DE69020043T2 - Thermisch verarbeitbares Abbildungselement mit einer Überzugsschicht. - Google Patents
Thermisch verarbeitbares Abbildungselement mit einer Überzugsschicht.Info
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- 238000003384 imaging method Methods 0.000 title claims abstract description 34
- 239000011247 coating layer Substances 0.000 title description 14
- -1 poly(silicic acid) Polymers 0.000 claims abstract description 97
- 230000001737 promoting effect Effects 0.000 claims abstract description 39
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 claims abstract description 27
- 230000002209 hydrophobic effect Effects 0.000 claims abstract description 12
- 229920002451 polyvinyl alcohol Polymers 0.000 claims description 31
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims description 25
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims description 25
- 239000003638 chemical reducing agent Substances 0.000 claims description 20
- GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N sodium;9,10-dioxoanthracene-2-sulfonic acid Chemical compound [Na+].C1=CC=C2C(=O)C3=CC(S(=O)(=O)O)=CC=C3C(=O)C2=C1 GGCZERPQGJTIQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 19
- 239000007800 oxidant agent Substances 0.000 claims description 12
- 239000011230 binding agent Substances 0.000 claims description 11
- 229920002037 poly(vinyl butyral) polymer Polymers 0.000 claims description 8
- 239000000178 monomer Substances 0.000 claims description 5
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N phenol group Chemical group C1(=CC=CC=C1)O ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 230000033116 oxidation-reduction process Effects 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims 1
- 229920001897 terpolymer Polymers 0.000 abstract description 10
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 9
- 238000012545 processing Methods 0.000 abstract description 8
- 230000002411 adverse Effects 0.000 abstract description 6
- 239000010410 layer Substances 0.000 description 116
- 238000011161 development Methods 0.000 description 17
- 239000000463 material Substances 0.000 description 13
- 238000010438 heat treatment Methods 0.000 description 12
- KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N succinimide Chemical compound O=C1CCC(=O)N1 KZNICNPSHKQLFF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 108010010803 Gelatin Proteins 0.000 description 11
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 11
- 229920000159 gelatin Polymers 0.000 description 11
- 239000008273 gelatin Substances 0.000 description 11
- 235000019322 gelatine Nutrition 0.000 description 11
- 235000011852 gelatine desserts Nutrition 0.000 description 11
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 10
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 9
- 238000011160 research Methods 0.000 description 9
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 8
- 239000004094 surface-active agent Substances 0.000 description 7
- 238000012360 testing method Methods 0.000 description 7
- CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N Ascorbic acid Chemical compound OC[C@H](O)[C@H]1OC(=O)C(O)=C1O CIWBSHSKHKDKBQ-JLAZNSOCSA-N 0.000 description 6
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 6
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 6
- AQRYNYUOKMNDDV-UHFFFAOYSA-M silver behenate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O AQRYNYUOKMNDDV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 6
- 229960002317 succinimide Drugs 0.000 description 6
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N Acrylic acid Chemical compound OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 150000004668 long chain fatty acids Chemical class 0.000 description 5
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 5
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 4
- 230000001235 sensitizing effect Effects 0.000 description 4
- LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 1,1-dichloroethene Chemical compound ClC(Cl)=C LGXVIGDEPROXKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N Ethenol Chemical compound OC=C IMROMDMJAWUWLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960005070 ascorbic acid Drugs 0.000 description 3
- 235000010323 ascorbic acid Nutrition 0.000 description 3
- 239000011668 ascorbic acid Substances 0.000 description 3
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 3
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 3
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 3
- 238000011066 ex-situ storage Methods 0.000 description 3
- 238000011065 in-situ storage Methods 0.000 description 3
- 239000004816 latex Substances 0.000 description 3
- 229920000126 latex Polymers 0.000 description 3
- 239000002243 precursor Substances 0.000 description 3
- 150000003378 silver Chemical class 0.000 description 3
- ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M silver bromide Chemical compound [Ag]Br ADZWSOLPGZMUMY-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- 238000003860 storage Methods 0.000 description 3
- 239000003017 thermal stabilizer Substances 0.000 description 3
- WLSZSLYALIHGPS-UHFFFAOYSA-N 2-bromo-2-(4-methylphenyl)sulfonylacetamide Chemical compound CC1=CC=C(S(=O)(=O)C(Br)C(N)=O)C=C1 WLSZSLYALIHGPS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N Iron Chemical compound [Fe] XEEYBQQBJWHFJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N Methyl acrylate Chemical compound COC(=O)C=C BAPJBEWLBFYGME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000004793 Polystyrene Substances 0.000 description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- 239000001913 cellulose Substances 0.000 description 2
- 229920002678 cellulose Polymers 0.000 description 2
- 229920002301 cellulose acetate Polymers 0.000 description 2
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 description 2
- 229920001577 copolymer Polymers 0.000 description 2
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 2
- 239000000839 emulsion Substances 0.000 description 2
- 239000004615 ingredient Substances 0.000 description 2
- 239000006224 matting agent Substances 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- SQARMCGNIUBXAJ-UHFFFAOYSA-N n-(2-hydroxyphenyl)benzenesulfonamide Chemical compound OC1=CC=CC=C1NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 SQARMCGNIUBXAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000123 paper Substances 0.000 description 2
- 229920003229 poly(methyl methacrylate) Polymers 0.000 description 2
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 2
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 2
- 239000004926 polymethyl methacrylate Substances 0.000 description 2
- 229920002223 polystyrene Polymers 0.000 description 2
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 2
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 2
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 2
- 150000005206 1,2-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- 150000005208 1,4-dihydroxybenzenes Chemical class 0.000 description 1
- KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 1H-pyrrole Natural products C=1C=CNC=1 KAESVJOAVNADME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 2-(3-fluorophenyl)-1h-imidazole Chemical compound FC1=CC=CC(C=2NC=CN=2)=C1 JAHNSTQSQJOJLO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 2-(3-phenylmethoxyphenyl)-1,3-thiazole-4-carbaldehyde Chemical compound O=CC1=CSC(C=2C=C(OCC=3C=CC=CC=3)C=CC=2)=N1 OEPOKWHJYJXUGD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JHKKTXXMAQLGJB-UHFFFAOYSA-N 2-(methylamino)phenol Chemical class CNC1=CC=CC=C1O JHKKTXXMAQLGJB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NREKJIIPVVKRNO-UHFFFAOYSA-N 2-(tribromomethylsulfonyl)-1,3-benzothiazole Chemical compound C1=CC=C2SC(S(=O)(=O)C(Br)(Br)Br)=NC2=C1 NREKJIIPVVKRNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PZTWFIMBPRYBOD-UHFFFAOYSA-N 2-acetylphthalazin-1-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(C(=O)C)N=CC2=C1 PZTWFIMBPRYBOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 2-aminophenol Chemical class NC1=CC=CC=C1O CDAWCLOXVUBKRW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MOXDGMSQFFMNHA-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybenzenesulfonamide Chemical compound NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1O MOXDGMSQFFMNHA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KTWCUGUUDHJVIH-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxybenzo[de]isoquinoline-1,3-dione Chemical compound C1=CC(C(N(O)C2=O)=O)=C3C2=CC=CC3=C1 KTWCUGUUDHJVIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CFMZSMGAMPBRBE-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyisoindole-1,3-dione Chemical compound C1=CC=C2C(=O)N(O)C(=O)C2=C1 CFMZSMGAMPBRBE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DFZVZKUDBIJAHK-UHFFFAOYSA-N 2-hydroxyoctadecanoic acid silver Chemical compound [Ag].OC(C(=O)O)CCCCCCCCCCCCCCCC DFZVZKUDBIJAHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCMFKNJVGBDDNM-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,6-bis(tribromomethyl)-1,3,5-triazine Chemical compound BrC(Br)(Br)C1=NC(C(Br)(Br)Br)=NC(C=2C=CC=CC=2)=N1 LCMFKNJVGBDDNM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IBWXIFXUDGADCV-UHFFFAOYSA-N 2h-benzotriazole;silver Chemical compound [Ag].C1=CC=C2NN=NC2=C1 IBWXIFXUDGADCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UJBDWOYYHFGTGA-UHFFFAOYSA-N 3,4-dihydropyrrole-2-thione Chemical compound S=C1CCC=N1 UJBDWOYYHFGTGA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGHDPGQEDMHVLK-UHFFFAOYSA-N 4-(hydroxymethyl)-4-methylpyrazolidin-3-one Chemical compound OCC1(C)CNNC1=O YGHDPGQEDMHVLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002307 Dextran Polymers 0.000 description 1
- 239000001856 Ethyl cellulose Substances 0.000 description 1
- ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N Ethyl cellulose Chemical compound CCOCC1OC(OC)C(OCC)C(OCC)C1OC1C(O)C(O)C(OC)C(CO)O1 ZZSNKZQZMQGXPY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920000084 Gum arabic Polymers 0.000 description 1
- AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N Hydroxylamine Chemical compound ON AVXURJPOCDRRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000000996 L-ascorbic acids Chemical class 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002367 Polyisobutene Polymers 0.000 description 1
- 239000004372 Polyvinyl alcohol Substances 0.000 description 1
- 241000978776 Senegalia senegal Species 0.000 description 1
- 206010070834 Sensitisation Diseases 0.000 description 1
- 229910007156 Si(OH)4 Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910021607 Silver chloride Inorganic materials 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002433 Vinyl chloride-vinyl acetate copolymer Polymers 0.000 description 1
- 239000000205 acacia gum Substances 0.000 description 1
- 235000010489 acacia gum Nutrition 0.000 description 1
- DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N acetaldehyde Diethyl Acetal Natural products CCOC(C)OCC DHKHKXVYLBGOIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000012190 activator Substances 0.000 description 1
- 239000012790 adhesive layer Substances 0.000 description 1
- 238000007754 air knife coating Methods 0.000 description 1
- 125000005250 alkyl acrylate group Chemical group 0.000 description 1
- XIWMTQIUUWJNRP-UHFFFAOYSA-N amidol Chemical class NC1=CC=C(O)C(N)=C1 XIWMTQIUUWJNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000007864 aqueous solution Substances 0.000 description 1
- 230000004888 barrier function Effects 0.000 description 1
- 239000011324 bead Substances 0.000 description 1
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 1
- XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N benzopyrazine Natural products N1=CC=NC2=CC=CC=C21 XSCHRSMBECNVNS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 1
- 239000000084 colloidal system Substances 0.000 description 1
- 238000004132 cross linking Methods 0.000 description 1
- 238000007766 curtain coating Methods 0.000 description 1
- 230000003247 decreasing effect Effects 0.000 description 1
- 230000006866 deterioration Effects 0.000 description 1
- 238000003618 dip coating Methods 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 description 1
- 238000007720 emulsion polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 235000019441 ethanol Nutrition 0.000 description 1
- 229920001249 ethyl cellulose Polymers 0.000 description 1
- 235000019325 ethyl cellulose Nutrition 0.000 description 1
- 238000007765 extrusion coating Methods 0.000 description 1
- 239000012530 fluid Substances 0.000 description 1
- 238000010528 free radical solution polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 1
- 150000004676 glycans Chemical class 0.000 description 1
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 1
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 1
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 1
- 229910052742 iron Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000314 lubricant Substances 0.000 description 1
- NGYIMTKLQULBOO-UHFFFAOYSA-L mercury dibromide Chemical compound Br[Hg]Br NGYIMTKLQULBOO-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 150000002734 metacrylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N methylenebutanedioic acid Natural products OC(=O)CC(=C)C(O)=O LVHBHZANLOWSRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 1
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 1
- GQORONPQIJQFDJ-UHFFFAOYSA-N n-(3,5-dibromo-4-hydroxyphenyl)benzenesulfonamide Chemical compound C1=C(Br)C(O)=C(Br)C=C1NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 GQORONPQIJQFDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KFPBEVFQCXRYIR-UHFFFAOYSA-N n-(3,5-dichloro-4-hydroxyphenyl)benzenesulfonamide Chemical compound C1=C(Cl)C(O)=C(Cl)C=C1NS(=O)(=O)C1=CC=CC=C1 KFPBEVFQCXRYIR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004780 naphthols Chemical class 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N p-toluenesulfonic acid Substances CC1=CC=C(S(O)(=O)=O)C=C1 JOXIMZWYDAKGHI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000002245 particle Substances 0.000 description 1
- CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N phenidone Chemical compound N1C(=O)CCN1C1=CC=CC=C1 CMCWWLVWPDLCRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 1
- IJAPPYDYQCXOEF-UHFFFAOYSA-N phthalazin-1(2H)-one Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NN=CC2=C1 IJAPPYDYQCXOEF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N phthalazine Chemical compound C1=NN=CC2=CC=CC=C21 LFSXCDWNBUNEEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N phthalimide Chemical compound C1=CC=C2C(=O)NC(=O)C2=C1 XKJCHHZQLQNZHY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920002401 polyacrylamide Polymers 0.000 description 1
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 1
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 1
- 229920006289 polycarbonate film Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001282 polysaccharide Polymers 0.000 description 1
- 239000005017 polysaccharide Substances 0.000 description 1
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 1
- 229920000915 polyvinyl chloride Polymers 0.000 description 1
- 239000004800 polyvinyl chloride Substances 0.000 description 1
- FYRHIOVKTDQVFC-UHFFFAOYSA-M potassium phthalimide Chemical compound [K+].C1=CC=C2C(=O)[N-]C(=O)C2=C1 FYRHIOVKTDQVFC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 230000002035 prolonged effect Effects 0.000 description 1
- NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N pyrazolidin-3-one Chemical compound O=C1CCNN1 NDGRWYRVNANFNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000003232 pyrogallols Chemical class 0.000 description 1
- 229920005989 resin Polymers 0.000 description 1
- 239000011347 resin Substances 0.000 description 1
- 239000012260 resinous material Substances 0.000 description 1
- 239000005060 rubber Substances 0.000 description 1
- 230000008313 sensitization Effects 0.000 description 1
- ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N silver bromoiodide Chemical compound [Ag].IBr ZUNKMNLKJXRCDM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M silver monochloride Chemical compound [Cl-].[Ag+] HKZLPVFGJNLROG-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- YRSQDSCQMOUOKO-KVVVOXFISA-M silver;(z)-octadec-9-enoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCC\C=C/CCCCCCCC([O-])=O YRSQDSCQMOUOKO-KVVVOXFISA-M 0.000 description 1
- CLDWGXZGFUNWKB-UHFFFAOYSA-M silver;benzoate Chemical compound [Ag+].[O-]C(=O)C1=CC=CC=C1 CLDWGXZGFUNWKB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OIZSSBDNMBMYFL-UHFFFAOYSA-M silver;decanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCC([O-])=O OIZSSBDNMBMYFL-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- MNMYRUHURLPFQW-UHFFFAOYSA-M silver;dodecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCC([O-])=O MNMYRUHURLPFQW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- LTYHQUJGIQUHMS-UHFFFAOYSA-M silver;hexadecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O LTYHQUJGIQUHMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- ORYURPRSXLUCSS-UHFFFAOYSA-M silver;octadecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCCCCCC([O-])=O ORYURPRSXLUCSS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OHGHHPYRRURLHR-UHFFFAOYSA-M silver;tetradecanoate Chemical compound [Ag+].CCCCCCCCCCCCCC([O-])=O OHGHHPYRRURLHR-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 1
- 230000003595 spectral effect Effects 0.000 description 1
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 description 1
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 1
- 229920001059 synthetic polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000010998 test method Methods 0.000 description 1
- 238000001931 thermography Methods 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920003176 water-insoluble polymer Polymers 0.000 description 1
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
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- B41M5/426—Intermediate, backcoat, or covering layers characterised by inorganic compounds, e.g. metals, metal salts, metal complexes
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- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/494—Silver salt compositions other than silver halide emulsions; Photothermographic systems ; Thermographic systems using noble metal compounds
- G03C1/498—Photothermographic systems, e.g. dry silver
- G03C1/49872—Aspects relating to non-photosensitive layers, e.g. intermediate protective layers
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- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/7614—Cover layers; Backing layers; Base or auxiliary layers characterised by means for lubricating, for rendering anti-abrasive or for preventing adhesion
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- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03C—PHOTOSENSITIVE MATERIALS FOR PHOTOGRAPHIC PURPOSES; PHOTOGRAPHIC PROCESSES, e.g. CINE, X-RAY, COLOUR, STEREO-PHOTOGRAPHIC PROCESSES; AUXILIARY PROCESSES IN PHOTOGRAPHY
- G03C1/00—Photosensitive materials
- G03C1/76—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers
- G03C1/91—Photosensitive materials characterised by the base or auxiliary layers characterised by subbing layers or subbing means
- G03C1/93—Macromolecular substances therefor
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- B41—PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
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- B41M5/00—Duplicating or marking methods; Sheet materials for use therein
- B41M5/26—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used
- B41M5/40—Thermography ; Marking by high energetic means, e.g. laser otherwise than by burning, and characterised by the material used characterised by the base backcoat, intermediate, or covering layers, e.g. for thermal transfer dye-donor or dye-receiver sheets; Heat, radiation filtering or absorbing means or layers; combined with other image registration layers or compositions; Special originals for reproduction by thermography
- B41M5/42—Intermediate, backcoat, or covering layers
- B41M5/423—Intermediate, backcoat, or covering layers characterised by non-macromolecular compounds, e.g. waxes
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- B41M—PRINTING, DUPLICATING, MARKING, OR COPYING PROCESSES; COLOUR PRINTING
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- B41M5/42—Intermediate, backcoat, or covering layers
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- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
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Description
- Diese Erfindung betrifft ein auf thermischem Wege entwickelbares Bild- oder Abbildungselement mit einer hydrophoben Bildschicht und einer hydrophilen Überzugsschicht mit einer die Adhäsion fördernden Schicht zwischen der Bildschicht und der Überzugsschicht, die eine Adhäsion der Überzugsschicht fördert, ohne die sensitometrischen Eigenschaften des Bildelementes nachteilig zu beeinflussen.
- Auf thermischern Wege entwickelbare Bildelemente einschließlich Filme und Papiere, zur Herstellung von Bildern durch thermische Entwicklung sind bekannt. Zu diesen Elementen gehören photothermographische Elemente, in denen ein Bild durch bildweise Exponierung mit Licht und anschließender Entwicklung durch gleichförmige Erhitzung des Elementes erzeugt wird. Zu diesen Elementen gehören ferner thermographische Elemente, in denen ein Bild durch bildweise Erhitzung des Elementes erzeugt wird. Derartige Elemente werden beispielsweise beschrieben in der Literaturstelle Research Disclosure, Juni 1978, Nr. 17029; der U.S.-Patentschrift 3 457 075; der U.S.-Patentschrift 3 933 508; der U.S.-Patentschrift 3 080 254 und der U.S.-Patentschrift 4 741 992.
- Überzugsschichten haben sich als geeignet auf auf thermischem Wege entwickelbaren Bildelementen erwiesen, um eine unerwünschte Markierung des Elementes während der Entwicklung zu vermeiden und um die Freisetzung von flüchtigen Komponenten aus dem Element bei Entwicklungstemperaturen zu behindern oder zu verhindern. Ein Beispiel für eine solche Überzugsschicht ist eine Gelatine-Überzugsschicht. Eine Gelatine-Überzugsschicht ist nicht wirksam bezüglich der Verhinderung der Wanderung von flüchtigen Komponenten, wie zum Beispiel Succinimid, wahrend längerer Aufbewahrung und bei höherer Feuchtigkeit während einer thermischen Entwicklung.
- Ein Beispiel für eine wirksame Überzugsschicht wird in der U.S.-Patentschrift 4 741 992 beschrieben. Eine solche Überzugsschicht weist auf Poly(kieselsäure), insbesondere Poly(kieselsäure) in Kombination mit einem hydrophilen Monomer oder Polymer, wie zum Beispiel Poly(vinylalkohol). Diese Überzugsschicht ist jedoch nicht völlig zufriedenstellend dann, wenn das auf thermischen Wege entwickelbare Bildelement eine Bildschicht aufweist, die hydrophob ist, wie zum Beispiel eine Bildschicht mit einem Poly(vinylbutyral)bindemittel. Wünschenswert wäre es, wenn der Grad der Adhäsion einer solchen Überzugsschicht an eine Bildschicht verbessert werden könnte, insbesondere eine Bildschicht, die hydrophob ist, um die Tendenz zu vermindern oder um zu verhindern, daß die Überzugsschicht während der thermischen Entwicklung entfernt wird oder zerstört wird. Keine der oben erwähnten Literaturstellen gibt eine Antwort, die den Bedürfnissen eines solchen thermischen Bildherstellungselementes genügt, insbesondere ohne nachteilige Beeinflussung der sensitometrischen Eigenschaften des Elementes.
- Polymere, die als geeignet betrachtet wurden, Schichten auf einem Trager eine verbesserte Adhäsion zu verleihen, genügten nicht den Erfordernissen, die an ein auf thermischem Wege zu entwickelndes Bildelement zu stellen sind, da die Polymeren entweder nicht den erforderlichen Adhäsionsgrad herbeigeführt haben oder weil sie derart nachteilige Effekte bewirkt haben, wie eine schlechte Barriere für flüchtige Komponenten, wie zum Beispiel Succinimid, während der Wärmeentwicklung. Beispiele für derartige nicht zufriedenstellende Polymere sind Poly(vinylalkohole), wie sie beschrieben werden in der U.S.-Patentschrift 4 741 992.
- Es wurde gefunden, daß die beschriebenen Erfordernisse erfüllt werden können durch ein auf thermischem Wege entwikkelbares Bildelement mit einem Träger, auf dem sich eine auf thermischem Wege entwickelbare hydrophobe Bildschicht befindet und bei dem sich auf der Seite der Bildschicht weg vom Träger eine Überzugsschicht befindet mit Poly(kieselsäure) und einem hydrophilen Monomer oder Polymer, wobei das Element eine polymere, die Adhäsion fördernde Schicht aufweist zwischen der Überzugsschicht und der Bildschicht. Die polymere, die Adhäsion fördernde Schicht umfaßt ein Polymer, das nicht nur gut an der hydrophoben Bildschicht haftet, sondern auch gut an der hydrophilen Überzugsschicht.
- Derartige Polymere, die für die polymere, die Adhäsion fördernde Schicht geeignet sind, sind:
- 1) Terpolymere von 2-Propennitril, 1,1-Dichloroethen und Propenoesäure, wie sie beschrieben in der U.S.- Patentschrift 3 271 345; und
- 2) Terpolymere des 2-Propenoesäuremethylesters, 1,1-Dichloroethens und der Itaconsäure, wie sie beispielsweise beschrieben in der U.S.-Patentschrift 3 437 484.
- Kombinationen von solchen Polymeren in der polymeren, die Adhäsion fördernden Schicht sind ebenfalls geeignet.
- Derartige Polymere werden durch die Formeln dargestellt:
- worin x, y, z, q, r und s einzeln ganze Zahlen darstellen, die zu einem Molekulargewicht des Polymeren führen, das eine beschichtbare Zusammensetzung erhalten wird.
- Diese Polymeren können nach aus dem Gebiet der Polymersynthese bekannten Methoden hergestellt werden. Beispielsweise werden Terpolymere von 2-Propennitril, 1,1-Dichloroethen und Propenoesäure hergestellt durch Copolymerisation der entsprechenden Monomeren nach Polymerisationsmethoden, die auf dem Gebiet der Polymertechnik bekannt sind. Zu diesen Methoden gehören bekannte Emulsions- und Lösungs-Polymerisationsverfahren.
- Eine geeignete polymere, die Adhäsion fördernde Schichtenzusammensetzung, die auf die Bildschicht aufgetragen wird, zeigt kein nachteiliges Fließverhalten, kein Verschmieren oder keine Verzerrungen oder Zerstörungen unter Verarbeitungstemperaturen des Elementes, die in typischer Weise innerhalb des Bereiches von 100ºC bis 200ºC liegen.
- Die optimale Konzentration an dem die Adhäsion fördernden Polymer in der polymeren, die Adhäsion fördernden Schicht hängt von solchen Faktoren, wie den speziellen Komponenten der die Adhäsion fördernden Schicht ab, dem speziellen, die Adhäsion fördernden Polymer, dem speziellen, auf thermischem Wege entwickelbaren Element und den Entwicklungsbedingungen. In typischer Weise liegt die Konzentration des die Adhäsion fördernden Polymeren in der polymeren, die Adhäsion fördernden Schicht im Bereich von 30 bis 99 Gew.-% der Schicht. Eine bevorzugte Konzentration des die Adhäsion fördernden Polymeren liegt im Bereich von 60 bis 99 Gew.-% der Schicht.
- Eine geeignete polymere, die Adhäsion fördernde Schicht ist in typischer Weise transparent und farblos. Die Überzugsschicht auf der die Adhäsion fördernden Schicht ist in typischer Weise ebenfalls transparent und farblos. Sind diese Schichten nicht transparent und farblos, dann ist es erforderlich, falls das Element ein photothermographisches Element ist, daß die Schichten mindestens transparent gegenüber der Wellenlänge der Strahlung sind, die angewandt werden, um das Bild herzustellen und zu betrachten. Die polymere, die Adhäsion fördernde Schicht und die Überzugsschicht beeinträchtigen die Bildeigenschaften nicht in nachteiliger Weise, wie beispielsweise die sensitometrischen Eigenschaften des photothermographischen Elementes.
- Andere Komponenten, insbesondere andere Polymere, können in der polymeren, die Adhäsion fördernden Schicht und/oder der Überzugsschicht geeignet sein. Zu anderen Bestandteilen, die in einer oder der anderen oder beiden dieser Schichten geeignet sein können, gehören solche anderen Polymeren, wie in Wasser lösliche Hydroxygruppen enthaltenden Polymere, vorzugsweise Poly(vinylalkohol), oder Monomere, die verträglich mit den Polymeren dieser Schichten sind. Zu anderen Bestandteilen, die in diesen Schichten vorliegen können, gehören beispielsweise oberflächenaktive Mittel, Stabilisatoren und Mattierungsmittel.
- Bildelemente, insbesondere photothermographische oder thermographische Elemente, wie beschrieben, können, falls erwünscht, aufweisen multiple Überzugsschichten und/oder multiple polymere, die Adhäsion fördernde Schichten. Beispielsweise kann das Bildelement auf der Bildschicht eine erste polymere, die Adhäsion fördernde Schicht aufweisen, eine erste Überzugsschicht mit beispielsweise einem in Wasser löslichen Cellulosederivat, wie beispielsweise Celluloseacetat, und eine zweite Überzugsschicht mit Poly(kieselsäure) und Poly(vinylalkohol).
- Die polymere, die Adhäsion fördernde Schicht ist auf jedem beliebigen, auf thermischem Wege entwickelbaren Bildelement geeignet, insbesondere jedem beliebigen photothermographischen oder thermographischen Element, das eine Bildschicht aufweist, mit der die polymere, die Adhäsion fördernde Schicht verträglich ist. Das auf thermischem Wege entwickelbare Bildelement kann ein Schwarz-Weiß-Bildelement sein oder ein auf thermischem Wege entwickelbares, einen Farbstofflieferndes Bildelement. Die polymere, die Adhäsion fördernde Schicht ist besonders geeignet auf einer Bildschicht eines photothermographischen Elementes, das für eine trockene physikalische Entwicklung bestimmt ist. Geeignete Silberhalogenidelemente, auf denen die polymere, die Adhäsion fördernde Schicht geeignet ist, werden beispielsweise beschrieben in den U.S.-Patentschriften 3 457 075; 4 459 350; 4 264 725; sowie in der Literaturstelle Research Disclosure, Juni 1978, Nr. 17029. Die polymere, die Adhäsion fördernde Schicht ist besonders geeignet beispielsweise auf einem photothermographischen Element, das einen Träger aufweist, auf dem sich in reaktionsfähiger Verbindung befinden in einem Bindemittel, insbesondere einem Poly(vinylbutyral)bindemittel, (a) photographisches Silberhalogenid, hergestellt in situ und/oder ex situ, (b) eine bildliefernde Kombination mit (i) einem organischen Silbersalz-Oxidationsmittel, vorzugsweise einem Silbersalz einer langkettigen Fettsäure, wie zum Beispiel Silberbehenat, mit (ii) einem Reduktionsmittel für das organische Silbersalz-Oxidationsmittel, vorzugsweise ein phenolisches Reduktionsmittel, und (c) gegebenenfalls ein Tonungsmittel, wie zum Beispiel Succinimid. Das photothermographische Element weist vorzugsweise direkt auf der polymeren, die Adhäsion fördernde Schicht eine Überzugsschicht auf, vorzugsweise eine Überzugsschicht mit 50 bis 90 Gew.-% der Überzugsschicht Poly(kieselsäure), und 1 bis 50 Gew.-% der Überzugsschicht Poly(vinylalkohol). Eine besonders bevorzugte Ausführungsform besteht aus einem photothermographischen Element mit einem Träger, auf dem sich in reaktionsfähiger Verbindung miteinander in einem Bindemittel befinden, insbesondere einem Poly(vinylbutyral) bindemittel, (a) photographisches Silberhalogenid, hergestellt in situ und/oder ex situ, (b) eine, ein Bild liefernde Kombination mit (i) Silberbehenat, mit (ii) einem phenolischen Reduktionsmittel für das Silberbehenat, (c) einem Tonungsmittel, wie zum Beispiel Succinimid, und einem Bildstabilisator, wie zum Beispiel 2-Bromo-2-(4-methylphenylsulfonyl)acetamid; worauf sich hierauf befindet eine polymere, die Adhäsion fördernde Schicht mit mindestens 30 Gew.-% der die Adhäsion fördernden Schicht von Poly(2-propennitrilco-1,1-dichloroethen-co-2-propenoesäure), und worauf sich auf der polymeren, die Adhäsion fördernden Schicht eine Überzugsschicht befindet mit 50 bis 90 Gew.-% der Überzugsschicht an Poly(kieselsäure) sowie 1 bis 50 Gew.-% der Überzugsschicht an Poly(vinylalkohol), insbesondere einem in Wasser löslichen Poly(vinylalkohol), der zu 80 bis 90 % hydrolysiert ist.
- Die optimale Dicke der polymeren, die Adhäsion fördernden Schicht und die optimale Dicke der Überzugsschicht hängen von verschiedenen Faktoren ab, wie dem speziellen Element, den Verarbeitungsbedingungen, den thermischen Entwicklungsmitteln, dem gewünschten Bild und den besonderen Komponenten der Schichten. Eine besonders geeignete Schichtendicke der polymeren, die Adhäsion fördernden Schicht liegt im Bereich von 0,04 bis 2,0 um, vorzugsweise im Bereich von 1,0 bis 0,05 um. Eine besonders geeignete Schichtendicke der Überzugsschicht liegt im Bereich von 0,5 bis 5,0 um, vorzugsweise im Bereich von 1,0 bis 2,0 um.
- Das photothermographische Element weist eine photosensitive Komponente auf, die im wesentlichen aus photographischem Silberhalogenid besteht. Eine bevorzugte Konzentration an photographischem Silberhalogenid liegt innerhalb des Bereiches von 0,01 bis 10 Molen photographischem Silberhalogenid pro Mol organisches Silbersalz-Oxidationsmittel, wie zum Beispiel pro Mol Silberbehenat in dem photothermographischen Material. Andere photosensitive Silbersalze sind in Kombination mit dem photographischen Silberhalogenid geeignet, falls erwünscht. Bevorzugte photographische Silberhalogenide sind Silberchlorid, Silberbromid, Silberbromojodid, Silberchlorobromojodid und Mischungen dieser Silberhalogenide. Sehr feinkörnige Silberhalogenide sind besonders geeignet. Das photographische Silberhalogenid kann nach jeder beliebigen bekannten Methode hergestellt werden, die auf dem photographischen Gebiet bekannt ist. Solche Verfahren zur Herstellung von photographischem Silberhalogenid und die Formen von Silberhalogenid werden beispielsweise beschrieben in der Literaturstelle Research Disclosure, Juni 1978, Nr. 17029 und in Research Disclosure, Dezember 1978, Nr. 17643. Tafelförmiges photographisches Silberhalogenid ist ebenfalls geeignet, wie es beispielsweise beschrieben wird in der U.S.-Patentschrift 4 435 499. Das photographische Silberhalogenid kann gewaschen oder ungewaschen sein, chemisch sensibilisiert, gegenüber der Erzeugung von Schleier geschützt sein und gegenüber einem Empfindlichkeitsverlust während der Aufbewahrung stabilisiert sein, wie es in den oben angegebenen Research Disclosure-Publikationen beschrieben wird. Die Silberhalogenide können in situ hergestellt werden, wie es in der U.S.-Patentschrift 3 457 075 beschrieben wird, oder sie können ex situ nach Verfahren hergestellt werden, die auf dem photographischen Gebiet bekannt sind.
- Das photothermographische Element weist in typischer Weise eine, ein Bild erzeugende Qxidations-Reduktions-Kombination auf, die ein organisches Silbersalz-Oxidationsmittel enthält, vorzugsweise ein Silbersalz einer langkettigen Fettsäure. Ein solches Silbersalz einer langkettigen Fettsäure ist gegenüber einem Dunkelwerden bei Belichtung resistent. Bevorzugte organische Silbersalz-Oxidationsmittel sind Silbersalze von langkettigen Fettsäuren, die 10 bis 30 Kohlenstoffatome aufweisen. Beispiele für derartige organische Silbersalz- Oxidationsmittel sind Silberbehenat, Silberstearat, Silberoleat, Silberlaurat, Silberhydroxystearat, Silbercaprat, Silbermyristat und Silberpalmitat. Geeignet sind ferner Kombinationen von organischen Silbersalz-Oxidationsmitteln. Beispiele für geeignete Silbersalz-Oxidationsmittel, bei denen es sich um keine Silbersalze von langkettigen Fettsäuren handelt, sind beispielsweise Silberbenzoat und Silberbenzotriazol.
- Die optimale Konzentration an organischem Silbersalz-Oxidationsmittel in einem photothermographischen Element ist abhängig von dem gewünschten Bild, dem speziell verwendeten Silbersalz-Oxidationsmittel, dem speziell verwendeten Reduktionsmittel und dem speziellen photothermographischen Element. Eine bevorzugte Konzentration an Silbersalz-Oxidationsmittel liegt im Bereich von 0,4 bis 100 Molen organischem Silbersalz-Oxidationsmittel pro Mol Silber. Werden Kombinationen von organischen Silbersalz-Qxidationsmitteln verwendet, so liegt die Gesamtkonzentration an organischem Silbersalz-Oxidationsmittel vorzugsweise innerhalb des beschriebenen Konzentrationsbereiches.
- Eine Vielzahl von Reduktionsmitteln ist in dem photothermographischen Element geeignet. Zu Beispielen für geeignete Reduktionsmittel gehören substituierte Phenole und Naphthole, wie zum Beispiel Bis-beta-naphthole; Polyhydroxybenzole, wie zum Beispiel Hydrochinone, Brenzkatechine und Pyrogallole; Aminophenole, wie zum Beispiel 2,4-Diaminophenole und Methylaminophenole; Ascorbinsäure-Reduktionsmittel, wie zum Beispiel Ascorbinsäure, Ascorbinsäureketale und andere Ascorbinsäurederivate; Hydroxylamin-Reduktionsmittel; 3-Pyrazolidon-Reduktionsmittel, zum Beispiel 1-Phenyl-3-pyrazolidon und 4-Methyl-4-hydroxymethyl-3-pyrazolidon; Sulfonamidophenole und andere organische Reduktionsmittel, wie sie beispielsweise beschrieben werden in der U.S.-Patentschrift 3 933 508 und in der Literaturstelle Research Disclosure, Juni 1978, Nr. 17029. Auch geeignet sind Kombinationen von organischen Reduktionsmitteln.
- Bevorzugte organische Reduktionsmittel in photothermographischen Elementen, wie beschrieben, sind Sulfonamidophenol- Reduktionsmittel, wie sie beispielsweise beschrieben werden in der U.S.-Patentschrift 3 801 321. Zu Beispielen von geeigneten Sulfonamidophenolen gehören 2, 6-Dichloro-4-benzolsulfonamidophenol; Benzolsulfonamidophenol; 2,6-Dibromo-4- benzolsulfonamidophenol und Mischungen von solchen Sulfonamidophenolen.
- Eine optimale Konzentration an Reduktionsmittel in einem photothermographischen Element, wie beschrieben, ist verschieden und hängt von solchen Faktoren ab, wie dem speziellen photothermographischen Element, dem gewünschten Bild, den Verarbeitungsbedingungen, dem speziellen Silbersalz-Oxidationsmittel und anderen Zusätzen in dem Element. Eine bevorzugte Konzentration an Reduktionsmittel liegt innerhalb des Bereiches von etwa 0,2 Molen bis etwa 2,0 Molen Reduktionsmittel pro Mol Silber in dem photothermographischen Element. Liegen Kombinationen von Reduktionsmitteln vor, so liegt die Gesamtkonzentration an Reduktionsmittel vorzugsweise innerhalb des beschriebenen Bereiches.
- Vorzugsweise enthält das photothermographische Element ein Tonungsmittel, auch als Aktivator-Toner oder als Toner-Beschleuniger bekannt. In dem photothermographischen Element sind auch Kombinationen von Tonungsmitteln geeignet. Ein optimales Tonungsmittel oder optimale Kombinationen von Tonungsmitteln hängen von solchen Faktoren ab, wie dem speziellen photothermographischen Element, dem gewünschten Bild, den speziellen Komponenten in dem Bildmaterial und den Verarbeitungsbedingungen. Zu Beispielen für geeignete Tonungsmittel gehören Phthalimid, N-Hydroxyphthalimid, N-Kaliumphthalimid, Succinimid, N-Hydroxy-1,8-naphthalimid, Phthalazin, 1-(2H)- Phthalazinon sowie 2-Acetylphthalazinon.
- Zu Stabilisatoren, die in photothermographischen Elementen geeignet sind, gehören photolytisch aktive Stabilisatoren und Stabilisatorvorläufer, wie sie beispielsweise beschrieben werden in der U.S.-Patentschrift 4 459 350, und zu ihnen gehören beispielsweise Azol-Thioether und blockierte Azolinthion-Stabilisatoren sowie Carbamoyl- Stabilisator-Vorläufer, wie sie in der U.S.-Patentschrift 3 877 940 beschrieben werden.
- Photothermische Materialien, wie beschrieben, enthalten vorzugsweise verschiedene Kolloide und Polymere allein oder in Kombination miteinander als Träger und Bindemittel und in verschiedenen Schichten. Geeignete Träger und Bindemittel sind hydrophil oder hydrophob. Sie sind transparent oder transluzent und zu ihnen gehören natürlich vorkommende Substanzen, wie zum Beispiel Gelatine, Gelatinederivate, Polysaccharide, wie zum Beispiel Dextran, Gummi arabicum, Cellulosederivate und dergleichen; sowie synthetische polymere Substanzen, wie zum Beispiel in Wasser lösliche Polyvinylverbindungen, zum Beispiel Poly(vinylpyrrolidon), und Acrylamidpolymere. Zu anderen synthetischen polymeren Verbindungen, die geeignet sind, gehören dispergierte Vinylverbindungen, zum Beispiel in Latexform, und insbesondere solche, welche die Dimensionsstabilität photographischer Materialien erhöhen. Zu wirksamen Polymeren gehören in Wasser unlösliche Polymere von Alkylacrylaten und -methacrylaten, Acrylsäure, Sulfoalkylacrylate und jene, die guervernetzende Zentren aufweisen, welche die Härtung oder Trocknung erleichtern. Zu bevorzugten Materialien von hohem Molekulargewicht und Harzen, die sich als Bindemittel und Träger eignen, gehören Poly(vinylbutyral), Celluloseacetat, Poly(methylmethacrylat), Poly(vinylpyrrolidon), Ethylcellulose, Polystyrol, Poly(vinylchlorid), chlorierte Gummis, Polyisobutylen, Butadien-Styrolcopolymere, Vinylchlorid-Vinylacetatcopolymere, Copolymere von Vinylacetat und Vinylidenchlorid, Poly(vinylalkohol) und Polycarbonate.
- Photothermische Materialien können Entwicklungsmodifizierungsmittel enthalten, welche als die Empfindlichkeit erhöhende Verbindungen wirken, Sensibilisierungsfarbstoffe, Härtungsinittel, antistatisch wirksame Schichten, Plastifizierungsmittel und Gleitmittel, Beschichtungshilfsmittel, optische Aufheller, absorbierende Farbstoffe und Filterfarbstoffe, wie sie beispielsweise beschrieben werden in Research Disclosure, Dezember 1978, Nr 17643 und Research Disclosure, Juni 1978, Nr. 17029.
- Die auf thermischem Wege entwickelbaren Elemente sind solche mit einer Vielzahl von Trägern. Zu Beispielen von geeigneten Trägern gehören solche aus Poly(vinylacetal)film, Polystyrolfilm, Poly (ethylenterephthalat) film, Polycarbonatfilm und aus ähnlichen Filmen und harzartigen Materialien, wie auch Träger aus Glas, Papier, Metall und andere Träger, die den thermischen Entwicklungstemperaturen zu widerstehen vermögen.
- Die Schichten, einschließlich der Bildschichten, der die Adhäsion fördernden Schicht und die Überzugsschichten eines auf thermischem Wege entwickelbaren Elementes, wie beschrieben, können auf den Träger nach Beschichtungsverfahren aufgetragen werden, die auf dem photögraphischen Gebiet bekannt sind, wozu gehören eine Eintauchbeschichtung, die Beschichtung mittels eines Luftmessers, die Vorhangbeschichtung oder Extrusionsbeschichtung unter Verwendung von Beschichtungstrichtern. Falls erwünscht, können zwei oder mehrere Schichten gleichzeitig aufgetragen werden.
- In den beschriebenen photothermographischen Materialien sind spektral sensibilisierende Farbstoffe geeignet, um den Elementen und Zusammensetzungen eine zusätzliche Empfindlichkeit zu verleihen. Geeignete Sensibilisierungsfarbstoffe werden beispielsweise in den oben angegebenen Research Disclosure-Publikationen beschrieben.
- Ein photothermographisches Material weist vorzugsweise einen thermischen Stabilisator auf, um dazu beizutragen, das photothermographische Material vor der Exponierung und der Entwicklung zu stabilisieren. Ein solcher thermischer Stabilisator unterstützt die Verbesserung der Stabilität des photothermographischen Materials während der Aufbewahrung. Bevorzugte thermische Stabilisatoren sind (a) 2-Bromo-2-arylsulfonylacetamide, wie 2-Bromo-2-p-tolylsulfonylacetamid, (b) 2-(Tribromomethylsulfonyl)benzothiazol und (c) 6-substituierte 2,4-Bis(tribromomethyl)- s-triazine, wie das 6-Methyl- oder 6-Phenyl-2,4-bis(tribromomethyl)-s-triazin.
- Die auf thermischem Wege entwickelbaren Elemente werden im Falle von photothermographischen Silberhalogenidelementen mittels verschiedener Energie formen exponeirt. Zu solchen Energieformen gehören jene, denen gegenüber photosensitives Silberhalogenid empfindlich ist und hierzu gehören die ultravioletten, sichtbaren und infraroten Bereiche des elektromagnetischen Spektrums, wie auch Elektronenstrahlen und Beta-Strahlung, Gamma-Strahlung, Röntgenstrahlung, Alphateilchen, Neutronenstrahlung und andere Formen von korpuskularer wellenartiger Strahlungsenergie in entweder nicht-kohärenten (Random-Phase) oder kohärenten (In-Phasen) Formen, wie sie durch Laser erzeugt werden. Die Exponierungen sind monochromatisch, orthochromatisch oder panchromatisch, je nach der spektralen Sensibilsierung des photographischen Silberhalogenides. Die bildweise Exponierung erfolgt vorzugsweise eine solche Zeitspanne lang und mit einer solchen Intensität, die ausreichend sind, um ein latentes entwickelbares Bild in dem photothermographischen Material zu erzeugen. Nach der bildweisen Exponierung des photothermographischen Materials wird das erhaltene latente Bild entwickelt, im wesentlichen durch eine Gesamt-Erhitzung des Elementes auf mäßig erhöhte Temperaturen. Diese Gesamt-Erhitzung schließt im wesentlichen die Erhitzung des Elementes auf eine Temperatur im Bereich von etwa 90ºC bis 150ºC ein, bis ein entwickeltes Bild erhalten worden ist, wie beispielsweise innerhalb von etwa 0,5 bis etwa 60 Sekunden. Durch Erhöhung oder Verminderung der thermischen Entwicklungstemperatur ist eine kürzere oder längere Entwicklungsdauer geeignet, je nach dem gewünschten Bild, den speziellen Komponenten in dem photothermographischen Material und den Erhitzungsmitteln. Eine bevorzugte Entwicklungstemperatur liegt innerhalb des Bereiches von etwa 100ºC bis etwa 130ºC.
- In dem Falle von thermographischen Elementen können die thermische Energiequelle und die Mittel für die Erzeugung der Bilder beliebige Lieferanten für eine bildweise thermische Exponierung sein und aus Mitteln bestehen, die auf dem thermographischen Gebiet bekannt sind. Die Mittel zur bildweisen Erhitzung können beispielsweise bestehen aus einem Infrarot-Aufheizmittel, einem Laser, Mikrowellen-Erhitzungsmitteln und dergleichen.
- Die Erhitzungsmittel, die auf dem photothermographischen Gebiet und dem thermographischen Gebiet bekannt sind, können zur Herbeiführung des gewünschten thermischen Entwicklungstemperaturbereiches für die Entwicklung des photothermographischen Elementes verwendet werden. Die Aufheizmittel können beispielsweise bestehen aus einer einfachen aufgeheizten Platte, einem Eisen, einer Walze, einer aufgeheizten Trommel, Mikrowellen-Erhitzungsmitteln oder aufgeheizter Luft.
- Die thermische Entwicklung erfolgt vorzugsweise unter normalen Bedingungen von Druck und Feuchtigkeit. Bedingungen, die außerhalb eines normalen atmosphärischen Druckes und einer normalen Feuchtigkeit liegen, können, falls erwünscht, auch angewandt werden.
- Die Komponenten des auf thermischem Wege entwickelbaren Elementes können sich in jeder beliebigen Position in dem Element befinden, das das erwünschte Bild liefert. Falls erwünscht, können ein oder mehrere der Komponenten des photothermographischen Elementes in einer oder mehreren Schichten des Elementes vorhanden sein. Beispielsweise ist es in einigen Fällen wünschenswert, einen bestimmten Prozentsatz des Reduktionsmittels, des Tonungsmittels, des Stabilisator- Vorläufers und/oder anderer Zusätze in der die Adhäsion fördernden Schicht unterzubringen und/oder in der Überzugsschicht des photothermographischen Elementes.
- Es ist notwendig, daß die Komponenten der bilderzeugenden Kombination sich "in reaktionsfähiger Verbindung" miteinander befinden, um das erwünschte Bild zu erzeugen. Der Ausdruck "in reaktionsfähiger Verbindung" bedeutet hier, daß sich in dem photothermographischen Element das photosensitive Silberhalogenid und die bilderzeugende Kombination in einer Position bezüglich zueinander befinden, die die gewünschte Entwicklung und die Erzeugung eines geeigneten Bildes ermöglicht.
- Zu thermographischen Elementen, auf denen die die Adhäsion fördernde Schicht und die Überzugsschicht geeignet sind, gehören beliebige Elemente, die mit dem Polymer verträglich sind, das die die Adhäsion fördernde Schicht aufweist. Zu solchen photothermographischen Elementen gehören jene, die beispielsweise beschrieben werden in den U.S.-Patentschriften 2 663 657; 2 910 377; 3 028 254; 3 031 320 und 3 080 254. Ein Beispiel für ein geeignetes thermographisches Element umfaßt einen Träger, auf dem sich eine thermographische Bildschicht befindet, auf der sich eine die Adhäsion fördernde Schicht befindet, wie beschrieben, und hierauf eine Überzugsschicht, ebenfalls wie beschrieben.
- Der Ausdruck wasserlöslich bedeutet hier, daß sich mindestens 2 g der Verbindung oder Zusammensetzung in einem Liter Wasser innerhalb von 2 Stunden bei 90ºC lösen.
- Die folgenden Beispiele sollen die Erfindung weiter veranschaulichen.
- Dieses Beispiel veranschaulicht die Verwendung von Poly(2-propennitril-co-1,1-dichloroethen-co-2-propenoesäure), hier gekennzeichnet als Terpolymer Nr. 1, in einer die Adhäsion fördernden Polymerschicht in einem photothermographischen Element zwischen einer hydrophoben Bildschicht und einer Überzugsschicht.
- Ein photothermographisches Element wurde hergestellt, das die folgende photothermographische Schicht auf einem blauen Poly(ethylenterephthalat) filmträger aufwies: I. Photothermographische Emulsionsschicht (hier gekennzeichnet als die E-Schicht): Photothermographische Schicht mg/dm² Silberbehenat (Ag) HgBr&sub2; (Hg) AgBr (ag) NaI Succinimid-Toner/Entwicklungsmodifizierungsmittel Oberflächenaktives Mittel (SF-96, bei dem es sich um eine Polysiloxan-Flüssigkeit handelt, die erhältlich ist und ein Warenzeichen ist der Firma General Electric Co., U.S.A.) Monobromo-Stabilisator: Naphthyltriazin-Stabilisator: Poly (vinylbutyral) bindemittel (Butvar B-76, eine Handelsbezeichnung der Firma Monsanto Co., U.S.A.) Sensibilisierungsfarbstoff Benzolsulfonamidophenol-Entwicklungsmittel: MIBK-Lösungsmittel
- Die folgenden Schichten wurden auf die E-Schicht aufgetragen, wie es in dem folgenden Teil A und B beschrieben wird: II. Überzugsschicht #1 - Gelatine: Photographische Gelatine Mattierungsmittel (Polymethylmethacrylatkügelchen mit einem mittleren Durchmesser von 3 Mikrometern) Formaldehyd Oberflächenaktives Mittel (Surfactant 10G, wobei es sich um p-Isononylphenoxypolyglycidol handelt, ein Warenzeichen und erhältlich von der Firma Olin Corp., U.S.A.) III. Überzugsschicht #2 - Poly(kieselsäure) (PSA)/Polyvinylalkohol) (PVA): (Verhältnis Si(OH)4 = 1,25)/PVA 8 % PVA, Elvanol 52/22 Destilliertes Wasser PSA-Lösung insgesamt
- Es wurde eine wäßrige Lösung von 8 Gew.-% Poly(vinylalkohol) in Wasser hergestellt. (8 Gew.-% ELVANOL 52/22 in Wasser). ELVANQL 52/22 ist ein Warenzeichen der Firma E.I. duPont deNemours, U.S.A.)
- Hydrolyse von Tetraethylorthosilicat (TEOS) unter Erzeugung von Poly(kieselsäure) (PSA)
- Die folgenden Komponenten wurden in der folgenden Reihenfolge miteinander vermischt:
- Destilliertes Wasser
- 1N-p-Toluolsulfonsäure
- Ethylalkohol
- TEOS
- Eine klare Lösung von PSA wurde in weniger als 10 Minuten erhalten.
- Adhäsionsfördernde Schicht #1:
- Terpolymer #1 (30 % Latex) 1 Teil
- Destilliertes Wasser 9 Teile
- Oberflächenaktives Mittel (Surfactant 10G) 1 Tropfen
- (Terpolymer #1 mit PVA)
- Terpolymer #1 Latex (30 % Feststoffe) 10 g
- 2 % PVA-Lösung 90 g
- Olin 10G Surfactant 1 Tropfen
- PVA = Poly(vinylalkohol), ELVANOL 52/22
- Es wurden photothermographische Filme hergestellt durch Herstellung der Strukturen A (Vergleich) und B (Erfindung): (Vergleich) (Erfindung) PSA/PVA (Überzugsschicht #2) E-Schicht Filmträger PSA/PVA (Überzugsschicht #2) Adhäsionsschicht #1
- Die die Adhäsion fördernde Schicht wurde im Falle B mit der Hand aufgetragen bei einer Naßbeschichtung auf die E-Schicht von 50 Mikrometern, worauf nach der Trocknung die PSA/PVA- Zusammensetzung aufgetragen wurde. Die Beschichtungen A und B wurden bezüglich der Überzugsschicht-Adhäsion getestet unter Verwendung eines transparenten Bandes vom Typ 3M-Scotch 600.
- Die Überzugsschicht wurde leicht von der Struktur A abgestreift, jedoch nicht von der Struktur B und zwar selbst dann nicht, wenn die Überzugsschicht vor Durchführung des Bandtestes stark eingeritzt wurde.
- Bandtest-Verfahren: (a) Auf die Bescihchtung wurde ein ungefähr 2 inch großer Streifen des Bandes aufgebracht und glatt gestrichen, um eine gleichförmige Adhäsion bezüglich der Testoberfläche zu gewährleisten; (b) das Band wurde abgerissen und die Oberfläche wurde untersucht. Ein drastischerer Test bezüglich der Überzugs-Adhäsion liegt dann vor, wenn die Überzugsschicht vor dem Aufbringen des Bandes stark eingeritzt wurde.
- Es wurde ein photothermographischer Film, wie in Beispiel 1 beschrieben, hergestellt, mit einer E-Schicht (1), worauf der Film entweder mit Gelatine (II) oder einer PSA/PVA- Überzugsschicht (III) überschichtet wurde. Ausgewählte Bescichtungen enthielten die Zusammensetzungen und die erhaltenen Adhäsionstest-Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle zusammengestellt: Adhäsion Adhäsionsfördernde Schicht Überzugsschicht Band Band & Einkerbung keine (Vergleich) Terpolymer Gelatine
- *Fehlverhalten, wahrscheinlich aufgrund der Unverträglichkeit von Gelatine und dem Poly(vinylalkohol) (PVA)
- Band A - 3M, Scotch Tape #810 (Warenzeichen der Firma 3M Co., U.S.A.)
- Band B - 3M, transparentes Band #600
- + = passieren des Tests
- - = Fehlverhalten
- Die in der obigen Tabelle zusammengestellten Ergebnisse stellen qualitative Beobachtungen dar. Diese Proben wurden ebenfalls einem standardisierten quantitativen Adhäsionstest unterworfen. Die erhaltenen Ergebnisse sind in der folgenden Tabelle zusammengestellt: Adhäsion-Abstreiftest Adhäsionsfördernde Schicht Überzugsschicht Abstreifkraft keine (Vergleich) Terpolymer Gelatine
- Die obigen Beispiele veranschaulichen eine überraschende, wesentliche Erhöhung bezüglich der Adhäsion von hydrophilen Überzügen, wie zum Beispiel Gelatine oder PVA/PSA gegenüber einer hydrophoben, insbesondere einer photothermographischen E-Schicht, wie sie beschrieben wurde.
Claims (6)
1. Thermisch verarbeitbares Abbildungselement mit einem Träger,
auf dem sich eine thermisch verarbeitbare hydrophobe
Bildschicht befindet und auf der Seite der Bildschicht, vom
Träger abgewandt, eine Deckschicht mit Poly(kieselsäure) und
einem hydrophilen Monomer oder Polymer, wobei
das Element eine polymere, die Adhäsion fördernde Schicht
zwischen der Deckschicht und der Abbildungsschicht aufweist.
2. Thermisch verarbeitbares Abbildungselement nach Anspruch 1,
bei dem es sich um ein photothermographisches
Silberhalogenidelement handelt.
3. Thermisch verarbeitbares Abbildungselement nach Anspruch 1
und 2, in dem die polymere, die Adhäsion fördernde Schicht
aufweist Poly(2-propennitril-co-1,1-dichloroethen-co-2-
propenoesäure) oder Poly(2-propenoesäuremethylester-co-o
1,1-dichloroethen-co-itaconsäure).
4. Thermisch verarbeitbares Abbildungselement nach einem der
Ansprüche 1 bis 3, in dem die die Adhäsion fördernde
Schicht ferner Poly(vinylalkohol) enthält.
5. Thermisch verarbeitbares Abbildungselement nach einem der
Ansprüche 1 bis 4, in dem die Abbildungsschicht ein
Poly(vinylbutyral)-Bindemittel enthält.
6. Thermisch verarbeitbares Abbildungselement nach einem der
Ansprüche 1 bis 5, worin
die Abbildungsschicht eine hydrophobe photothermographische
Abbildungsschicht umfaßt mit einem
Poly(vinylbutyral)-Bindemittel, photographischem Silberhalogenid und einer ein
Bild erzeugenden Oxidations-Reduktions-Kombination mit einem
organischen Silbersalz als Oxidationsmittel und einem
phenolischen Reduktionsmittel; und in dem direkt an der
Abbildungsschicht die die Adhäsion fördernde Schicht Poly(-2-
propennitril-co-1,1-dichloroethen-co-propenoesäure) umfaßt;
und wobei direkt an der die Adhäsion fördernden Schicht die
Deckschicht 50 bis 90 % Poly(kieselsäure) und 1 bis 50 %
Poly(vinylalkohol) umfaßt.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US07/342,154 US4942115A (en) | 1989-04-24 | 1989-04-24 | Thermally processable imaging element comprising an overcoat layer |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE69020043D1 DE69020043D1 (de) | 1995-07-20 |
DE69020043T2 true DE69020043T2 (de) | 1996-02-01 |
Family
ID=23340592
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE69020043T Expired - Fee Related DE69020043T2 (de) | 1989-04-24 | 1990-04-23 | Thermisch verarbeitbares Abbildungselement mit einer Überzugsschicht. |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US4942115A (de) |
EP (1) | EP0395164B1 (de) |
JP (1) | JPH02296238A (de) |
AT (1) | ATE123882T1 (de) |
CA (1) | CA2013315A1 (de) |
DE (1) | DE69020043T2 (de) |
Families Citing this family (18)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE69307582T2 (de) * | 1992-04-30 | 1997-07-03 | Canon Kk | Warm entwickelbares photoempfindliches Material |
US5424182A (en) * | 1993-01-15 | 1995-06-13 | Labelon Corporation | Aqueous coating composition for thermal imaging film |
US5264334A (en) * | 1993-02-22 | 1993-11-23 | Eastman Kodak Company | Thermally processable imaging element comprising a barrier layer |
US5294526A (en) * | 1993-02-22 | 1994-03-15 | Eastman Kodak Company | Method for the manufacture of a thermally processable imaging element |
US5310640A (en) * | 1993-06-02 | 1994-05-10 | Eastman Kodak Company | Thermally processable imaging element comprising an electroconductive layer and a backing layer. |
US5418120A (en) * | 1994-03-16 | 1995-05-23 | Eastman Kodak Company | Thermally processable imaging element including an adhesive interlayer comprising a polyalkoxysilane |
US5393649A (en) * | 1994-03-16 | 1995-02-28 | Eastman Kodak Company | Thermally processable imaging element including an adhesive interlayer comprising a polymer having pyrrolidone functionality |
US5422234A (en) * | 1994-03-16 | 1995-06-06 | Eastman Kodak Company | Thermally processable imaging element including an adhesive interlayer comprising a polymer having epoxy functionality |
DE69522598T2 (de) * | 1994-04-18 | 2002-07-11 | Eastman Kodak Co., Rochester | Thermisch verarbeitbares Abbildungselement mit einer elektroleitfähigen Oberflächenschicht |
US6287754B1 (en) | 1996-03-18 | 2001-09-11 | Eastman Kodak Company | Thermally processable imaging element comprising an electroconductive agent and a triboelectric charge control agent |
US5783380A (en) * | 1996-09-24 | 1998-07-21 | Eastman Kodak Company | Thermally processable imaging element |
US5891610A (en) * | 1996-11-22 | 1999-04-06 | Eastman Kodak Company | Thermally processable imaging element with improved adhesion of the overcoat layer |
US6033839A (en) * | 1998-05-20 | 2000-03-07 | Eastman Kodak Company | Polymeric matte particles |
JP3965861B2 (ja) * | 2000-04-06 | 2007-08-29 | コニカミノルタホールディングス株式会社 | 熱現像感光材料 |
US6352819B1 (en) | 2000-12-01 | 2002-03-05 | Eastman Kodak Company | High contrast thermally-developable imaging materials containing barrier layer |
US6350561B1 (en) | 2000-12-01 | 2002-02-26 | Eastman Kodak Company | Thermally developable imaging materials containing surface barrier layer |
US6764813B2 (en) | 2002-05-17 | 2004-07-20 | Eastman Kodak Company | Lamination of emissions prevention layer in photothermographic materials |
US7033743B2 (en) * | 2002-12-19 | 2006-04-25 | Agfa Gevaert | Barrier layers for use in substantially light-insensitive thermographic recording materials |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3080254A (en) * | 1959-10-26 | 1963-03-05 | Minnesota Mining & Mfg | Heat-sensitive copying-paper |
US3143421A (en) * | 1960-03-17 | 1964-08-04 | Eastman Kodak Co | Adhering photographic subbing layers to polyester film |
DE1572203C3 (de) * | 1964-04-27 | 1978-03-09 | Minnesota Mining And Manufacturing Co., Saint Paul, Minn. (V.St.A.) | Verfahren zur Herstellung eines wärmeentwickelbaren Blattmaterials mit einem strahlungsempfindlichen Überzug |
US3437484A (en) * | 1965-07-26 | 1969-04-08 | Eastman Kodak Co | Antistatic film compositions and elements |
JPS5411694B2 (de) * | 1972-05-09 | 1979-05-17 | ||
US3801321A (en) * | 1972-07-18 | 1974-04-02 | Eastman Kodak Co | Photothermographic element,composition and process |
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US4741992A (en) * | 1986-09-22 | 1988-05-03 | Eastman Kodak Company | Thermally processable element comprising an overcoat layer containing poly(silicic acid) |
-
1989
- 1989-04-24 US US07/342,154 patent/US4942115A/en not_active Expired - Lifetime
-
1990
- 1990-03-28 CA CA002013315A patent/CA2013315A1/en not_active Abandoned
- 1990-04-23 EP EP90201017A patent/EP0395164B1/de not_active Expired - Lifetime
- 1990-04-23 DE DE69020043T patent/DE69020043T2/de not_active Expired - Fee Related
- 1990-04-23 JP JP2105518A patent/JPH02296238A/ja active Pending
- 1990-04-23 AT AT90201017T patent/ATE123882T1/de not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0395164A1 (de) | 1990-10-31 |
DE69020043D1 (de) | 1995-07-20 |
ATE123882T1 (de) | 1995-06-15 |
CA2013315A1 (en) | 1990-10-24 |
EP0395164B1 (de) | 1995-06-14 |
JPH02296238A (ja) | 1990-12-06 |
US4942115A (en) | 1990-07-17 |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
8364 | No opposition during term of opposition | ||
8339 | Ceased/non-payment of the annual fee |