JPS60206444A - 電子ビーム反応チヤンバ - Google Patents

電子ビーム反応チヤンバ

Info

Publication number
JPS60206444A
JPS60206444A JP4809085A JP4809085A JPS60206444A JP S60206444 A JPS60206444 A JP S60206444A JP 4809085 A JP4809085 A JP 4809085A JP 4809085 A JP4809085 A JP 4809085A JP S60206444 A JPS60206444 A JP S60206444A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
central chamber
radiation
irradiation
chamber
sheet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP4809085A
Other languages
English (en)
Other versions
JPH052120B2 (ja
Inventor
ウオーレン・ジエイ・ラムラー
リチヤード・ジー・デイグル
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
RPC Industries
Original Assignee
RPC Industries
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by RPC Industries filed Critical RPC Industries
Publication of JPS60206444A publication Critical patent/JPS60206444A/ja
Publication of JPH052120B2 publication Critical patent/JPH052120B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • GPHYSICS
    • G21NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21KTECHNIQUES FOR HANDLING PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K5/00Irradiation devices
    • G21K5/10Irradiation devices with provision for relative movement of beam source and object to be irradiated

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Apparatus For Disinfection Or Sterilisation (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 本発明は運動するウェブ又はシートに電離放射1線を照
射する装置に関する。その放射線のうちには電子線、陽
イオン、X線、光子及びガンマ線が含まれ、本発明は装
置周辺領域に放射線が散乱されるのを防止する便利な収
納容器を提供する。
例えば高エネルギーの電子を、運動しているウェブ又は
シートの重合化及び運動している基板上 ′のインクそ
の他の液体の乾燥もしくは硬化、等の広範な目的に使用
しうろことがかなり前から知られている。そのような装
置は運動式の生産ラインにおける材料の表面及び内部の
殺菌にも使用されている。さらに広い範囲にわたりその
ような装置が使用されていないのは基本的にはエネルギ
ー源自体の性質に基づく、これら装置に附随した物理的
制限のためである。
電子が電離放射線として使用されると、そのエネルギー
はしばしば透過性あるX線(制動放射)として被照射ウ
ェブ又はシート力)ら散逸されたり、電子と相互作用す
る材料の原子からの特性X線として材料の分子的励起を
介して散逸される。その結果得られる透過性X線又は光
子流は固体を透過する能力が大きいために閉じ込めるこ
とが困難である。その結果、電子!fM硬化法をオンラ
イン式に連続的に用いることはこれまで使用上制限され
ていた。
もちろん過去にシステム全体を天蓋で遮蔽する成功例は
あるが、柔軟な運動中のウェブ又はシートの照射を行な
う装置にそのような方法を用いることは実用的でない。
米国特許84,252,413号は、このような問題に
対して、運動中のウェブ又はシートが通過させられる中
央照射領域の流入領域及び流出領域に遮蔽された空洞捕
捉装置を設けることによって、一つの解決法を与えてい
る。この先行技術の特徴をさらに述べると、平行な遮蔽
壁表面が使用されており、その表面が、散乱放射線を集
束するための縦方向に延びた細溝を形成し、この溝がさ
らに運動ウェブに対する流入領域及び流出領域を与えて
いる。
米国特許第4,252,413号に述べられている発明
は運動ウェブ又はシートに電離放射線を照射しうる装置
の使用法に対し合理的な方法を示してはいるが、そのよ
うな装置が一般的に普遍的に採用されることを制限し続
けるいくつかの未解決の難点が残っている。最も顕著な
欠点は先行技術の放射線発生装置がこれまで剛体的なも
のであることである。周囲物体を散乱放射線が透過しな
いように遮蔽する必要から、米国特許第4,252,4
13号に開示されたものを含めて先行装置の物理的形状
は、剛性にして固定的なものであった。したがって照射
を受けるべき運動ウェブ又はシートを担持している処理
ラインが、放射線発生装置に入り又は出るウェブもしく
はシートの空間的位置の変更に応じて、変化されていた
。その結果新たな配置の運動ウェブ又はシートを収納す
べく多大の経費を力)けて新たに形成される構造体を採
用して、旧装置全体が廃棄され、もしくは実質的に改造
されなければならな力1つだ。当然にこの柔軟性の欠如
が先行の電離放射線発生装置の使用に対する実質的な欠
点となっていた。
したがって、これら先行技術の欠点と制限を受けない装
置を与えることが本発明の目的である。
本発明の別の目的はこれまで達成されなかった柔軟性を
有する装置を与えることである。
本発明のこれら及び他の目的は下記説明及び添付の図面
から直ちに了解されよう。
放射線捕捉装置と、電離放射線を発生させてこれを運動
中のウェブ又はソートに指向させる装置とを含む中央チ
ャンバを有する、該運動中ウェブ又はシートに照射する
電離放射線発生装置が与えられる。本発明による改良は
、その運動ウェブ又はシートを通過させる流入装置及び
流出装置にあり、これら流入・流出装置は上記中央チャ
ンバの流入側及び流出側における一つ以上のサブチャン
バを含むことを特徴とする。これらサブチャンバは散乱
電離放射線を捕捉する装置を含み、その隣接のサブチャ
ンバ及び中央チャンバカ1ら脱着可能であることを特徴
とする。サブチャンバはこのように脱着可能であるため
、本装置の空間的位置に応じて、運動ウェブ又はシート
の流入角度及び流出角度を変更すべく別の付加的サブチ
ャンバと交換できる。 ・ 添付の図面を参照すると、本発明に顕著なることとして
中央チャンバ(10)内を運動するウェブ又はシート0
21が輸送され、このチャンバは、本発明の実施中に本
来的に発生される透過性ある光子を閉じ込める上に効果
的であることが証明されているスチール又は鉛等の遮蔽
(9)内に完全に密閉された電子発生装置αυ等の照射
領域を内包する。理想的にはこのような装置に図面の要
素(3)として示ずような放射線捕捉装置が与えられる
。この捕捉装置は運動ウェブ圓を通過する電離放射線の
通過路直下にあり、−万では周囲に放射線が透過するの
を防ぐべく力1なりの量の放射線を捕捉しうる材料のも
のであり、他方、要素(3)が本装置の他の表面領域よ
りも多量のエネルギーを受承する傾向ζこ鑑みて熱を良
導し得る材料を含んでいなければならない。放引線捕捉
装置(3)に使用する好ましい材料としては銅が推奨さ
れる。この装置(3)は、入射する電離放射線に帰因す
る熱エネルギーを散逸する点でさらに助けとなるように
管(4)を介して水冷できる。
実施上、ウェブα2はサブチャンバα壊こ入り、ローラ
(131を越えて、ここでウェブはサブチャンバ(社)
に入る。その地点からウェブはローラI近くまで進行し
、そこから中央チャンバαQに入り、照射を受ける。
運動ウェブ又はシートの表面もしくはその付近で硬化さ
れるべき自由ラジカル基の掃去(SCaV−engin
g )を低減すると共に電離放射線の2次反射及び散乱
によるオゾンの発生を制限するためには、チャンバ内の
酸素濃度を最小なすることがしばしば必要である。この
ことは運動ウェブ又はシートから実質的な量の酸素と周
囲からウェブに沿つて物理的に吸引される気体とを剥離
させる排気スト・リッパ(2→を設けることによって、
達成できる。
剥離された気体はコンジット(イ)から排気されてから
捕捉される力1あるいは任意の知られた方法で廃棄でき
る。中央チャンバσ〔から酸素を除去する別の補助手段
として、好ましくは運動ウェブα2の方向と逆流する方
向に、窒素等の不活性気体を導入する高圧装置(ハ)が
与えられる。スI−IJツバと不活性気体の導入部との
間で運動ウェブに関して実質上はとんどの周囲気体が除
去される。サブチャンバ(ハ)を含めた任意のサブチャ
ンバ下流に同様のストリッパ及び高圧装置を配置するこ
とにより酸素がチャンバ(10)中に忍び込むことを防
止できる。
さらに好ましい実施例として本発明はサブチャンバの一
つ以上に通用ドア(至)を設けることができ6゜。、)
うえ、ア、よ。□1□9oエイ、ヨ□。 i便宜を与え
るのみならず、製造運転の始まりの際、通行するウェブ
又はシートを本装置に目通しする上に有用である。理想
的には通用ドアは各々その一端、たとえば端Gυ、にて
蝶番付けされ、第二の端即ち端C37Jlこて脱着式に
装着される。散乱電離放射線が漏洩せず、又酸素が中央
チャンバ中に侵入しないように、装置の内部整合性を維
持するに十分な密封性が与えられる。
本発明のさらに別の特徴は中央チャンバ(1[1の構造
壁として機能する捕捉装置G9であり、これは中央チャ
ンバの幾何学的中心線に沿って、番号(35A)で示す
破線の位置まで除去しつる。このような構成によって、
中央チャンバの内部の要素への手当て、及び運動ウェブ
もしくはシートの目通しをすべく中央チャンバ内に接近
することが可能となる。
さらに捕捉装置69は、さらに別の構造部分に修正を加
えることなく上に説明したこの装置に関連して必要な遮
蔽と案内ロールとを与えた冷却ロールもしくは懸重ロー
/L/ (festooning roll )で置換
できる。捕捉装置(至)は、散乱放射線の不測の漏洩及
び処理領域への酸素の侵入を防止すべく、縁(至)C3
71における密封性が維持される限り、任意の便宜的固
定装置により、中央チャンバの外部壁(9)と一体的に
維持できる。
中央チャンバ(1(1内部の酸素その他の好ましからぬ
気体の濃度を制限する補助手段として高圧装置6〔と排
気装置−が与えられる。この高圧装置は窒素等の不活性
気体を中央チャンバ内部に導入する働きをし、この気体
は運動ウェブ又はシートの通行の逆流方向に通過して、
前述した排気装置(4[)を経由して中央チャンバ内部
力)ら排気される。適切に機能している運転モードでは
そのような装置は中央チャンバ内の酸素濃度を定常運転
時には約50ppm以下に維持し得る。
本発明は周囲への放射線の漏れが最小の下に運転される
よう意図されている。中央チャンバq、o+の流入装置
(17)及び流出装[a槌の附近に一以上のサブチャン
バを備えた本装置を使用することによって0、06 m
”/@の漏れ率が達成される。これらサブチャンバには
、これら−以上のサブチャンバの内側壁からほぼ平行に
出る突起である要素(60) (60a)(61) (
61a) (62) (62a) (63) (63a
)等を含む。これらの突起は散乱放射線を集束して周囲
へ漏れる前に捕捉する働きをする。本装置の下流側にあ
るサブチャンバ01)内にもまた、対応の捕捉装置(7
0)(70a) (71) (71a)(72)(72
a)(73)(73a)が示されている。
本発明を実施するに当っては脱着可能の通用装置Gつは
上記のようにいかなるサブチャンバをも除去することな
く破線で示す位置(35a)まで後退し得ることが重要
である。逆に、ウェブの入口又は出口形状は一つ以上の
サブチャンバを除去してそれらを簡単なボルト式脱着が
可能な別の形状のサブチャンバで置換することにより、
変更でき、その際脱着可能な通用装置05)を含んだ中
央チャンバを患られさなくて済む。
本発明の実施上内在する柔軟性は先行装置では得られな
力)つたものである。そのような物理的形状か中央チャ
ンバとその支持装置を乱すことなく入口路及び出口路の
再配置を可能ならしめるのみならず、中央チャンバ自体
か上記入口路及び出口路を全く乱すことなく空間的位置
を変更し得る。
たとえば、もしもウェブがほぼ鉛直に進行するように中
央チャンバが位置されていれば、すなわち、もしも電離
放射線の流れの下を通るウェブ(17Jの縦方向が鉛直
であれば、運動ウェブ又はシートを中央チャンバに目通
しするこdは易しいことが知られている。したがってい
るいろのサブチャンバ形状を単に設計変更することによ
り、ウェブは、それがいろいろの支持装置から出るとき
、及び入れられるときの運動ウェブ入口方向及び出口方
向を乱すことなく、上記のような鉛直路を通るように仕
向けられる。
本発明の実施上達成されるこの内在的柔軟性はまた支持
装置の形状を変更することなく、単一のシステムにおい
ていくつかの中央チャンバ又は電離放射線発生チャンバ
を連鎖させるべく使用できる。たとえば図面に示した要
素QQIのような二つのチャンバは、第一のチャンバの
出口装置をサブチャンバに接続し、他方サブチャンバの
出口は第二処理チャンバの入口にウェブを供給するよう
にすることにより連鎖接続できる。
本発明の目通しをさらに補助するため、一つ以上のサブ
チャンバに破線の要素(30)で示すような通用装置を
与えることができる。要素(至)は本装置の運転中、サ
ブチャンバQυの縦方向側壁となる。好才しい実施例で
は、縦方向の壁(至)はローラ(51αQ等の上側lこ
ウェブa2を目通しすべく開くことができるように位置
Oυにて蝶番付けされている。これが閉じられていると
きは雌突起(321が雄突起缶に係合して一体的密封を
なし、周囲への放射線の漏れと本装置内部への酸素の侵
入の防止を高めている。
そのような単一の通用装置が添付図面で示されたが、本
発明の実施上、各サブチャンバはそのような通用装置を
選択的に有し得ることが了解されよう。
本発明に対する膜性変更は当業者にいくつか明らかであ
ろうが、それらは前記特許請求の範囲に確定した本発明
の趣旨及び範囲内にあるものである。
【図面の簡単な説明】
図面は本発明による電離放射線照射装置の平面断面図で
ある。

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 (11運動しているウェブ又はシートに電離放射線を照
    射する装置であって、 A 中央チャンバにして (1)電離放射線を発生させ、かつこれを該運動中のウ
    ェブ又はシート+こ指向させる装置と、 (11)該ウェブ又はシートによって吸収されなかった
    放射線のほとんどを吸収すると共に該放射線により発生
    された熱を散逸させるための放射線捕捉装置と、 (iiil 該チャンバの内部へ至るための脱着式通用
    装置と、 Ovl 該中央チャンバを通過する該運動ウェブ又はシ
    ートを供給する流入装置及び流出ウェブを受承する流出
    装置と、 を含むチャンバと、 B 該中央チャンバに対して機能上附随する−又は二以
    上のサブチャンバにして (1)該中央チャンバの該流入及び流出装置から発出さ
    れる散乱放射線を捕捉する装置と、(II)該装置を通
    過する該運動ウェブ又はシートを支持するための案内装
    置と、 を含むことを特徴とするサブチャンバとを含む放射線照
    射装置であって、該通用装置を除去することなく該−又
    は二以上のサブチャンバが該中央チャンバからのみなら
    ず他のサブチャンバカ1らも脱着しうるようにされた放
    射線照射装置。 (2、特許請求の範囲第(1)項に記載の装置にして、
    さらに該中央チャンバ内の酸素濃度を制限しうる装置を
    含んでいる照射装置。 (3) 特許請求の範囲第(1)項ζこ記載の装置にお
    いて該中央チャンバの流入側付近の少なくとも一℃のサ
    ブチャンバがさらに該運動ウェブ又はシートから酸素を
    剥離させる装置を含むようにされた、照射装置。 (4)特許請求の範囲第(3)項に記載の装置において
    該剥離装置が、不活性気体を導入するための高圧装置と
    、該運動ウェブ又はシートにより担持された不活性気体
    その他の気体を排気するための排気装置とを含むようl
    こされた照射装置。 (5)特許請求の範囲第(4)項tこ記載の装置におい
    て該不活性気体が該運動ウェブの進行方向と逆に流動さ
    れるべく該高圧装置が該排気装置の下流に配置されてい
    る、照射装置。 (6)特許請求の範囲第(4)項に記載の装置において
    該不活性気体が窒素である照射装置。 (7)特許請求の範囲第(11項に記載の装置において
    該通用装置がいずれのサブチャンバをも除去することな
    く該中央チャンバがらも脱着しうる、照射装置。 (8) 特許請求の範囲第(2)項に記載の装置におい
    て、該中央チャンバ内の該酸素濃度制限装置が該中央チ
    ャンへ内に不活性気体を導入するための高圧装置と、該
    中央チャンバ内にあるいかなる気体をも実質的ζこ排気
    するため排気装置とを含むようにされた、照射装置。 (9)特許請求の範囲第(1)項に記載の装置にして、
    該放射線捕捉装置を冷却する装置をさらに含む照射装置
    。 α0)特許請求の範囲第(8)項に記載の装置において
    、該冷却装置が水循環装置を含むようにした、照射装置
    。 )(1υ 特許請求の範囲第(11項に記載の装置にお
    いて、各該サブチャンバが、該サブチャンバ内部に至 
    Cるための通用装置を含むようにされた、照射装置。 a2、特許請求の範囲第aO)項に記載の装置において
    、該通用装置が蝶番付けの壁を含み、膣壁が該サブチャ
    ンバの縦方向軸線に沿って配置されている、照射装置。 (13)特許請求の範囲第(1)項に記載の装置におい
    て、該中央チャンバ内の酸素濃度が該装置の定常運転中
    は約50 ppm以下に維持される、照射装置。 α滲 特許請求の範囲第(z1項に記載の装置において
    、該装置の空間的位置に応じて該運動ウェブ又はシート
    の流入又は流出の角度を変更するため、該サブチャンバ
    が別の付加的サブチャンバで置換しうるようにされた、
    照射装置。
JP4809085A 1984-03-23 1985-03-11 電子ビーム反応チヤンバ Granted JPS60206444A (ja)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US59290684A 1984-03-23 1984-03-23
US592906 1984-03-23

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS60206444A true JPS60206444A (ja) 1985-10-18
JPH052120B2 JPH052120B2 (ja) 1993-01-11

Family

ID=24372530

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP4809085A Granted JPS60206444A (ja) 1984-03-23 1985-03-11 電子ビーム反応チヤンバ

Country Status (3)

Country Link
JP (1) JPS60206444A (ja)
DE (1) DE3509484A1 (ja)
GB (1) GB2157140B (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006526549A (ja) * 2003-06-19 2006-11-24 テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム 電子ビーム照射の方法及び装置
JP2009068973A (ja) * 2007-09-12 2009-04-02 Hamamatsu Photonics Kk 電子線照射装置

Families Citing this family (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3806770A1 (de) * 1988-03-02 1989-09-21 Agion Angewandte Ionenstrahlte Verfahren und vorrichtung zum verbessern der hafteigenschaften einer kunststoffoberflaeche
US5194742A (en) * 1992-01-21 1993-03-16 Energy Sciences Inc. Method of and apparatus for shielding electron and other particle beam accelerators
SE526700C2 (sv) * 2003-06-19 2005-10-25 Tetra Laval Holdings & Finance Anordning och förfarande för sterilisering av en materialbana med elektronbestrålning

Family Cites Families (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4252413A (en) * 1978-10-05 1981-02-24 Energy Sciences Inc. Method of and apparatus for shielding inert-zone electron irradiation of moving web materials
DE3010821A1 (de) * 1980-03-21 1981-10-01 Polymer-Physik GmbH & Co KG, 2844 Lemförde Verfahren und vorrichtung zur vernetzung von auf traegermaterialien aufgebrachten lacken auf kunststoffbasis
GB2075320B (en) * 1980-04-23 1984-07-25 Nii Elektrofizi Apparatury Im Irradiation of rolled materials
US4482811A (en) * 1982-09-30 1984-11-13 Radiation Dynamics, Inc. Apparatus for guiding cable through a radiation chamber with reduced leakage therefrom

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006526549A (ja) * 2003-06-19 2006-11-24 テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム 電子ビーム照射の方法及び装置
JP2009068973A (ja) * 2007-09-12 2009-04-02 Hamamatsu Photonics Kk 電子線照射装置

Also Published As

Publication number Publication date
GB2157140A (en) 1985-10-16
DE3509484A1 (de) 1985-10-10
JPH052120B2 (ja) 1993-01-11
GB2157140B (en) 1987-04-29
GB8506508D0 (en) 1985-04-17

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4252413A (en) Method of and apparatus for shielding inert-zone electron irradiation of moving web materials
US3676673A (en) Apparatus for irradiation in a controlled atmosphere
EP1153400B1 (en) Electron accelerator having a wide electron beam
US4135098A (en) Method and apparatus for curing coating materials
EP0182477A3 (en) Filter apparatus for use with an x-ray source
ATE143524T1 (de) Bestrahlungsvorrichtung
CA2030674A1 (en) Disinfecting a fluid with ultraviolet radiation
US3654459A (en) Controlled atmosphere chamber for treating products with ionizing radiation
JPS60206444A (ja) 電子ビーム反応チヤンバ
FR2304321A1 (fr) Appareil de tomographie a multiples detecteurs
JPH06109899A (ja) 電子及びその他の粒子線加速器の遮蔽のための改善された方法及び装置
KR102143019B1 (ko) 전자빔을 이용한 대기정화용 반응장치 및 이를 포함하는 대기정화장치
DE3278737D1 (en) Providing x-rays
CA1184675A (en) Providing x-rays
JPS58225636A (ja) X線を対象物に照射する装置
JPS6235639B2 (ja)
FI832615A (fi) Anordning foer avkaenning och maetning av straolning
KR19980042938U (ko) 진공 가속기 빔라인의 각가변장치
JPS5367673A (en) Exchanging method for window foil of incidence window of reactor fortreating exhaust gas irradiated with radioactive rays
JPS62296516A (ja) X線露光装置
JPH0712960Y2 (ja) 電子線照射装置の搬送装置
ES2039752T3 (es) Dispositivo de estanqueidad y de absorcion de las dilataciones diferenciales entre una camara de enfriamiento de particulas en suspension y un conducto de reciclado.
FR2417100A1 (fr) Perfectionnements aux procedes de radiographie
JPH01211920A (ja) 光化学反応装置
JPH04301605A (ja) レーザ応用装置