DE69218392T2

DE69218392T2 - Verbessertes Verfahren und Vorrichtung zur Abschirmung von Elektronen- und anderen Teilchenstrahl-Beschleunigern

Info

Publication number: DE69218392T2
Application number: DE69218392T
Authority: DE
Inventors: Tzvi Avnery; Michael Robert Fishel
Original assignee: Energy Sciences Inc
Current assignee: Energy Sciences Inc
Priority date: 1992-01-21
Filing date: 1992-10-28
Publication date: 1997-10-23
Anticipated expiration: 2012-10-29
Also published as: CA2080976A1; EP0552535A1; EP0552535B1; JPH06109899A; US5194742A; DE69218392D1

Description

Die vorliegende Erfindung bezieht sich auf Verfahren sowie auf eine Einrichtung zum Abschirmen von Zonen für die Bestrahlung von Materialien mit einem Elektronenstrahl oder anderen Strahlbeschleunigern und dergl., und zwar einschließlich der Bestrahlungsbehandlung von sich bewegenden Streifen oder Bahnen oder sich bewegenden diskreten Materialien oder Oberflächen oder hierauf vorgesehenen Beschichtungen oder Materialien, die hierauf angeordnet sind und zu behandeln sind, wobei alle nachstehend auch in ihrer Verschiedenheit als Oberflächen, Flachmaterial oder allgemeiner als Produkt bezeichnet werden.

Hintergrund

Betrachtet man zuerst und prinzipiell das bedeutende und sehr illustrative Feld von Elektronenstrahlbeschleunigern, so hat sich der Stand der Technik wahrscheinlich vital mit der Schaffung einer praktischen und vertretbaren Abschirmsicherheit in diversehen Produktionslmien und anderen Umgebungen befaßt, wo eine Elektronenstrahlbestrahlung verwendet wird. Eine der größeren Barrieren gegenüber einer weit verbreiterten industriellen Nutzung von energiereichen Elektronen (beispielsweise Energien > 20 Kilo Elektronenvolt in solchen Anwendungen), beispielsweise für die Vervollständigung der Polymerisation in freie radikal nutzenden Aushärtungssystemen, für die Vernetzung oder Degration von verschiedenen natürlichen und synthetischen Polymeren und/oder für die Oberflächen oder Raumsterilisation von Materialien ist in der Tat die Schwierigkeit, die in einer sicheren Einleitung des Produktes in den Elektronenprozessor oder in die Elektronenbestrahlungseinrichtung in kontinuierlicher Weise begründet ist, und zwar üblicherweise bei hohen Geschwindigkeiten der Produktionslinie (beispielsweise von 30 m/min bis 500 m/min
Dieses Problem ist durch die Natur der Energie der Strahlungsquelle bedingt. Wenn energiereiche Elektronen ultimativ im Material stoppen bzw. abgebremst werden, gibt das nicht durchdringende Partikel (Elektron), beim Abbremsen ein Teil seiner Energie in Form von durchdringenden Photonen (Bremsstrahlung) ab und erzeugt die Erregung von charakteristischen Röntgenstrahlen von den Atomen des Materials, mit dem dieser Partikel zusammenwirkt. Die hieraus resultierende Quelle von durchdringender Röntgenstrahlung oder Photonenstrahlung kann nur schwer abgeschirmt werden, und zwar aufgrund ihrer großen Durchdringbarkeit in festen Materialien. Die Konsequenz hiervon ist, daß die kontinuierliche Anwendung einer Elektronenstrahlaushärtung Online bzw. in der Produktionslinie schwierig ist und in vielen Fällen nicht praktizierbar erscheint. Prozesse, die für Drähte und Kabel entwickelt wurde, zum Benetzen von Polyäthylen und zum Aushärten von Oberflächen, wurden mit einer Abschirmung in Form einer Einhausung oder eine Abschirmung des gesamten Systems versehen - ein Versuch, der aber mit den meisten Erfordernissen von Hochgeschwindigkeitsaushärt-Linien nicht vereinbar ist.
Ein Durchbruch in einer erfolgreichen praktischen Abschirmung in einigen industriellen Anwendungen von Elektronenstrahlbestrahlung ist in den US-Patenten Nr.42 52413 und 46 42 244 des Rechtsnachfolgers der vorliegenden Erfindung beschrieben. Die Strahlungszonen sind hierin mit ihrer Längserstreckung sich in Linie bzw. in Richtung der Produktionslinie erstreckenden Gehäusen oder Einhausungen geschützt, die beim Zuführen und Hindurchführen der Flächen, wie beispielsweise Bahnen oder andere Materialien, die gefährliche Strahlung auffangen sowie auch Seiteneffekte, um die Sicherheit in der Produktionslinie zu garantieren. Ein Beispiel der Verwendung eines solchen Gerätes ist der Energy Sciences "Selfshield" Type CBI1 75/105/760 Elektronenstrahl behandlungs-Einrichtung.
Das Abschirmgehäuse hat auch die Aufgabe zur Aufnahme von inerten Gasen, wie z.B. Stickstoff, in der Bestrahlungszone, wo die zu bestrahlende Oberfläche an dem Fenster des Elektronenstrahlbeschleunigers vorbeigeführt ist. Für die Montage, für justage und Wartungseinrichtungen ist die untere Hälfte des sich in Längsrichtung in Richtung der Linie erstreckenden Gehäuses allgemein beweglich und kann nach unten geöffnet werden, um einen Zugang zu der Bestrahlungszone sowie zu dem Fördersystem für die Oberfläche, die Bahn oder das Produkt zu ermöglichen.
Falls der Beschleuniger und sein Fenster nicht horizontal orientiert sind, sondern beispielsweise in einem spitzen Winkel angeordnet sind, wird die untere Hälfte des sich in Längsrichtung erstreckenden Abschirmgehäuses und nach unten für einen Zugang wegbewegt.
Bei Systemen des Trommeltyps, die zum Aushärten durch Bestrahlung dienen, wie z.B. in dem US-Patent Nr.45 21 445 des Rechtsnachfolgers beschrieben, kann die Trommel als Teil des sich in Längsrichtung erstreckenden Abschirmgehäuses einbezogen sein, wobei der untere Abschnitt des Gehäuses wiederum nach unten bewegbar ist und damit einen Zugang zu der Bestrahlungszone ermöglicht, durch die das Produkt hindurchgeführt ist.
Es wurde nun entdeckt, daß ein beachtlicher Raum gespart werden kann und daß ein wesentlich besserer und auch bequemerer Zugang zu der Bestrahlungszone, durch die die Oberfläche hindurchgeführt wird, möglich ist sowie auch eine verbesserte Wirksamkeit der Abschirmung und reduzierte Kosten möglich sind, und zwar durch eine ziemlich radikale Änderung des Designs des Abschirmgehäuses, wobei die Konstruktion quer oder lateral zu der Handhabungslinie für das Flachmaterial oder die andere Oberfläche orientiert ist und das Abschirmgehäuse so geformt ist, um eine neuartige transversale oder laterale Schiebeoperation der Gehäusehälften zu ermöglichen, und zwar zum Öffnen und Schließen der Bestrahlungszonen und der Zonen fiir das Zuführen und Abführen

Aufgaben oder Aspekte der Erfindung

Es ist daher eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine neuartige und verbesserte Methode sowie eine neuartige und verbesserte Vorrichtung für das Abschirmen von Inert-Zonen bei der Elektronenbestrahlung und dergl. zu schaffen, wobei die Möglichkeit eines Service-Signifikant verbessert und die Raumbedürfnisse für eine Prozeßlinie reduziert sowie auch die Verwendung einer wesentlich kleineren Abschirmvorrichtung ermöglicht werden.
Diese und andere Aspekte werden nachstehend erläutert und auch mehr herausgestellt in den beigefügten Ansprüchen.

Zusammenfassung

Zusammenfassend betrifft die Erfindung ein Elektronenstrahl-Abschirmgehäuse, durch welches eine sich bewegende Fläche hindurchbewegt wird, die innerhalb des Gehäuses durch Elektronenstrahlen bestrahlt werden soll, welche durch ein ebenes Fenster in eine Bestrahlungszone eintreten, die innerhalb des Gehäuses gebildet ist. Das Gehäuse umfaßt stationäre und bewegliche Hälften, die die erwähnte Zone definieren und jeweils im wesentlichen ein Zick-Zack-Querschnittsprofil bzw. einen Zick-Zack- Querschnitt definieren, wobei die mittleren Wandabschnitte hiervon sich in parallelen, räumlich getrennten Ebenen senkrecht zu einer ersten Achsrichtung des Durchtritts der Elektronen durch das Fenster erstrecken. Die Gehäusehälften bilden, wenn sie sich in der geschlossenen Stellung befinden, Ein- und Auslässe für die zu bestrahlende Fläche, und zwar an entgegengesetzten und im wesentlichen parallel zu der ersten Achsrichtung sich erstreckenden Schenkel des Zick-Zack-Querschnitts und schließen Bewegungsrollen für die Fläche ein, und zwar benachbart den Durchlässen zum Zuführen der Fläche in den jeweiligen Einlaß, über die Rollen oder zwischen den Rollen entlang einer Ebene parallel zum Fenster und in einer zweiten Richtung senkrecht zur ersten Richtung und aus dem Auslaß, und zwar in einer Bewegung entgegengesetzt zu der ersten Richtung. Mittel sind vorgesehen zum Verschieben der beweglichen Gehäusehälfte relativ zu der stationären Gehäusehälfte entlang einer dritten Achsrichtung senkrecht zur ersten Achsrichtung und senkrecht zur zweiten Achsrichtung, und zwar mit einem konstanten räumlichen Abstand zwischen den Gehäusehälften, um die erwähnte Zone zu öffnen und zu schließen.
Von einem anderen Gesichtspunkt her bezieht sich die Erfindung auf ein Verfahren zum Abschirmen der Bestrahlung eines Flachmatenals in der Zone sowie zur Ermöglichung der Wartung und Einstellung hiervon mit einem Minimum an Platzbedarf und Bedarf an Höhe in einer Linie, wobei dieses Vefarhren das Einschließen der Zone umfaßt, durch die das Flachmaterial an dem Fenster vorbeigeführt ist, in ein Abschirmgehäuse, welches sich quer zur Linie erstreckt, daß Teilen des Gehäuses in eine stationäre Hälfte und in eine bewegliche Hälfte, die quer zur Linie relativ zur stationären Hälfte verschiebbar ist, das Führen des Flachmatenals in Längsrichtung in das Gehäuse und aus dem Gehäuse an gegenüberliegenden Seiten des Fensters sowie dazwischen entlang der Fensterzone und das Verschieben der verschiebbaren Gehäusehälfte in Querrichtung sowie relativ zur stationären Gehäusehälfte, um das Gehäuse zu öffnen und zu schließen, wobei das Flachmaterial innerhalb der stationären Gehäusehälfte verbleibt.
Die beste Weise sowie bevorzugte konstruktive Merkmale und Vorteile werden nun vollständiger erörtert.

Zeichnungen

Die Erfindung wird nun in Verbindung mit den beigefügten Zeichnungen beschrieben, von denen
Fig. 1 eine isomerische bzw. perspektivische Prinzipdarstellung der Erfindung in einer bevorzugten Ausführung wiedergibt, und zwar dargestellt in der Anwendung bei einem Elektronenstrahlbeschleuniger und zeigen das Abschirmgehäuse im geschlossenen Zustand;
Fig. 2 eine ähnliche Darstellung, allerdings in der geöffneten Position;
Fig. 3 eine Querschnittsdarstellung des Beschleunigers der Figuren 1 und 2, und
Fig. 4 eine Seitendarstellung einer typischen Produktionslinie in der Druckindustrie, wobei der begrenzte Platzbedarf dargestellt ist, der durch die Erfindung benötigt wird.
In den Figuren 1 und 2 ist ein Elektronenstrahlbeschleuniger allgemein mit 1 angegeben, beispielsweise des Typs wie er in dem US-Patent Nr.3702 412 des genannen Rechtsnachfolgers beschrieben ist und mit der vorgenannten Serienbezeichnung CB/1 75 der Energy Sciences Inc. bezeichnet ist. Der Beschleuniger ist quer in einer Querachse T mit seiner Fenster tragenden Oberfläche W in einer vertikalen Ebene dargestellt, die eine entsprechende vertikale ebene Zwischenwand I (Fig. 3) einer stationären Abschirmgehäusehälfte 5 der Erfindung berührt. Wie mehr im Detail in der Fig. 3 dargestellt ist, ist die stationäre 5 des Abschirmgehäuses, beispielsweise aus den Abschirmmaterialien, die voll in den erwähnten Patent- Nummern 42 52 413 and 46 42 244 beschrieben sind, in etwa zick-zack-förmig im Querschnitt ausgeführt, wobei die mittlere (vordere oder linke) Wand l das ebene Fenster W für den Elektronenstrahl bildet, und zwar zu der inneren Bestrahlungszone Z, die durch das Gehäuse begrenzt ist.
Wie dargestellt, tritt der Elektronenstrahl in die Zone Z in einer horizontalen Richtung H ein, und zwar entgegengesetzt der Durchlaß- oder Bewegungslinie des Flachmaterials oder einer anderen Fläche oder Produktes P, welches in das Gehäuse in Längsrichtung einläuft, und zwar entlang der Linie L am Einlaß IN an der oberen Schenkeiwand 3 der stationären Gehäuseabschnittshälfte 5 und welches entlang der Längsrichtung L an dem unteren Auslaß OUT an der unteren Wand 5 austritt, wobei der Einlaß und der Auslaß vertikal versetzt oder beabstandet sind, so daß kein gerader Durchlaß durch das Abschirmgehäuse besteht, der ein Austreten von Strahlung durch die Produkte erlauben könnte.
Das Flachmaterial P oder eine andere zu behandelnde Fläche wird durch die im Gehäuse gebildete Bestrahlungszone Z hindurchbewegt, und zwar durch entsprechende Eingangs- und Ausgangsrollen R&sub1; und R&sub2;, die innerhalb der stationären Gehäuseabschnittshälfte 5 nahe dem Einlaß IN bzw. Auslaß OUT vorgesehen sind. Die Fläche P wird beim Passieren über bzw. zwischen den Rollen R&sub1; und R&sub2; in vertikaler Richtung nach unten in einer Ebene parallel zur Gehäusewand I und dem Fenster W, und zwar orthogonal oder senkrecht zu der horizontalen Richtung H des Elektronenstrahls geführt und die Fläche wird hierbei beim Passieren des Fenster W bestrahlt.
Zusammenwirkend mit der stationären Gehäusehälfte 5 des Abschirmgehäuses ist eine bewegliche Gehäusehälfte M vorgesehen, die einen im wesentlichen Zick-Zack- Querschnitt passend bzw. angepaßt aufweist. Die obere Schenkelwand 3' hiervon bildet im geschlossenen Zustand den Einlaß IN, und zwar zusammen mit der oberen Wand des stationären Abschnittes, und die untere Wand 5' hiervon wirkt mit der unteren Wand 5 der stationären Abschnittshälfte S in ähnlicher Weise zusammen, um den Auslaß OUT zu definieren. Die mittlere vertikale Wand I' ist parallel zu der stationären Wand I und trägt eine Strahlsammel- oder Kollektorplatte C, beispielsweise des Typs, wie er in den erwähnten Patenten beschrieben ist, und zwar in dem dem Fenster W gegenüberliegenden Bereich auf der anderen (rechten oder riickwärtigen) Seite der Oberfläche P, um die unverbrauchten Elektronen zu stoppen. Die passenden Abschnittshälften S und M schließen auf diese Weise die Bestrahlungszone Z ab und erlauben eine sichere Behandlung des Produktes entsprechend den Figuren 1 und 3.
In Übereinstimmung mit der Erfindung erstreckt sich daher das Abschirmgehäuse nicht in Längsrichtung entlang der Produktionslinie, wie dies in den genannten Patenten der Fall ist, sondern beansprucht einen sehr beschränkten Raum quer in der Produktionslinie. Das Gehäuse erfordert auch keine vertikale oder nach unten gerichtete Öffnung, wie bei dem Stand der Technik, wie dies vorstehend erläutert wurde, da der bewegliche Abschnitt M quer oder lateral gleitet, und zwar beispielsweise auf Gleitschienen 7, in die offene Stellung der Fig. 2, und zwar in der Richtung T senkrecht sowohl zur Längsrichtung H des Elektronenstrahles und der vertikalen Richtung der Ebene der zu bestrahlenden Fläche und des Fensters W.
Eine Inertisierung beispielsweise mit Stickstoff-Gas ist leicht erreicht, und zwar dadurch, daß die obere Wand S in Form von Hohlräumen 5 ausgebildet ist, die das Gas aufnehmen, wenn die Anordnung sich im geschlossenen Betriebszustand der Figuren 1 und 3 befindet. Wie spezieller in der Fig. 3 dargestellt ist, ist eine begrenzte Höhe zwischen den Rollen R&sub1; und R&sub2; (sogenannte Produkthöhe) erreichbar, und, wie dies noch deutlicher aus der Fig. 2 ersichtlich ist, ist ein extrem leichter Zugang zu der Produktzuführungs- und Bestrahlungszone gegeben, und zwar für das Einrichten, für justage und für Wartung, und zwar im Vergleich zu Systemen nach dem Stand der Technik.
In der dargestellten Konstruktion besitzt der stationäre Abschnitt S eine rechte Endwand E, ist aber am anderen Ende offen, und zwar dort, wo er den beweglichen Abschnitt M aufnimmt, der seinerseits eine Endwand E' aufweist, die in der geschlossenen Stellung gegen die Endwand E anliegt, sowie eine äußere (linke) Endwand E", die das Gehäuse in der geschlossenen Stellung abdichtet (Fig. 1). Das Gehäuse ist gesperrt und entsperrt in der Querrichtung T, wie beispielsweise bei 11, und zwar wiederum im Gegensatz zum Stand der Technik mit dem vertikalen Sperrmechanismus. Die bewegliche, selbstabschirmende Struktur M gleitet daher in einer Richtung senkrecht sowohl zu dem Partikel-Strahl als auch zu der Bewegungsrichtung des Produktes, wobei der senkrechte (in Längsrichtung) Abstand zwischen dem stationären und dem beweglichen Abschnitt konstant bleibt.
Zusammenfassend läßt sich also feststellen, daß die Vorteile dieser Erfindung u.a. sind:

1. Reduzierung des Umfangs der Produktionslinie.

Da Produktionslinien immer komplexer werden, und zwar bedingt durch den Wunsch, mit neuen Rohmaterialien am Anfang der Linie zu starten und am Ende der Produktionslinie ein fertiges Produkt zu erhalten, werden die Produktionslinien größer und länger. Die Einsparung in der Länge der Produktionslinie wird daher im kritischer.
Ein Beispiel einer solchen Produktionslinie, wie sie beispielsweise in der Druckindustrie verwendet wird, ist in der Fig. 4 wiedergegeben. Ein Rohmaterialband bzw. eine Rohmaterialbahn startet am Eingang der Linie, gefolgt durch einen Akkumulator, der ein automatisches Splicing des Rohmaterials gestattet, welches von einer Rolle her ein läuft.
Typischerweise erfolgt auf diesen eine Sechs-Farben-Druckpresse und eine Overcoat- bzw. Überzug-Station, der Elektronenstrahlbeschleuniger ("Trockner") und die Abschirmung gemäß der vorliegenden Erfindung, ein Inline-Cutter und die Stapeleinrichtung. Am Ende der Produktionslinien stehen Container bereit, und zwar für das Beladen für den Transport. Selbstverständlich ist zwischen allen den vorgenannen Stationen eine QS-Einrichtung, bzw. eine nicht dargestellte Transporteinrichtung vorgesehen.
Einige Anwendungen, wie beispielsweise das Vernetzen, manchmal in Linie mit dem Extruder, erfordern ebenfalls ein Minimum an Länge für die Produktionslinie, und zwar für eine technische Überlegenheit. Der Hersteller kann dann ein besseres Produkt herstellen, da die Stationen dichter aneinander vorgesehen sind und aus diesem Grunde eine bessere Steuerung und Überwachung möglich ist.
2. Die bewegliche Abschirmung kann an einen Service-Bereich bewegt werden. Dies macht die Durchführung von Service- und Montage-Arbeiten bequemer und effizienter.
3. Bei der erfindungsgemäßen Ausführung ist sichergestellt, daß die Produktionslinie intakt bleibt und nicht unterbrochen ist, und zwar unabhängig von der Positionierung der Abschirmung. Dies ermöglicht es dem Kunden, die mechanische Arbeitsweise einzustellen, zu inspizieren, zu beobachten sowie die Produktionslinie zu betreiben, und zwar selbst dann, wenn die Abschirmung geöffnet ist.
Weitere Modifikationen ergeben sich für Fachleute und fallen unter Gedanken und den Umfang der Erfindung, wie sie in den beigefügten Ansprüchen definiert ist.

Claims

1. Elektronenstrahl-Abschirmgehäuse, durch welches eine sich bewegende Fläche (P) hindurchgeführt werden kann, welche innerhalb des Gehäuses durch Elektronenstrahlen bestrahlt wird, die durch ein ebenes Fenster (W) in eine Bestrahlungszone (Z) eintreten, die innerhalb des Gehäuses gebildet ist, wobei das Gehäuse stationäre und bewegbare Hälften (S, M) aufweist, die die erwähnte Zone (Z) definieren und jeweils im wesentlichen ein Zick-Zack-Querschnitts-Profil bzw. einen Zick-Zack-Querschnittes definieren, wobei die mittleren Wandabschnitte (I, I') hiervon sich in parallelen, räumlich getrennten Ebenen senkrecht zu einer ersten Richtung (H) des Durchtritts der Elektronen durch das Fenster (W) erstrecken; wobei die Gehäusehälften (S; M), wenn sie sich in der geschlossenen Stellung befinden, Ein- und Auslässe (IN, OUT) für die zu bestrahlende Fläche bilden, und zwar an entgegengesetzten und im wesentlichen parallel zu der ersten Richtung (H) verlaufenden Schenkeln (3, 3', 5, 5,) des Zick-Zack-Querschnittes, und Bewegungsrollen (R1, R2) für die Fläche einschließen, und zwar benachbarten den Durch lässen (IN, OUT) zum Führen der Fläche (P) in den Einlaß (IN), über die Rollen und zwischen den Rollen (R1, R2) entlang einer Ebene parallel zu dem erwähnten Fenster (W) und in einer zweiten Richtung senkrecht zu der ersten Richtung (H) sowie aus dem Auslaß (OUT), und zwar in einer Bewegung entgegengesetzt zu der ersten Richtung (H); und

wobei Mittel (7) zum Verschieben der beweglichen Gehäusehälfte (M) relativ zu der stationären Gehäusehälfte (5) entlang einer dritten Richtung (T) senkrecht zu der ersten Richtung (H) und senkrecht zu der zweiten Richtung vorgesehen sind, und zwar mit einem konstanten räumlichen Abstand zwischen den Gehäusehäflten (S, M), um die erwähnte Zone (Z) zu öffnen und zu schließen.

2. Elektronenstrahl-Abschirmgehäuse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die bewegliche Gehäusehälfte (M) an ihrem mittleren Wandabschnitt (I') mit einer Sammel- oder Kollektorfläche (C) für den Elektronenstrahl versehen ist, und zwar an der dem Fenster (W) gegenüberliegenden Seite der zu bestrahlenden Fläche (P).

3. Elektronenstrahl-Abschirmgehäuse nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Schenkel (3) der stationären Gehäusehälfte (5), der den Einlaß (IN) bildet, mit Kammermitteln (9) versehen ist, die sich in der dritten Richtung (T) erstrecken.

4. Elektronenstrahl-Abschirmgehäuse nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß Mittel zum Einleiten eines inerten Gases über die Kammermittel (9) in die erwähnte Zone (Z) vorgesehen sind, und zwar wenn die Gehäusehälften (S, M) sich in der geschlossenen Stellung befinden.

5. Elektronenstrahl-Abschirmgehäuse nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß das Inert-Gas von Stickstoff gebildet ist.

6. Elektronenstrahl-Abschirmgehäuse nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß die stationäre Gehäusehälfte (5) an einem Ende mit einer Endoder Abschlußwand (E) versehen und am anderen Ende offen ist, und zwar zur Aufnahme der zweiten Gehäusehälfte (M), die in der dritten Richtung (T) in die Stellung zum Schließen der Zone (Z) und in die Stellung zum Öffnen der Zone (Z) verschiebbar ist, wobei die zweite Gehäusehälfte (M) Endwände (E', E") aufweist, und zwar eine Endwand (E'), die gegen die Endwand der stationären Gehäusehälfte (E) in der geschlossenen Stellung anliegt, und eine weitere Endwand (E"), die das offene Ende der stationären Gehäusehälfte (5) in der geschlossenen Stellung verschließt.

7. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß Mittel (11) zum Verriegeln und Entriegeln der Gehäusehälften (S, M) in der dritten Richtung (T) vorgesehen sind.

8. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein Elektronenstrahl- Beschleuniger (1) mit seinem Fenster (W) in der dritten Richtung (T) angeordnet ist, und zwar außen anliegend an dem erwähnten mittleren Wandabschnitt (1) der stationären Gehäusehälfte (S).

9. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die erwähnte Fläche als eine Produktbahn (P) zunächst parallel zu der ersten Richtung (H), dieser aber entgegengesetzt, in den Einlaß (IN), dann über und zwischen den Rollen (R1, R2) entlang der erwähnten zweiten Richtung und dann zurück parallel zu der ersten Richtung (H) sowie dieser entgegengesetzt aus dem Auslaß (OUT) herausgeführt ist.

10. Vorrichtung nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß die erste Richtung (H) sich in Längsrichtung erstreckt, daß sich die zu bestrahlende Fläche (P) in Längsrichtung, aber entgegengesetzt zu der ersten Richtung (H) in den Gehäuseeinlaß (IN) und aus dem Gehäuseauslaß (OUT) bewegt, wobei die dritte Richtung (T) sich quer zur Vorrichtung erstreckt sowie auch quer zur Richtung der Bewegung der Fläche.

11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß die quer verlaufende dritte Richtung (T) im wesentlichen horizontal und die zweite Richtung im wesentlichen vertikal sind.

12. Verfahren zur Abschirmung der Bestrahlung eines Flachmaterials (P) in einer Zone (Z) einer Linie (L) zum Handling oder Behandeln des Flachmaterials, die eine Elektronenstrahl-Bestrahl ungsstation aufweist, die einen Elektronenstrahl- Beschleuniger (1) für die Bestrahlung des Flachmaterials (P) besitzt, wenn dieses die Fensterzone (Z), an der der Elektronenstrahl austritt passiert, wobei das Flachmaterial sich in Längsrichtung der Linie fortbewegt, wobei die Instandhaltung und Einstellung auf minimalem Raum und hohen Anforderungen in der Linie (L) möglich sind und hierfür das Verfahren umfaßt:

Einschließen der Zone (Z), durch welche das Flachmaterial (P) an dem Fenster (W) vorbeigeführt ist, in ein Abschirmgehäuse, welches sich quer zur Linie (L) erstreckt; Teilen des Gehäuses in eine stationäre Hälfte (5) und eine bewegliche Hälfte (M), die quer zur Linie (L) relativ zur stationären Hälfte (5) verschiebbar ist; Führen des Flachmaterials (P) in Längsrichtung in das Gehäsue und aus dem Gehäuse an gegenüberliegenden Seiten des Fensters (W) sowie dazwischen entlang der Fensterzone (Z); und

Verschieben der verschiebbaren Gehäusehälfte (M) in Querrichtung sowie relativ zu der stationären Gehäusehälfte (5), um das Gehäuse zu öffnen und zu schließen, wobei das Flachmaterial (P) innerhalb der stationären Gehäusehälfte (5) verbleibt.

13. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß das Querverschieben der beweglichen Gehäusehälfte (M) so erfolgt, daß die Beabstandung der Gehäusehäflten (S, M) in Längsrichtung kosntant bleibt.

14. Verfahren nach Anspruch 12, dadurch gekennzeichnet, daß die Gehäusehälften (S, M) im wesentlichen in einem zick-zack-förmigen Querschnitt geformt sind, wobei das Fenster (W) an einem mittleren Wandabschnitt (I) der stationären Gehäusehälfte (S) anliegt, und daß das Flachmaterial (P) in Längsrichtung in den oberen und unteren Gehäuseeinlaß bzw. -auslaß (IN, OUT) in Längsrichtung geführt ist und dazwischen quer nach unten entlang des mittleren Wandabschnittes (1).

15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet, daß das Sammeln des Strahles im Bereich des mittleren Wandabschnittes (I') der beweglichen Gehäusehälfte erfolgt, und zwar dem Fenster (W) gegenüberliegend und nachdem die Elektronen aus dem Fenster (W) durch das sich vorbei bewegende Flachmaterial (P) hindurchgetreten sind.