumcarbonat gegeben. Die Reaktionsmischung wurde gerührt und dann aufkonzentriert. Zur Reaktionslösung wurden dann 300 ml Ethylacetat zugegeben. Die Reaktionslösung wurde mit Wasser gewaschen und dann getrocknet. Das Lösungsmittel wurde abdestilliert, um einen weißen Feststoff zu erhalten (Ausbeute: 22 g).
- Die so erhaltene Verbindung wurde dann durch NMR identifiziert als das hexamethoxymethylierte Produkt von 1-[α-Methyl-α-(4-hydroxyphenyl)ethyl]-4-[α,α-bis(4- hydroxyphenyl)ethyl]benzol (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (X), wobei Y¹ bis Y&sup6; zur gleichen Zeit jeweils eine Methoxymethylgruppe sind). Die Reinheit des hexamethoxymethylierten Produkts war 90%, bestimmt durch Umkehrphasen-HPLC (Säule: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corp.); Lösungsmittel: Methanol/Wasser (Mischverhältnis = 60/40 bis 90/10, bezogen auf das Volumen)).
- 20 g des hexamethyloierten Produkts, erhalten in Synthesebeispiel 1-1 (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (X), wobei Y¹ bis Y&sup6; jeweils zur gleichen Zeit eine Methylolgruppe sind) wurden in 1.000 ml Ethanol unter Erwärmung gelöst. Zu der Lösung wurde dann 1 ml konzentrierte Schwefelsäure gegeben. Die Reaktionslösung wurde dann am Rückfluss für 12 Stunden erwärmt. Der Reaktionslösung wurde erlaubt abzukühlen. Zur Reaktionslösung wurden dann 2 g Kaliumcarbonat gegeben. Die Reaktionsmischung wurde gerührt und anschließend aufkonzentriert. Zur Reaktionslösung wurden dann 300 ml Ethylacetat zugegeben. Die Reaktionslösung wurde mit Wasser gewaschen und dann getrocknet. Das Lösungsmittel wurde destilliert, um öliges farbloses Material zu ergeben (Ausbeute: 22 g). Die Reinheit des hexaethoxymethylierten Produkts (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (X), wobei Y¹ bis Y&sup6; jeweils zur gleichen Zeit eine Ethoxymethylgruppe sind) war 70%, bestimmt durch Umkehrphasen-HPLC (Säule: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corp.); Lösungsmittel: Methanol/Wasser (Mischverhältnis = 60190 bis 90/10, bezogen auf das Volumen)).
- 20 g des hexamethyloierten Produkts, erhalten in Synthesebeispiel 1-1 (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (X), wobei Y¹ bis Y&sup6; jeweils zur gleichen Zeit eine Methylolgruppe sind) wurden in 200 ml 1-Methoxy-2-propanol unter Erwärmung gelöst. Zu der Lösung wurde 1 ml konzentrierte Schwefelsäure gegeben. Die Reaktionslösung wurde am Rückfluss für 12 Stunden erwärmt. Die Reaktionslösung wurde dann abgekühlt. Zu der Reaktionslösung wurden dann 2 g Kaliumcarbonat gegeben. Die Reaktionsmischung wurde gerührt und dann aufkonzentriert. Zu der Reaktionslösung wurden dann 300 ml Ethylacetat zugegeben. Die Reaktionslösung wurde gewaschen, mit Wasser, und dann getrocknet. Das Lösungsmittel wurde dann abdestilliert, um ein farbloses öliges Material zu erhalten (Ausbeute: 23 g). Der Gehalt an hexaverethertem Produkt (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (X), wobei Y¹ bis Y&sup6; jeweils zur gleichen Zeit eine 2-Methoxy-1- methylethoxymethylgruppe sind) war 55%, bestimmt durch Umkehrphasen-HPLC (Säule: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corp.); Lösungsmittel: Methanol/Wasser (Mischverhältnis = 60-40 bis 90/10, bezogen auf das Volumen)).
- 20 g des hexamethyloierten Produkts, erhalten in Synthesebeispiel 1-1 (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (X), wobei Y¹ bis Y&sup6; jeweils zur gleichen Zeit eine Methylolgruppe sind) wurden in 100 ml Methylenchlorid unter Erwärmung gelöst. Zu der Lösung wurden dann 10 ml Acetylchlorid gegeben. Die Reaktionsmischung wurde dann bei einer Temperatur von 25ºC für 12 Stunden gerührt. Die Reaktionslösung wurde mit Wasser gewaschen und dann getrocknet. Das Lösungsmittel wurde abdestilliert, um ein farbloses öliges Material zu erhalten (Ausbeute: 21 g). Die so erhaltene Verbindung wurde durch NMR identifiziert als hexakisacetoxymethyliertes Produkt von 1-[α-Methyl-α-(4- hydroxyphenyl)ethyl]4-[α,α-bis(4-hydroxyhenyl)ethyl]benzol (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (X), wobei Y¹ bis Y&sup6; jeweils zur gleichen Zeit eine Acetoxymethylgruppe sind). Die Reinheit des hexakisacetoxymethylierten Produkts war 85%, bestimmt durch Umkehrphasen-HPLC (Säule: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corp.); Lösungsmittel: Methanol/Wasser (Mischverhältnis = 60/40 bis 90110 m, bezogen auf das Volumen)).
- 17,3 g α',α"-Tris(4-Tris(4-hydroxyphenyl)-1,3,5,-triisopropylbenzol (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XI), wobei Y¹ bis Y&sup6; jeweils zur gleichen Zeit ein Wasserstoffatom sind) wurden in 60 g einer 10%igen wässrigen Lösung von Natriumhydroxid gelöst. Zu der Reaktionslösung wurden dann 15 g Methanol gegeben. Zu der Reaktionslösung wurden dann tropfenweise 30 g 37%iges Formalin gegeben. Nach Vollendung der tropfenweise Zugabe wurde die Reaktionslösung auf eine Temperatur von 40ºC erwärmt, bei welcher Temperatur für 12 Stunden reagiert wurde. Die Reaktionslösung wurde dann kristallisiert, aus einer wässrigen Lösung von Essigsäure, um einen weißen Feststoff zu erhalten. Der so erhaltene weiße Feststoff wurde gründlich mit Wasser gewaschen und dann bei Raumtemperatur unter verringertem Druck getrocknet (Ausbeute: 20 g). Die so erhaltene Verbindung wurde durch NMR identifiziert als hexamethyloiertes Produkt von α,α',α"-Tris(4- hydroxyphenyl)-1,3,5-triisopropylbenzol (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XI), wobei Y¹ bis Y&sup6; jeweils zur gleichen Zeit eine Methylolgruppe sind. Die Reinheit des hexamethyloierten Produkts war 90%, bestimmt durch Umkehrphasen-HPLC (Säule: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corp.); Lösungsmittel: Methanol/Wasser (Mischverhältnis = 60/40 bis 90/10, bezogen auf das Volumen)).
- 20 g des hexamethyloierten Produkts, erhalten in Synthesebeispiel 2-1 (Verbindung dargestellt durch die allgemeine Formel (XI), wobei Y¹ bis Y&sup6; jeweils zur gleichen Zeit eine Methylolgruppe sind) wurden in 1.000 ml Methanol unter Erwärmung gelöst. Zu der Lösung wurde dann 1 ml konzentrierte Schwefelsäure gegeben. Die Reaktionslösung wurde dann am Rückfluss für 9 Stunden erwärmt. Der Reaktionslösung wurde dann erlaubt abzukühlen. Zu der Reaktionslösung wurden dann 2 g Kaliumcarbonat gegeben. Die Reaktionsmischung wurde gerührt und dann aufkonzentriert. Zu der Reaktionslösung wurden dann 300 ml Ethylacetat gegeben. Die Reaktionslösung wurde mit Wasser gewaschen und dann getrocknet. Das Lösungsmittel wurde dann abdestilliert, um ein farbloses öliges Material zu erhalten (Ausbeute: 22 g). Die Reinheit des hexakismethoxymethylierten Produkts (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XI), wobei Y¹ bis Y&sup6; jeweils zur gleichen Zeit eine Methoxymethylgruppe sind) war 83%, bestimmt durch Umkehrphasen-HPLC (Säule: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corp.); Lösungsmittel: Methanol/Wasser (Mischverhältnis = 60/40 bis 90/10, bezogen auf das Volumen)).
- 10 g α,α,α',α'-Tetrakis(4-hydroxyphenyl)-p-xylol (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XII), wobei Y¹ bis Y&sup6; jeweils zur gleichen Zeit ein Wasserstoffatom sind) wurden in 25 ml einer 15%igen wässrigen Lösung von Natriumhydroxid gelöst. Zu der Reaktionslösung wurden dann 15 ml Methanol gegeben. Zu der Reaktionslösung wurden dann tropfenweise 20 g 37%iges Formalin gegeben. Nach Vollendung der tropfenweise Zugabe wurde die Reaktionslösung αuf eine Temperatur von 40ºC erwärmt, bei welcher dann für 12 Stunden reagiert wurde. Die Reaktionslösung wurde dann aus einer wässrigen Lösung von Essigsäure kristallisiert. Der Feststoff, so erhalten, wurde gründlich mit Wasser gewaschen und dann erneut mit 100 ml Ethylacetat aufgeschlämmt, um ein weißes Pulver zu erhalten (Ausbeute: 11,4 g). Die so erhaltene Verbindung wurde durch NMR identifiziert als octamethyloiertes Produkt vom α,α,α',α'-Tetrakis(4-hydroxyphenyl)1,4-dimethylbenzol (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XII), wobei Y¹ bis Y&sup6; jeweils zur gleichen Zeit eine Methylolgruppe sind). Die Reinheit des octamethyloierten Produkts war 95%, bestimmt durch Umkehrphasen-HPLC (Säule: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corp.); Lösungsmittel: Methanol/Wasser (Mischverhältnis = 60/40 bis 90/10, bezogen auf das Volumen)).
- 20 g des octamethyloierten Produkts, erhalten in Synthesebeispiel 3-1 (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XII), wobei Y¹ bis Y&sup8; jeweils zur gleichen Zeit eine Methylolgruppe sind) wurden in 1.000 ml Methanol unter Erwärmen gelöst. Zu der Lösung wurde dann 1 ml konzentrierte Schwefelsäure zugegeben. Die Reaktionslösung wurde dann am Rückfluss für 10 Stunden erwärmt. Der Reaktionslösung wurde dann erlaubt abzukühlen. Zu der Reaktionslösung wurden dann 2 g Kaliumcarbonat gegeben. Die Reaktionsmischung wurde gerührt und dann aufkonzentriert. Zu der Reaktionslösung wurden dann 300 ml Ethylacetat gegeben. Die Reaktionslösung wurde mit Wasser gewaschen und dann getrocknet. Das Lösungsmittel wurde dann abdestilliert, um ein leicht gelbes öliges Material zu erhalten (Ausbeute: 21 g). Die Reinheit des octakismethoxymethylierten Produkts (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XVI), worin Y¹ bis Y&sup8; jeweils zur gleichen Zeit eine Methoxymethylgruppe sind) war 87%, bestimmt durch Umkehrphasen- HPLC (Säule: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corp.); Lösungsmittel: Methanol/Wasser (Mischverhältnis = 60/40 bis 90/10, bezogen auf das Volumen)).
- 20 g des octamethyloierten Produkts, erhalten in Synthesebeispiel 3-1 (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XII), wobei Y¹ bis Y&sup8; jeweils zur gleichen Zeit eine Methylolgruppe sind) wurden in 800 ml Ethanol unter Erwärmen gelöst. Zu der Reaktionslösung wurde dann 1 ml konzentrierte Schwefelsäure gegeben. Die Reaktionslösung wurde dann am Rückfluss für 12 Stunden erwärmt. Die Reaktionslösung wurde dann abgekühlt. Zu der Reaktionslösung wurden dann 2 g Kaliumcarbonat gegeben. Die Reaktionsmischung wurde gerührt auf dann aufkonzentriert. Zu der Reaktionslösung wurden dann 300 ml Ethylacetat gegeben. Die Reaktionslösung wurde mit Wasser gewaschen und dann getrocknet. Das Lösungsmittel wurde dann abdestilliert, um ein farbloses öliges Material zu erhalten (Ausbeute: 23 g). Die Reinheit des octakisethoxymethylierten Produkts (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XVI), wobei Y¹ bis Y&sup6; jeweils zur gleichen Zeit eine Ethoxymethylgruppe sind, war 72%, bestimmt durch Umkehrphasen-HPLC (Säule: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corp.); Lösungsmittel: Methanol/Wasser (Mischverhältnis = 60/40 bis 90/10, bezogen auf das Volumen)).
- 20 g des octamethyloierten Produkts, erhalten in Synthesebeispiel 3-1 (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XII), wobei Y¹ bis Y&sup8; jeweils zur gleichen Zeit eine Methylolgruppe sind), wurden in 100 ml Methylenchlorid gelöst, unter Erwärmung. Zu der Lösung wurden dann 10 ml Acetylchlorid zugegeben. Die Reaktionslösung wurde dann bei einer Temperatur von 25ºC für 12 Stunden gerührt. Die Reaktionslösung wurde mit Wasser gewaschen und dann getrocknet. Das Lösungsmittel wurde dann abdestilliert, um ein farbloses öliges Material zu erhalten (Ausbeute: 22 g). Die Reinheit des octakisacetoxymethylierten Produkts (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XII), wobei Y¹ bis Y&sup8; jeweils zur gleichen Zeit eine Acetoxymethylgruppe sind) war 75%, bestimmt durch Umkehrphasen-HPLC (Säule: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corp.); Lösungsmittel: Methanol/Wasser (Mischverhältnis = 60/40 bis 90/10, bezogen auf das Volumen)).
- 11 g 1,3,3,5-Tetrakis(4-hydroxyphenyl)-pentan (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XIII), wobei Y¹ bis Y&sup8; jeweils zur gleichen Zeit ein Wasserstoffatom sind) wurden in 40 g einer 10%igen wässrigen Lösung von Natriumhydroxid gelöst. Zu dieser Reaktionslösung wurden dann 10 g Methanol gegeben. Zu dieser Reaktionsmischung wurden dann tropfenweise 20 g 37%iges Formalin gegeben. Nach Vollendung der tropfenweisen Zugabe wurde die Reaktionslösung auf eine Temperatur von 40ºC erwärmt, bei welcher die Reaktionslösung dann weiter für 12 Stunden reagiert wurde. Die Reaktionslösung wurde dann kristallisiert, aus einer wässrigen Lösung von Essigsäure, um einen weißen viskosen Feststoff zu erhalten. Der so erhaltene Feststoff wurde gründlich mit Wasser gewaschen und dann bei Raumtemperatur unter verringertem Druck getrocknet (Ausbeute: 13,6 g).
- Die so erhaltene Verbindung wurde durch NMR identifiziert als ein octamethyloiertes Produkt von 1,3,3,5-Tetrakis(4-hydroxyphenyl)pentan (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XIII), wobei Y¹ bis Y&sup8; jeweils zur gleichen Zeit eine Methylolgruppe sind). Die Reinheit des octamethyloierten Produkts war 93%, bestimmt durch Umkehrphasen-HPLC (Säule: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corp.); Lösungsmittel: Methanol/Wasser (Mischverhältnis = 60/40 bis 90/10, bezogen auf das Volumen)).
- 20 g des octamethyloierten Produkts, erhalten in Synthesebeispiel 4-1 (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XIII), wobei Y¹ bis Y&sup8; jeweils zur gleichen Zeit eine Methylolgruppe sind) wurden in 1.000 ml Methanol unter Erwärmung gelöst. Zu der Lösung wurde dann 1 ml konzentrierte Schwefelsäure zugegeben. Die Reaktionslösung wurde dann am Rückfluss für 10 Stunden erwärmt. Der Reaktionslösung wurde dann erlaubt abzukühlen. Zu der Reaktionslösung wurden dann 2 g Kaliumcarbonat gegeben. Die Reaktionsmischung wurde gerührt und dann aufkonzentriert. Zu der Reaktionsmischung wurden dann 300 ml Ethylacetat gegeben. Die Reaktionslösung wurde mit Wasser gewaschen und dann getrocknet. Das Lösungsmittel wurde dann abdestilliert, um ein leicht gelbes öliges Material zu erhalten (Ausbeute: 21 g). Die Reinheit des octakismethoxymethylierten Produkts (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XIII), wobei Y¹ bis Y&sup8; jeweils zur gleichen Zeit eine Methoxymethylgruppe sind) war 85%, bestimmt durch Umkehrphasen- HPLC (Säule: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corp.); Lösungsmittel: Methanol/Wasser (Mischverhältnis = 60/40 bis 90/10, bezogen auf das Volumen)).
- 15 g α,α,α',α',α",α"-Hexakis(4-hydroxyphenyl)-1,3,5-triethylbenzol (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XVI), wobei Y¹ bis Y&sup8; jeweils zur gleichen Zeit ein Wasserstoffatom sind) wurden in einer Mischung αus 35 ml einer 15%igen wässrigen Lösung von Natriumhydroxid und 25 ml Methanol gelöst. Zu der Reaktionslösung wurden dann tropfenweise 33 g 37%iges Formalin gegeben. Nach Vollendung der tropfenweisen Zugabe wurde die Reaktionslösung auf eine Temperatur von 40ºC erwärmt, wo sie dann weiter für 20 Stunden reagiert wurde. Die Reaktionslösung wurde dann in eine wässrige Lösung von Essigsäure gegossen. Ein viskoses öliges Material wurde durch Dekantieren von der wässrigen Phase abgetrennt, gründlich mit Wasser gewaschen und dann bei Raumtemperatur unter verringertem Druck getrocknet, um ein leicht gelbes Pulver zu erhalten (Ausbeute: 16,6 g).
- Die so erhaltene Verbindung wurde durch NMR identifiziert als dodecamethyloiertes Produkt von α,α,α',α',α",α"-Hexakis(4-hydroxyphenyl)-1,3,5-triethylbenzol (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XVI), wobei Y¹ bis Y&sup8; jeweils zur gleichen Zeit eine Methylolgruppe sind. Die Reinheit des dodecamethyloierten Produkts war 80%, bestimmt durch Umkehrphasen-HPLC (Säule: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corp.); Lösungsmittel: Methanol/Wasser (Mischverhältnis = 60/40 bis 90110, bezogen auf das Volumen)).
- 20 g des dodecamethyloierten Produkts, erhalten in Synthesebeispiel 5-1 (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XVI), wobei Y¹ bis Y² jeweils zur gleichen Zeit eine Methylolgruppe sind) wurden in 1.000 ml Methanol unter Erwärmen gelöst. Zu der Lösung wurde dann 1 ml konzentrierte Schwefelsäure gegeben. Die Reaktionslösung wurde dann am Rückfluss für 13 Stunden erwärmt. Der Reaktionslösung wurde dann erlaubt abzukühlen. Zu der Reaktionslösung wurden dann 2 g Kaliumcarbonat gegeben. Die Reaktionsmischung wurde gerührt und dann aufkonzentriert. Zu der Reaktionslösung wurden dann 300 ml Ethylacetat gegeben. Die Reaktionslösung wurde mit Wasser gewaschen und dann getrocknet. Das Lösungsmittel wurde dann abdestilliert, um ein leicht gelbes öliges Material zu erhalten (Ausbeute: 21 g). Die Reinheit des dodecakismethoxymethylierten Produkts (Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (XVI), wobei Y¹ bis Y¹² jeweils zur gleichen Zeit eine Methoxymethylgruppe sind) war 75%, bestimmt durch Umkehrphasen- HPLC (Säule: Shimpac CLC-ODS (Shimadzu Corp.); Lösungsmittel: Methanol/Wasser (Mischverhältnis = 60-40 bis 90110, bezogen auf das Volumen)).
- Eine 0,3 mm dicke Aluminiumplatte (Qualität: 1050) wurde mit einem Lösungsmittel gereinigt, so dass es entfettet war, mit einer Nylonbürste und einer wässrigen Suspension von 400 Mesh Bimsstein aufgeraut und dann gründlich mit Wasser gewaschen. Die so aufgeraute Platte wurde in eine 25%ige wässrige Lösung von Natriumhydroxid bei einer Temperatur von 45ºC für 9 Sekunden eingetaucht, so dass sie geätzt wurde, mit Wasser gewaschen, in eine 20%ige Salpetersäure für 20 Sekunden eingetaucht und dann erneut mit Wasser gewaschen. Die geätzte Menge der aufgerauten Oberfläche der Aluminiumplatte war etwa 3 g/m². Die so behandelte Aluminiumplatte wurde einer Oxidation mit einem Gleichstrom in 7%iger Schwefelsäure als Elektrolyt bei einer Stromdichte von 15 A/dm² unterworfen, um einen oxidierten Film zu erhalten, mit einer Dichte von 3 g/m². Dann wurde mit Wasser gewaschen und getrocknet. Die so oxidierte Aluminiumplatte wurde mit der folgenden Unterbeschichtungslösung beschichtet und dann bei einer Temperatur von 80ºC für 30 Sekunden getrocknet. Die Dichte der Unterbeschichtungsschicht, nach Trocknung, war 10 mg/m².
- β-Alanin 0,1 g
- Phenylphosphonsäure 0,05 g
- Methanol 40 g
- Reines Wasser 60 g
- Die folgenden Komponenten mit den folgenden Gewichtsanteilen wurden einer Dispergierung mit Glaskugeln für 10 Minuten unterworfen, um eine Rußdispersion zu erhalten.
- Ruß 1 Gewichtsteil
- Copolymer von Benzylmethacrylat und Methacrylsäure (molares Verhältnis: 71 : 29; Gewichtsmittel des Molekulargewichts: 70.000) 1,6 Gewichtsteile
- Cyclohexan 1,6 Gewichtsteile
- Methoxypropylacetat 3,8 Gewichtsteile
- Die so erhaltene Aluminiumplatte wurde mit der folgenden fotoempfindlichen Schicht beschichtet und dann bei einer Temperatur von 100ºC für 2 Minuten getrocknet, um eine negativ arbeitende fotoempfindliche lithographische Druckplatte zu erhalten. Die Dichte nach Trocknung war 2,0 g/m².
- Rußdispersion, oben genannt 2,4 g
- Phenolderivat (wie in Tabelle 1 angegeben)
- Phenol-Formaldehyd-Novolak (Gewichtsmittel des Molekulargewichts: 12.000) (wie in Tabelle 1 angegeben)
- 4-(p-N,N-Bis)ethoxycarbonylmethyl)aminophenyl- 2,6-bis(trichloromethyl)-S-triazin 0,02 g*¹
- Megafac F-176 (Fluor enthaltendes oberflächenaktives Mittel, erhältlich von Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0,06 g
- Methylethylketon 15 g
- 2-Methoxy-1-propanol 12 g.
- (*¹: in Beispielen 1 und 2 nicht zugegeben)) Tabelle 1
- Die in Vergleichsbeispiel 2 verwendete Verbindung war eine Verbindung, dargestellt durch die allgemeine Formel (X), wobei Y¹ bis Y&sup6; jeweils zur gleichen Zeit ein Wasserstoffatom sind. Die Verbindungen (XXI) und (XXII), verwendet in Vergleichsbeispielen 3 und 4, haben die folgenden Strukturen mit einem bzw. zwei Benzolkernen. Diese Verbindungen sind beschrieben in JP-B-1-49932.
- Die so erhaltene negativ arbeitende fotoempfindliche lithographische Druckplatte wurde mit einem Lichtstrahl aus einem YAG-Laser belichtet, der so eingestellt worden war, dass der Output 700 mW auf der Oberfläche der Druckplatte betrug. Dann wurde mit einem automatischen Prozessor verarbeitet, gefüllt mit einem Entwickler DP-4 (1 : 8), erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd., und einer Spüllösung FR-3 (1 : 7), erhältlich von Fuji Photo Film Co., Ltd., um ein Negativbild zu erhalten. Die lithographische Druckplatte wurde dann zum Drucken verwendet, in einem Hidel SOR-KZ Drucker. Die Resultate sind in Tabelle 1 angegeben. Beispiele 1 bis 13, in welchen das Phenolderivat der vorliegenden Erfindung verwendet wurde, ergaben gute Drucke. Im Gegensatz dazu konnten die Vergleichsbeispiele, frei an Phenolderivaten der vorliegenden Erfindung, kein Bild formen. Im Vergleichsbeispiel 4, wo ein Bild geformt wurde, war die druckbare Anzahl von Blättern gering.
- Die Prozedur des Beispiels 1 wurde wiederholt, um eine negativ arbeitende fotoempfindliche lithographische Druckplatte herzustellen, mit der Ausnahme, dass eine fotoempfindliche Lösung frei an Rußdispersion hergestellt wurde. Die so hergestellte fotoempfindliche lithographische Druckplatte wurde mit Licht belichtet und dann in derselben Art und Weise wie in Beispiel 1 entwickelt. Als Resultat wurde der fotoempfindliche Film komplett im Entwickler gelöst. Also wurde kein Bild erhalten.
- Dieselbe Aluminiumplatte, wie verwendet in Beispielen 1 bis 13, wurde mit der folgenden fotoempfindlichen Schicht beschichtet und dann bei einer Temperatur von 100ºC für 2 Minuten getrocknet, um eine negativ arbeitende fotoempfindliche lithographische Druckplatte zu erhalten. Die Dichte nach Trocknung war 2,0 g/m².
- Rußdispersion, oben genannt 2,2 g
- Phenolverbindung des Synthesebeispiels 1-2 0,25 g
- Alkali-lösliches Harz, unten genannt 2,05 g
- Megafac F-176 (Fluor enthaltendes oberflächenaktives Mittel, erhältlich von Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0,06 g
- Methylethylketon 15 g
- 2-Methoxy-1-propanol 12 g Alkali-lösliches Harz
- Die so erhaltene negativ arbeitende fotoempfindliche lithographische Druckplatte wurde mit Licht aus einem YAG-Laser belichtet, der so eingestellt worden war, dass der Output 700 mW auf der Oberfläche der Druckplatte betrug. Dann wurde mit einer wässrigen Lösung entwickelt, enthaltend Natriumcarbonat und Natriumhydrogencarbonat. Als Resultat ergaben Beispiele 14 bis 19, in welchen Acrylharze mit einem Phenolring oder einer Allylgruppe verwendet wurde, ein Negativbild. Im Gegensatz dazu wurde der fotoempfindliche Film im Vergleichsbeispiel 6 und 7, die ein Acrylharz frei an Phenolring oder Allylgruppe verwendeten, vollständig gelöst, und kein Bild wurde erhalten.
- Eine fotoempfindliche Schicht, umfassend einen Farbstoff, wie in Tabelle 2 angegeben, anstelle von Rußdispersion, verwendet in Beispiel 1, wurde auf das Substrat aufgebracht und dann in derselben Art und Weise wie in Beispiel 1 getrocknet, um eine negativ arbeitende fotoempfindliche lithographische Druckplatte zu erhalten.
- In Tabelle 2 angegebener Farbstoff 0,2 g
- Phenolverbindung des Synthesebeispiels 1-2 wie in Tabelle 2 angegeben
- Phenol-Formaldehyd-Novolak (Gewichtsmittel des Molekulargewichts: 12.000) wie in Tabelle 2 angegeben
- 4-(p-N,N-Bis(ethoxycarbonylmethyl) aminophenyl)-2,6-bis(trichlormomethyl)-5-triazin 0,02 g*²
- Megafac F-176 (Fluor enthaltendes oberflächenaktives Mittel, erhältlich von Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0,06 g
- Methylethylketon 15 g
- 2-Methoxy-1-propanol 12 g
- (*²: nicht zugegeben in Beispiel 21) Tabelle 2 Farbstoff Farbstoff 2
- Die so erhaltene negativ arbeitende fotoempfindliche lithographische Druckplatte wurde mit Licht aus einem Halbleiterlaser belichtet (Wellenlänge: 825 nm; Sportdurchmesser: 1/e² = 11,9 um), der so eingestellt worden war, dass der Output 110 mW auf der Oberfläche der Druckplatte bei einer Lineargeschwindigkeit von 8 m/s betrug. Die so belichtete Druckplatte wurde in derselben Art und Weise wie in Beispiel 1 entwickelt. Als Resultat wurden in Beispielen 20 bis 22 feine Linien mit einer Breite von 10 um geformt. Die so erhaltene lithographische Druckplatte wurde dann verwendet zum Drucken auf einem Hochqualitätspapier, mit einer kommerziellen Tinte, durch einen Drucker vom Typ SOR-KZ, erhältlich von Heidelberger Druckmaschinen Aktiengesellschaft. Die Resultate sind in Tabelle 2 angegeben. Beispiele 20 bis 22, in welchen das Phenolderivat der vorliegenden Erfindung in Kombination mit einem Farbstoff verwendet wurden, ergaben gute Drucke. Im Gegensatz dazu wurden im Vergleichsbeispiel 8, welches frei an Farbstoff war, und in Vergleichsbeispiel 9, welches frei an Phenolderivat der vorliegenden Erfindung war, jeweils kein Bild geformt.
- Das negativ arbeitende Bildaufnahmematerial der vorliegenden Erfindung kann Aufnahme durchführen, unabhängig von der Emissionswellenlänge der Belichtungslichtquelle. Insbesondere kann das negativ arbeitende Bildaufnahmematerial der vorliegenden Erfindung Aufnahme mit Licht im Bereich von nahem Infrarotlicht bis Infrarotlicht durchführen (Wärmestrahlung). Das Aufnahmematerial der vorliegenden Erfindung kann Aufnahme durchführen mit einem Feststofflaser oder einem Halbleiterlaser (Wärmemodus) mit einer Emissionswellenlänge im Bereich von nahem Infrarot bis Infrarot, um eine Platte direkt aus einem digitalen Datensatz herzustellen, aus einem Computer oder Ähnlichem. Weiter kann ein Wärmemodusplattenherstellungsprozess vom direkten Schreibtyp mit dem Aufnahmematerial der vorliegenden Erfindung eine lithographische Druckplatte zur Verfügung stellen, unter direkter Verwendung von konventionellen Prozessoren oder Druckern.
Claims (10)
1. Negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial, umfassend:
(a) eine Substanz, die Licht absorbiert, um Wärme zu erzeugen;
(b) ein in Wässer unlösliches und in alkalischem Wasser lösliches Harz; und
(c) ein Phenolderivat mit 4 bis 8 Benzolkernen, mindestens einer phenolischen
Hydroxylgruppe und mindestens zwei Gruppen, dargestellt durch die folgende
allgemeine Formel (I) im Molekül:
-CH&sub2;OR¹ (I)
worin R¹ ein Wasserstoffatom, eine Alkylgruppe oder eine Acylgruppe darstellt.
2. Negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial nach Anspruch 1, worin R¹ in der
allgemeinen Formel (I) eine Methylgruppe ist.
3. Negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial nach Anspruch 1 oder 2, weiter
umfassend einen Träger.
4. Negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial in Übereinstimmung mit irgendeinem
der Ansprüche 1 bis 3, wobei besagte Substanz, die Licht absorbiert, um Wärme
zu erzeugen, eine Substanz ist, die Infrarotstrahlen oder nahe Infrarotstrahlen
absorbiert.
5. Negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial nach irgendeinem der Ansprüche 1
bis 4, wobei besagtes in Wasser unlösliches und in alkalischem Wasser lösliches
Harz ein Harz ist, mit einer phenolischen Hydroxylgruppe oder einer olefinisch
ungesättigten Bindung.
6. Negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial nach irgendeinem der Ansprüche 1
bis 5, wobei besagte Substanz, die Licht absorbiert, um Wärme zu erzeugen, ein
Farbstoff, ein Pigment oder Ruß ist.
7. Negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial nach irgendeinem der Ansprüche 1
bis 5, wobei besagtes in Wasser unlösliches und in alkalischem Wasser lösliches
Harz ein Novolakharz, ein Acrylharz mit einer Allylgruppe oder ein Acrylharz mit
einer phenolischen Hydroxylgruppe ist.
8. Negativ arbeitendes Bildaufnahmematerial nach irgendeinem der Ansprüche 3
bis 5, wobei besagter Träger ein Polyesterfilm oder eine Aluminiumplatte ist.
9. Negativ arbeitender Bildaufnahmeprozess, umfassend die Stufen der Belichtung
eines negativ arbeitenden Bildaufnahmematerials in Übereinstimmung mit
irgendeinem der Ansprüche 1 bis 8 mit Infrarotstrahlen oder nahen
lnfrarotstrahlen, emittiert durch einen Laser, und anschließende Entwicklung des negativ
arbeitenden Bildaufnahmematerials mit wässrigem Alkali.
10. Negativ arbeitendes Bildaufnahmeverfahren nach Anspruch 9, weiter umfassend
die Stufe der Unterwerfung besagten negativ arbeitenden Bildaufnahmematerials
einer Wärmebehandlung zwischen der Belichtungsstufe und der
Entwicklungsstufe.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP33061895A JP3515846B2 (ja) | 1995-02-06 | 1995-12-19 | ネガ型画像記録材料 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69616723D1 DE69616723D1 (de) | 2001-12-13 |
DE69616723T2 true DE69616723T2 (de) | 2002-05-08 |
Family
ID=18234681
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69616723T Expired - Lifetime DE69616723T2 (de) | 1995-12-19 | 1996-08-06 | Negativarbeitendes Bildaufzeichnungsmaterial |
Country Status (3)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6132935A (de) |
EP (1) | EP0780239B1 (de) |
DE (1) | DE69616723T2 (de) |
Families Citing this family (27)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0795789B1 (de) * | 1996-03-11 | 2000-02-09 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Negativarbeitendes Bildaufzeichnungsmaterial |
ES2181120T3 (es) | 1996-04-23 | 2003-02-16 | Kodak Polychrome Graphics Co | Compuestos termosensibles para precursores de forma para impresion litografica positiva. |
US6117610A (en) | 1997-08-08 | 2000-09-12 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Infrared-sensitive diazonaphthoquinone imaging composition and element containing non-basic IR absorbing material and methods of use |
US5858626A (en) | 1996-09-30 | 1999-01-12 | Kodak Polychrome Graphics | Method of forming a positive image through infrared exposure utilizing diazonaphthoquinone imaging composition |
US6063544A (en) * | 1997-03-21 | 2000-05-16 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working printing plate and method of providing a positive image therefrom using laser imaging |
US6090532A (en) * | 1997-03-21 | 2000-07-18 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Positive-working infrared radiation sensitive composition and printing plate and imaging method |
JP3798504B2 (ja) * | 1997-04-21 | 2006-07-19 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
JP2002511955A (ja) | 1997-07-05 | 2002-04-16 | コダック・ポリクローム・グラフィックス・エルエルシー | パターン形成方法 |
CA2245304C (en) * | 1997-08-20 | 2007-03-06 | Toray Industries, Inc. | A directly imageable waterless planographic printing plate |
US6060217A (en) * | 1997-09-02 | 2000-05-09 | Kodak Polychrome Graphics Llc | Thermal lithographic printing plates |
DE19739302A1 (de) * | 1997-09-08 | 1999-03-11 | Agfa Gevaert Ag | Positiv arbeitendes IR-sensitives Gemisch, damit hergestelltes thermisch bebilderbares Aufzeichnungsmaterial sowie Verfahren zur Herstellung einer Druckform für den Offsetdruck |
EP0901902A3 (de) | 1997-09-12 | 1999-03-24 | Fuji Photo Film Co., Ltd. | Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung für Infrarot Bebilderung |
DE19803564A1 (de) | 1998-01-30 | 1999-08-05 | Agfa Gevaert Ag | Polymere mit Einheiten aus N-substituiertem Maleimid und deren Verwendung in strahlungsempfindlichen Gemischen |
JP2000035669A (ja) * | 1998-07-17 | 2000-02-02 | Fuji Photo Film Co Ltd | ネガ型画像記録材料 |
ATE271463T1 (de) * | 1998-08-24 | 2004-08-15 | Fuji Photo Film Co Ltd | Bildaufzeichnungsmaterial und flachdruckplatte, die dieses verwendet |
DE19847033A1 (de) | 1998-10-13 | 2000-04-20 | Agfa Gevaert Ag | Negativ arbeitendes, strahlungsempfindliches Gemisch zur Herstellung eines mit Wärme oder Infrarotlaser bebilderbaren Aufzeichnungsmaterials |
US6846612B2 (en) * | 2002-02-01 | 2005-01-25 | Brewer Science Inc. | Organic anti-reflective coating compositions for advanced microlithography |
JP4090307B2 (ja) | 2002-08-22 | 2008-05-28 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版の作製方法 |
US20050037287A1 (en) * | 2003-08-13 | 2005-02-17 | Agfa-Gevaert | Method for postbaking a lithographic printing plate |
JP4401262B2 (ja) * | 2004-02-02 | 2010-01-20 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
ATE421921T1 (de) * | 2004-07-08 | 2009-02-15 | Agfa Graphics Nv | Verfahren zur herstellung eines vorläufers für eine negativ arbeitende wärmeempfindliche lithographische druckplatte |
EP2042311A1 (de) | 2007-09-28 | 2009-04-01 | FUJIFILM Corporation | Lithographiedruckplattenvorläufer, Verfahren zur Herstellung einer Lithographiedruckplatte und Lithographiedruckverfahren |
JP5183268B2 (ja) * | 2008-03-27 | 2013-04-17 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版 |
JP5779835B2 (ja) | 2008-09-30 | 2015-09-16 | 大日本印刷株式会社 | 架橋剤、ネガ型レジスト組成物、並びに、当該レジスト組成物を用いたパターン形成方法及び電子部品 |
JP5514781B2 (ja) | 2011-08-31 | 2014-06-04 | 富士フイルム株式会社 | 平版印刷版原版及びこれを用いた平版印刷版の作成方法 |
US10809619B2 (en) * | 2013-06-26 | 2020-10-20 | Nissan Chemical Industries, Ltd. | Resist underlayer film-forming composition containing substituted crosslinkable compound |
KR102534516B1 (ko) * | 2015-08-18 | 2023-05-22 | 디아이씨 가부시끼가이샤 | 노볼락형 페놀성 수산기 함유 수지 및 레지스트막 |
Family Cites Families (9)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1245924A (en) * | 1967-09-27 | 1971-09-15 | Agfa Gevaert | Improvements relating to thermo-recording |
US3580719A (en) * | 1969-08-04 | 1971-05-25 | Agfa Gevaert Nv | Thermographic recording process |
DE2543820C2 (de) * | 1975-10-01 | 1984-10-31 | Hoechst Ag, 6230 Frankfurt | Verfahren zur Herstellung von Flachdruckformen mittels Laserstrahlen |
JP3016231B2 (ja) * | 1991-11-15 | 2000-03-06 | ジェイエスアール株式会社 | ネガ型レジスト組成物 |
JP2944327B2 (ja) * | 1992-09-14 | 1999-09-06 | 富士写真フイルム株式会社 | ポジ型感光性平版印刷版 |
US5372915A (en) * | 1993-05-19 | 1994-12-13 | Eastman Kodak Company | Method of making a lithographic printing plate containing a resole resin and a novolac resin in the radiation sensitive layer |
DE69407879T2 (de) * | 1993-06-30 | 1998-04-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | Phenolverbindungen, die Methoxymethylgruppen oder Hydroxymethylgruppen enthalten |
JP3317574B2 (ja) * | 1994-03-15 | 2002-08-26 | 富士写真フイルム株式会社 | ネガ型画像記録材料 |
JP3290316B2 (ja) * | 1994-11-18 | 2002-06-10 | 富士写真フイルム株式会社 | 感光性平版印刷版 |
-
1996
- 1996-08-02 US US08/691,371 patent/US6132935A/en not_active Expired - Fee Related
- 1996-08-06 EP EP96112679A patent/EP0780239B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1996-08-06 DE DE69616723T patent/DE69616723T2/de not_active Expired - Lifetime
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0780239A2 (de) | 1997-06-25 |
EP0780239B1 (de) | 2001-11-07 |
EP0780239A3 (de) | 1998-08-19 |
US6132935A (en) | 2000-10-17 |
DE69616723D1 (de) | 2001-12-13 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE69616723T2 (de) | Negativarbeitendes Bildaufzeichnungsmaterial | |
DE60014207T2 (de) | Positives planographisches Druckmaterial | |
JP3515846B2 (ja) | ネガ型画像記録材料 | |
DE69812243T2 (de) | Positiv arbeitende lichtempfindliche Zusammensetzung für Infrarot Laser Aufzeichnung | |
DE60037951T2 (de) | Fotoempfindliche Zusammensetzung und Flachdruckplatte, die diese Zusammensetzung verwendet | |
DE69731513T2 (de) | Verfahren zur Herstellung einer positiv arbeitenden lithographischen Druckplatte | |
DE69714225T2 (de) | Wärmeempfindliche Zusammensetzung zur Herstellung eines lithographischen Druckformvorläufers | |
DE60017644T2 (de) | Bildaufzeichnungsmaterial und Verfahren zur Herstellung | |
DE69512113T2 (de) | Strahlungsempfindliche Zusammensetzung, enthaltend ein Resolharz, ein Novolakharz, einen Infrarotabsorber und ein Triazin, und seine Verwendung in lithographischen Druckplatten | |
US5658708A (en) | Image recording material | |
DE69425398T2 (de) | Ein Resolharz und ein Novolakharz enthaltende strahlungsempfindliche Zusammensetzung und ihre Verwendung in Druckplatten | |
DE60123173T2 (de) | Negativ arbeitende Flachdruckplatte | |
JP3810510B2 (ja) | ネガ型画像記録材料及び平版印刷版原版 | |
DE69115661T2 (de) | Alcoxyalkylester als Löslichkeitinhibitoren für Phenolharze | |
DE69838703T2 (de) | Strahlungsempfindlicher Flachdruckplattenvorläufer und Flachdruckplatte | |
DE60125432T3 (de) | Verfahren zur Herstellung einer Flachdruck- Originalplatte | |
DE60005114T2 (de) | Flachdruckplattenvorstufe | |
DE69817038T2 (de) | Negativarbeitendes Bildaufzeichnungsmaterial | |
EP2475524B1 (de) | Positiv-arbeitende strahlungsempfindliche bebilderbare elemente | |
DE69826396T2 (de) | Lichtempfindliche Zusammensetzung und Bildaufzeichnungmaterial | |
DE69601518T2 (de) | Negativ arbeitende fotoempfindliche Zusammensetzungen | |
DE69806986T2 (de) | Verfahren zur Herstellung von positiv arbeitenden lithographischen Druckplatten | |
DE69604751T2 (de) | Negativarbeitendes Bildaufzeichnungsmaterial | |
DE19910363B4 (de) | Positives, lichtempfindliches bebilderbares Element | |
DE69701266T2 (de) | Negativarbeitendes Bildaufzeichnungsmaterial |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8327 | Change in the person/name/address of the patent owner |
Owner name: FUJIFILM CORP., TOKIO/TOKYO, JP |