DE68905448T2 - Siliziumpulver und Verfahren zu seiner Herstellung. - Google Patents

Siliziumpulver und Verfahren zu seiner Herstellung.

Info

Publication number
DE68905448T2
DE68905448T2 DE89312694T DE68905448T DE68905448T2 DE 68905448 T2 DE68905448 T2 DE 68905448T2 DE 89312694 T DE89312694 T DE 89312694T DE 68905448 T DE68905448 T DE 68905448T DE 68905448 T2 DE68905448 T2 DE 68905448T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
silicon
inert gas
silicon powder
atomizer
powder
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE89312694T
Other languages
English (en)
Other versions
DE68905448D1 (de
Inventor
Karl Forwald
Gunnar Schuessler
Oyvind Sorli
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Elkem ASA
Original Assignee
Elkem ASA
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Elkem ASA filed Critical Elkem ASA
Application granted granted Critical
Publication of DE68905448D1 publication Critical patent/DE68905448D1/de
Publication of DE68905448T2 publication Critical patent/DE68905448T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • C01B33/021Preparation
    • C01B33/023Preparation by reduction of silica or free silica-containing material
    • C01B33/025Preparation by reduction of silica or free silica-containing material with carbon or a solid carbonaceous material, i.e. carbo-thermal process
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C01INORGANIC CHEMISTRY
    • C01BNON-METALLIC ELEMENTS; COMPOUNDS THEREOF; METALLOIDS OR COMPOUNDS THEREOF NOT COVERED BY SUBCLASS C01C
    • C01B33/00Silicon; Compounds thereof
    • C01B33/02Silicon
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C07ORGANIC CHEMISTRY
    • C07FACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F7/00Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
    • C07F7/02Silicon compounds
    • C07F7/08Compounds having one or more C—Si linkages
    • C07F7/12Organo silicon halides
    • C07F7/16Preparation thereof from silicon and halogenated hydrocarbons direct synthesis

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Silicon Compounds (AREA)
  • Manufacture Of Metal Powder And Suspensions Thereof (AREA)
  • Treatment Of Steel In Its Molten State (AREA)
  • Processing Of Solid Wastes (AREA)
  • Manufacture And Refinement Of Metals (AREA)
  • Powder Metallurgy (AREA)
  • Medicinal Preparation (AREA)

Description

  • Die vorliegende Erfindung betrifft ein neues Siliciumpulver-Produkt und ein kontinuierliches Verfahren zu dessen Herstellung.
  • Silicium wird hauptsächlich durch carbothermische Reduktion in elektrischen Öfen gewonnen. Das den Öfen entnommene geschmolzene Silicium wird üblicherweise in Form von ziemlich großen Blöcken vergossen, beispielsweise durch Gießen in Gußeisenformen. Für eine Anzahl unterschiedlicher Verwendungen setzt man Silicium in Pulverform ein, wozu diese Siliciumblöcke oder -stücke mechanisch gebrochen und dann auf eine vorgewählte Partikelgröße mit der gewünschten chemischen Zusammensetzung kleingemahlen werden. Dieses Verfahren weist jedoch eine Reihe von Nachteilen und Beeinträchtigungen auf. So zeigen die dem geschmolzenen Silicium zugesetzten Legierungselemente und die in dem geschmolzenen Silicium enthaltenen Verunreinigungen eine hohe Tendenz, sich während des Blockgießens nach unten hin abzuscheiden, wobei die Abscheidungen wegen der beim Blockguß von Silicium herrschenden langsamen Abkühlungsgeschwindigkeit in unvermeidbar großen Korngrößen in dem erstarrten Silicium auftreten. Während des mechanischen Zerkleinerns und Mahlens des in Blockform erstarrten Siliciums wird dann wegen der Segregation und der großen primären Korngröße ein nicht homogenes Produkt-Pulver erhalten, was für eine Reihe von Verwendungen zu Nachteilen führt.
  • Beim Blockguß von Silicium entstehen auch Oxide, Carbide, Nitride und Carbonitride. Diese Verbindungen sind, selbst in geringfügigen Mengen, unerwünscht. Auch verunreinigen die Zerkleinerungs- und Mahlvorgänge wegen des Abriebs der Zerkleinerungs- und Mahlvorrichtung das Silicium mit Eisen. Außerdem oxidieren die während des Brechens und Mahlens des Blocksiliciums entstandenen Bruchflächen der Siliciumpartikel, so daß jedes einzelne Teilchen des erhaltenen Pulvers an seiner Oberfläche eine unerwünschte Oxidschicht aufweist. Schließlich führen die Zerkleinerungs- und Mahlvorgänge zur Umweltbeeinträchtigung in Form von Lärm, Staub und Wärmebelastung.
  • Daher entstand das Erfordernis, ein Verfahren zur kontinuierlichen Erzeugung von Siliciumpulver direkt aus der dem elektrischen Schmelzofen entnommenen Siliciumschmelze zur Verfügung zu stellen.
  • Nach "Powder Metallurgy", Band 31, Nr. 4, 1988, und EP-A-120 506 ist eine Vielzahl von Verfahren zur Herstellung von Metallpulvern im allgemeinen bekannt, so zum Beispiel die Zerstäubung mittels eines Inertgases, die Zerstäubung vermittels einer Flüssigkeit, die Zerstäubung an einer schnell rotierenden Scheibe usw. Diese bekannten Verfahren zur Darstellung von Metallpulvern stellen jedoch Satzverfahren dar, bei denen immer nur eine bestimmte Menge des Metalls geschmolzen und zerstäubt wird, weswegen diese Verfahren zur Unwirtschaftlichkeit neigen. Diese bekannten Methoden lassen keine kontinuierliche Herstellung von Siliciumpulver direkt aus der Schmelze des Schmelzofens zu, ohne über den Weg eines üblichen Gießprozesses und eines Umschmelzens zu laufen. Nach Wissen der Anmelderin der vorliegenden Erfindung ist kein Verfahren zur Gaszerstäubung von Silicium bekannt.
  • Es ist eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Siliciumpulver, das die oben erwähnten Nachteile eines aus Blocksilicium gewonnenen Siliciumpulvers nicht aufweist, und ein Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Siliciumpulver zur Verfügung zu stellen.
  • Gemäß eines ersten Aspekts betrifft die vorliegende Erfindung ein Siliciumpulver, das sich dadurch auszeichnet, daß es in einem Inertgasstrom durch Gaszerstäubung von geschmolzenem Silicium erhalten worden ist und eine Partikelgröße zwischen 0,1 und 1000 um, eine spezifische Oberfläche zwischen 0,001 und 1 m²/g und folgende chemische Zusammensetzung in Gew. aufweist:
  • 0,1 - 1 % Eisen
  • 0,01 - 1 % Aluminium
  • 0 - 8 % Kupfer,
  • 0 - 1 % Calcium,
  • 0 - 1 % Zink,
  • 0 - 1 % Zinn,
  • 0 - 0,5 % Bor,
  • 0 - 0,5 % Phosphor,
  • 0 - 0,5 % Natrium,
  • 0 - 0,5 % Lithium,
  • 0 - 0,5 % Kalium,
  • 0 - 0,5 % Magnesium,
  • 0 - 0,5 % Strontium,
  • 0 - 0,5 % Barium und
  • 0 - 0,5 % Beryllium,
  • wobei der Rest aus Silicium und aus weniger als 0,3 % an Verunreinigungen wie Ti, V, Cr, Mo, W und Zr besteht.
  • Nach einer bevorzugten Ausführungsform hat das Siliciumpulver folgende Zusammensetzung in Gew.
  • 0,25 - 0,55 % Eisen, 0.05 - 0.45 % Aluminium, 0,005 - 0,20 % Calcium, wobei der Rest aus Silicium und den üblichen Verunreinigungen besteht.
  • Gemäß einer anderen bevorzugten Ausführungsform hat das Siliciumpulver folgende Zusammensetzung in Gew.%):
  • 0,25 - 0,55 % Eisen, 0,05 - 0,45 % Aluminium, 0,005 - 0,20 % Calcium, 1 - 6 % Kupfer, wobei der Rest aus Silicium und den üblichen Verunreinigungen besteht.
  • Das Siliciumpulver gemäß der vorliegenden Erfindung ist insbesondere zur Verwendung bei der Herstellung von Organosilanen durch Hinsetzung von Siliciumpulver mit einem Alkyl- oder Arylchlorid und für die Herstellung von Chlorsilanen geeignet.
  • Bei der Herstellung von Organosilanen wird Siliciumpulver mit einem Alkyl- oder Arylhalogenid in Gegenwart eines Kupferkatalysators und von Promotoren wie Zink oder Zinn umgesetzt. Es wurde gefunden, daß sich die Produktionsgeschwindigkeit bei der Silanherstellung durch Verwendung eines Siliciumpulvers gemäß der vorliegenden Erfindung beträchtlich steigern läßt. Ein besonderer Vorteil bei der Verwendung von Siliciumpulver gemäß der vorliegenden Erfindung liegt bei der Herstellung von Organosilanen darin, daß der Kupferkatalysator und die Promotoren wie Zink und Zinn in dem Siliciumpulver selbst enthalten sein können.
  • Das Siliciumpulver gemäß der vorliegenden Erfindung kann ebenso vorteilhaft für keramische und feuerfeste Materialien und für die Legierung mit Aluminium durch Injektion des Siliciumpulvers in die Aluminiumschmelze Verwendung finden.
  • Entsprechend eines anderen Aspekts bezieht sich die vorliegende Erfindung auf ein Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Siliciumpulver; dieses Verfahren zeichnet sich durch folgende Schritte aus:
  • a) kontinuierliche Erzeugung von Silicium in z.B. einem elektrischen Schmelzofen;
  • b) Raffinieren und Legieren des geschmolzenen Siliciums z.B. in einem metallischen Behandlungsgefäß;
  • c) wahlweise kontinuierliche Überführung des geschmolzenen Siliciums z.B. aus dem metallischen Behandlungsgefäß in einen Warmhalteofen;
  • d) kontinuierliches Ablassen des geschmolzenen Siliciums aus dem Warmhalteofen in einen geschlossenen Zerstäuber, in welchem das geschmolzene Silicium mittels eines z.B. aus einem Druckgefäß oder von einer Kompressoreinheit zugeführten Inertgases zerstäubt wird;
  • e) kontinuierliche Abfuhr des Pulvers an zerstäubtem Silicium und des Inertgases aus dem Zerstäuber;
  • f) Abtrennen voneinander des zerstäubten Siliciumpulvers und des Inertgases in einem Feststoff/Gas-Separator;
  • g) wahlweise Sieben des Siliciumpulvers in Fraktionen von vorgewählten Partikelgrößen;
  • h) wahlweise Überführung der verschiedenen Partikelgröße-Fraktionen in geschlossene Vorratsbehälter;
  • i) Filtrieren des aus Schritt f) erhaltenen Inertgases zur Entfernung etwaiger in dem Gas noch enthaltener Feststoffpartikeln; und
  • j) Kühlen und Komprimieren des aus Schritt i) erhaltenen Inertgases und Rückführung des komprimierten Inertgases zu dem Druckgefäß oder unmittelbar in den Zerstäuber.
  • Gemäß einer bevorzugten Ausführungsform des Verfahrens werden chemische Verbindungen zur Modifizierung der Oberfläche der Partikel des zerstäubten Siliciums am Auslaßende des Zerstäubers, zwischen dem Zerstäuber und dem Feststoff/Gas-Separator, oder in den Feststoff/Gas- Separator injiziert.
  • Mit dem Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung wird das Silicium ab der Einleitung des geschmolzenen Siliciums bei Schritt d) in den Zerstäuber bis zur erfolgten Einfüllung des gesiebten Siliciumpulvers in die Vorratsbehälter in einem geschlossenen System und in einer Inertgasatmosphäre behandelt, so daß die Möglichkeit, Verunreinigungen in das Siliciumpulver hineinzutragen, wirksam ausgeschaltet ist.
  • Das Verfahren gemäß der vorliegenden Erfindung läßt sich in der praktischen Anwendung auf verschiedene Weise ausführen, wozu einige Ausgestaltungen nachfolgend anhand von Beispielen und mit Bezug auf die beigefügte Zeichnung, in der Einzelheiten des Verfahrensprinzips schematisch in einem Fließdiagramm wiedergegeben sind, erläutert werden.
  • Die Figur zeigt einen elektrischen Schmelzofen 1 für die carbothermische Herstellung von Silicium aus einem Siliciumdioxid- Rohstoff und kohlenstoffhaltigem Reduktionsmaterial. Das geschmolzene Silicium wird kontinuierlich dem Schmelzofen 1 bei 2 entnommen und in ein Behandlungsgefäß 3 überführt, in dem das Silicium in konventioneller Weise raffiniert und legiert wird. Danach wird das behandelte geschmolzene Silicium in einen Warmhalteofen 4 überführt. Aus dem Warmhalteofen 4 wird eine kontinuierliche und konstante oder im wesentlichen konstante Menge an Silicium in den Zerstäuber 5 geleitet.
  • Der Zerstäuber 5 umfaßt einen geschlossenen Tank 6 in dessen oberem Teil sich eine Zerstäubungseinheit 7 mit einer Mehrzahl von Düsen zur Einleitung des Inertgases befindet, welches das kontinuierlich zufließende Silicium in kleine Schmelztröpfchen zerlegt, die während des freien Falls durch den Tank 6 erstarren. In dem Zerstäuber 5 erstarrt das Silicium innerhalb weniger Sekunden. Dies liefert sehr homogene Siliciumpartikel ohne Entmischung und, wegen der Inertgasatmosphäre, ohne Ausbildung von Oxiden, Carbiden, Nitriden oder Carbonitriden in den Partikeln, so daß ein sauberes und homogenes Pulver erhalten wird.
  • Das Siliciumpulver wird im Boden 8 des Tanks 6 gesammelt. Von dem Boden 8 des Tanks 6 werden das Siliciumpulver und das Inertgas in eine Vorrichtung 9 zur Trennung des Pulvers und des Inertgases voneinander zugeführt. Die Vorrichtung 9 ist vorzugsweise ein Zyklon oder Drallabscheider. Von dem Boden 10 des Zyklons 9 wird das Siliciumpulver kontinuierlich einer geschlossenen Siebeinheit 11 zum Sieben des Pulvers in unterschiedliche Korngröße-Fraktionen zugeführt. Die unterschiedlichen Korngröße-Fraktionen des Siliciumpulvers werden anschließend in einem geschlossenen System in Vorratsbehälter 12 für das Siliciumpulver transportiert.
  • Wie sich aus dem oben Erläuterten ergibt, wird das Siliciumpulver ab seiner Entstehung im Zerstäuber 5 bis hin zu seiner fertigen Einfüllung in die Vorratsbehälter 12 in einem geschlossenen System in einer Inertgasatmosphäre befördert. Daher können Oberflächenoxidationen an den einzelnen Partikeln nicht stattfinden.
  • Aus der Vorrichtung 9 zur Trennung des Siliciumpulvers von dem Inertgas wird das Inertgas zu einem Filter 13, vorzugsweise ein Sackfilter, geleitet, wo sämtliche in dem Gas noch verbliebenen Siliciumpartikel entfernt und zu einem der Vorratsbehälter 12 abtransportiert werden. Das gereinigte Inertgas wird dann zu einem Kühler 14 zur Kühlung des Gases gepumpt, bevor es in einem Kompressor 15 komprimiert und von dort zu einem Drucktank 16 für das Inertgas geleitet wird. Von dem Drucktank 16 wird das Inertgas zu den Düsen in dem Zerstäuber 7 rückzirkuliert.
  • Bevor der Zerstäubungsprozess begonnen wird, ist es erforderlich, sämtliches sauerstoffhaltiges Gas aus dem geschlossenen System zu entfernen. Dafür dienen ein zweiter Inertgas-Drucktank 17 und ein hinter dem Filter 13 angeordnetes (nicht gezeigtes) Auslaßventil für das Auslassen des für die vor dem Beginn des Zerstäübungsprozesses erfolgende Entfernung der sauerstoffhaltigen Gase benutzten Gases. Der Drucktank 17 dient auch zur Versorgung mit zusätzlichen Mengen an Inertgas zum Ausgleich von Inertgasverlusten, welche während des Zerstäübungsvorganges und auf dem Weg zur Siebeinheit bis hin zu den Vorratsbehältern auftreten können. Diese Verluste sind jedoch sehr gering und betragen normalerweise weniger als 1 der in den Zerstäuber 7 eingeblasenen Gasmenge.
  • Zwischen dem Boden 8 des Zerstäubertanks 6 und der Vorrichtung 9 zum Trennen des Siliciumpulvers und des Inertgases voneinander ist vorzugsweise eine Vorrichtung 18 für die Zugabe von Verbindungen zur Modifizierung der Oberfläche der Siliciumpulver-Teilchen vorgesehen.
  • Um die Menge des den Zerstäuberdüsen zuzuführenden Inertgases in Relation zu der Menge des dem Zerstäuber 5 zugeführten geschmolzenen Siliciums zu regulieren, dient eine (nicht gezeigte) Regeleinheit für die automatische Steuerung des Gasflußes.
  • Die folgenden Beispiele, die die Erfindung nicht einschränken sollen, illustrieren die sich für die Herstellung von Organosilanen durch Reaktion von Silicium mit Methylchlorid bei Verwendung von Siliciumpulver gemäß der vorliegenden Erfindung ergebenden Vorteile.
  • Beispiel 1
  • In einem Rührbettreaktor eines Durchmessers von 30 mm und ausgerüstet mit einem Spiralrührer wurden die folgenden Versuche ausgeführt.
  • Bei allen Versuchen wurden dieselben Mengen an Silicium bzw. an mit Kupfer legiertem Silicium verwendet. Die Partikelgröße des Siliciums lag zwischen 70 und 160 um. Das Methylchlorid wurde mit einem Druck von 2 bar dem Boden des Reaktors zugeführt. Die Menge des zugeführten Methylchlorids wurde konstant gehalten und betrug bei allen Versuchen etwa 1,5 l/h bei 2 bar. Nach Vorerhitzung und Einleitung der Reaktion wurde eine stationäre Versuchsphase oder ein stetiger Zustand bei 300ºC eingestellt. Unter diesen Bedingungen wurde die per Zeiteinheit erhaltene Menge an Silan gemessen. Die angegebenen Werte stellen Mittelwerte aus vier Versuchen dar, ausgeführt unter den konstanten Bedingungen: 2 bar, 1,5 l/h Methylchlorid und 300ºC. Die dem Reaktor zugeführte Kontaktmasse enthielt 40 g Silicium, 3,2 g Kupferkatalysator und 0,05 g ZnO. Die Masse wurde vor ihrer Zugabe in den Reaktor homogenisiert.
  • Die Versuche A und B wurden mit einem auf konventionellem Wege durch Zerkleinern und Mahlen erhaltenen Siliciumpulver ausgeführt. Für Versuch C diente ein gemäß der vorliegenden Erfindung erzeugtes Siliciumpulver.
  • Das für die Versuche A, B und C jeweils verwendete Silicium enthielt folgende Metallkomponenten:
  • Bei den drei Versuchsreihen wurden folgende Bildungsraten für die Silane erhalten:
  • Versuch A: 5,7 g/h
  • Versuch B: 5,2 g/h
  • Versuch C: 8,3 g/h
  • Die Ergebnisse zeigen für das durch Zerstäubung gemäß der Erfindung erhaltene Siliciumpulver eine gegenüber dem konventionellen Siliciumpulver um 45 bzw. 56 erhöhte Bildungsrate.
  • Beispiel 2
  • Demselben wie zu Beispiel 1 beschriebenen Reaktor wurde bei denselben übereinstimmenden Bedingungen (2 bar, 1,5 l/h Methylchlorid und 300ºC) Pulver an gemäß der vorliegenden Erfindung zerstäubtem Silicium zugeführt, das folgende chemische Zusammensetzung in Gew.% aufwies:
  • Fe: 0,34 %, Al: 0,40 %, Cu: 5,75 %, Zn: 0,14 %, Ca: 0,10 %,
  • wobei der Rest aus Silicium und den üblichen Verunreinigungen bestand. Es wurden die Bildungsgeschwindigkeiten von Silanen in zwei Versuchsreihen gemessen und zu 8,13 g/h und 9,9 g/h ermittelt, was einen signifikanten Anstieg der Bildungsgeschwindigkeit gegenüber der Verwendung eines konventionell gebrochenen und gemahlenen Siliciums gemäß der Versuche A und B von Beispiel 1 anzeigt.

Claims (8)

1. Siliciumpulver, dadurch gekennzeichnet, daß es durch Gaszerstäubung von geschmolzenem Silicium in einem Inertgasstrom hergestellt ist und eine Partikelgröße zwischen 0,1 und 1000 um, eine spezifische Oberfläche zwischen 0,001 und 1 m²/g und folgende chemische Zusammensetzung in Gew.% aufweist:
0,1 - 1 % Eisen und
0,01 - 1 % Aluminium und wahlweise:
bis zu 8 % Kupfer,
bis zu 1 % Calcium,
bis zu 1 % Zink,
bis zu 1 % Zinn,
bis zu 0,5 % Bor,
bis zu 0,5 % Phosphor,
bis zu 0,5 % Natrium,
bis zu 0,5 % Lithium,
bis zu 0,5 % Kalium,
bis zu 0,5 % Magnesium,
bis zu 0,5 % Strontium,
bis zu 0,5 % Barium und
bis zu 0,5 % Beryllium,
wobei der Rest aus Silicium und aus weniger als 0,3 % an Verunreinigungen wie Ti, V, Cr, Mo, W und Zr besteht.
2. Siliciumpulver nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch folgende Zusammensetzung in Gew.%: 0,25 - 0,55 % Eisen, 0.05 - 0.45 % Aluminium, 0,005 - 0,20 % Calcium, wobei der Rest aus Silicium und den üblichen Verunreinigungen besteht.
3. Siliciumpulver nach Anspruch 1, gekennzeichnet durch folgende Zusammensetzung in Gew.%: 0,25 - 0,55 % Eisen, 0,05 - 0,45 % Aluminium, 0,005 - 0,20 % Calcium, 1 - 6 % Kupfer, wobei der Rest aus Silicium und den üblichen Verunreinigungen besteht.
4. Verfahren zur kontinuierlichen Herstellung von Siliciumpulver, gekennzeichnet durch folgende Schritte:
- kontinuierliche Erzeugung von Silicium in einem Schmelzofen;
- Raffinieren und Legieren des geschmolzenen Siliciums;
- wahlweise kontinuierliche Überführung des geschmolzenen Siliciums in einen Warmhalteofen;
- kontinuierliche Überführung des geschmolzenen Siliciums in einen geschlossenen Zerstäuber, in dem das geschmolzene Silicium mittels eines Inertgases zerstäubt wird;
- kontinuierliches Entfernen des Pulvers des zerstäubten Siliciums aus dem Zerstäuber;
- Abtrennen des Pulvers des zerstäubten Siliciums und des Inertgases voneinander in einem Feststoff/Gas-Separator;
- wahlweise Sieben des Siliciumpulvers in vorbestimmte Partikelgröße-Fraktionen und
- Überführung der verschiedenen Partikelgröße-Fraktionen in geschlossene Vorratsbehälter;
- Filtrieren des aus dem Separationsschritt stammenden Inertgases zu dessen Befreiung von sämtlichen Feststoffpartikeln;
- Kühlen und Komprimieren des gefilterten Inertgases und
- Rückführung des komprimierten Inertgases in ein Druckgefäß oder unmittelbar in den Zerstäuber.
5. Verfahren nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß am Auslaßende des Zerstäubers, zwischen dem Zerstäuber und dem Feststoff/Gas- Separator, oder in den Feststoff/Gas-Separator chemische Verbindungen zur Modifizierung der Oberfläche der Partikeln des zerstäubten Siliciums injiziert werden.
6. Verfahren nach Anspruch 4 oder 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Schmelzen in einem elektrischen Schmelzofen ausgeführt wird.
7. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß das Raffinieren und Legieren in einem metallischen Behandlungsgefäß ausgeführt werden.
8. Verfahren nach einem der Ansprüche 4 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß das Inertgas dem Zerstäuber aus einem Druckgefäß oder von einem Kompressor zugeführt wird.
DE89312694T 1988-12-08 1989-12-06 Siliziumpulver und Verfahren zu seiner Herstellung. Expired - Fee Related DE68905448T2 (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
NO885453A NO165288C (no) 1988-12-08 1988-12-08 Silisiumpulver og fremgangsmaate for fremstilling av silisiumpulver.

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE68905448D1 DE68905448D1 (de) 1993-04-22
DE68905448T2 true DE68905448T2 (de) 1993-10-14

Family

ID=19891499

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE89312694T Expired - Fee Related DE68905448T2 (de) 1988-12-08 1989-12-06 Siliziumpulver und Verfahren zu seiner Herstellung.

Country Status (14)

Country Link
US (2) US5128116A (de)
EP (1) EP0372918B1 (de)
JP (1) JPH02204320A (de)
CN (1) CN1024412C (de)
AR (1) AR242760A1 (de)
AT (1) ATE86947T1 (de)
AU (1) AU622247B2 (de)
BR (1) BR8906362A (de)
CA (1) CA2003167C (de)
DE (1) DE68905448T2 (de)
ES (1) ES2038419T3 (de)
NO (1) NO165288C (de)
RU (1) RU2055812C1 (de)
YU (1) YU47501B (de)

Families Citing this family (45)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE4115183A1 (de) * 1991-05-09 1992-11-12 Bayer Ag Feinteiliges silicium mit oberflaechlich gebundenem halogen, verfahren zu dessen herstellung und dessen verwendung
US5177234A (en) * 1991-06-03 1993-01-05 Dow Corning Corporation Preparation of alkoxysilanes by contacting a solution of hydrogen fluoride in an alcohol with silicon
NO174165C (no) * 1992-01-08 1994-03-23 Elkem Aluminium Fremgangsmåte ved kornforfining av aluminium samt kornforfiningslegering for utförelse av fremgangsmåten
US5833772A (en) * 1992-11-18 1998-11-10 Elkem Asa Silicon alloy, method for producing the alloy and method for production of consolidated products from silicon
DE4303766A1 (de) * 1993-02-09 1994-08-11 Wacker Chemie Gmbh Verfahren zur Herstellung von Methylchlorsilanen
FR2707619B1 (fr) * 1993-07-01 1995-09-01 Pechiney Electrometallurgie Silicium métallurgique contenant du phosphore et destiné à la préparation des alkyl ou aryl halogénosilanes.
FR2716675B1 (fr) * 1994-02-25 1996-04-12 Pechiney Electrometallurgie Silicium métallurgique à microstructure contrôlée pour la préparation des halogénosilanes.
FR2720385B1 (fr) * 1994-05-31 1996-07-05 Pechiney Electrometallurgie Alliage de silicium pour la synthèse des alkyl ou aryl halogénosilanes contenant de l'aluminium, du calcium et du cuivre.
FR2723325B1 (fr) 1994-08-04 1996-09-06 Pechiney Electrometallurgie Procede de preparation de granules de silicium a partir de metal fondu
FR2729131B1 (fr) * 1995-01-09 1997-02-14 Pechiney Electrometallurgie Silicium et ferrosilicium metallurgique a basse teneur en oxygene
CN1089724C (zh) * 1997-01-14 2002-08-28 武汉大学 高纯球形无定形硅微粉
JP3346222B2 (ja) * 1997-05-13 2002-11-18 信越化学工業株式会社 アルキルハロシラン製造用触体の製造方法及びアルキルハロシランの製造方法
EP0893448B1 (de) * 1997-06-27 2003-04-16 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Herstellung von Alkylhalogensilanen
US6638491B2 (en) 2001-09-21 2003-10-28 Neptec Optical Solutions, Inc. Method of producing silicon metal particulates of reduced average particle size
US7175685B1 (en) * 2002-04-15 2007-02-13 Gt Solar Incorporated Dry conversion of high purity ultrafine silicon powder to densified pellet form for silicon melting applications
US20070148034A1 (en) * 2002-04-15 2007-06-28 Gt Solar Incorporated Dry conversion of high purity ultrafine silicon powder to densified pellet form for silicon melting applications
NO20022881L (no) * 2002-06-17 2003-12-18 Elkem Materials Fremgangsmåte og apparatur for granulering av metallsmelter
US6780219B2 (en) * 2002-07-03 2004-08-24 Osram Sylvania Inc. Method of spheridizing silicon metal powders
DE10353995A1 (de) * 2003-11-19 2005-06-09 Degussa Ag Nanoskaliges, kristallines Siliciumpulver
GB2409924A (en) * 2004-01-06 2005-07-13 Psimedica Ltd Method of making a silicon-phosphorus composite
US20060105105A1 (en) * 2004-11-12 2006-05-18 Memc Electronic Materials, Inc. High purity granular silicon and method of manufacturing the same
CN100357696C (zh) * 2005-10-21 2007-12-26 刘继清 竖式热管冷却机
US7429672B2 (en) * 2006-06-09 2008-09-30 Momentive Performance Materials Inc. Process for the direct synthesis of trialkoxysilane
US7820126B2 (en) * 2006-08-18 2010-10-26 Iosil Energy Corporation Method and apparatus for improving the efficiency of purification and deposition of polycrystalline silicon
GB0708385D0 (en) * 2007-05-01 2007-06-06 Atomising Systems Ltd Method and apparatus for the gas atomisation of molten metal
US20080308970A1 (en) * 2007-06-15 2008-12-18 General Electric Company Process for melting silicon powders
JP2011516290A (ja) * 2008-04-11 2011-05-26 イオシル エナジー コーポレイション 使用済みウェーハソーイングスラリーからの珪素及び炭化珪素の回収のための方法及び装置
CN101676203B (zh) * 2008-09-16 2015-06-10 储晞 生产高纯颗粒硅的方法
CN101857231A (zh) * 2010-05-14 2010-10-13 长沙康晶硅业有限公司 一种超反应活性金属硅粉
NO334216B1 (no) * 2010-08-13 2014-01-13 Elkem As Fremgangsmåte for fremstilling av triklorsilan og silisium for bruk ved fremstilling av triklorsilan
JP2012081385A (ja) * 2010-10-07 2012-04-26 Disco Corp 分離装置
DE102011100884B4 (de) * 2011-05-08 2015-03-05 Centrotherm Photovoltaics Ag Verfahren und vorrichtung zum entfernen von verunreinigungen aus metallurgischem silizium
DE102011112662B4 (de) * 2011-05-08 2015-04-09 Centrotherm Photovoltaics Ag Verfahren zum Behandeln von metallurgischem Silizium
JP5148784B1 (ja) * 2012-02-13 2013-02-20 シャープ株式会社 シリコン精製装置
CN103043665B (zh) * 2013-01-24 2014-11-26 厦门大学 一种硅粉的制备方法
CN104151343B (zh) * 2014-07-21 2016-09-07 鲁西化工集团股份有限公司硅化工分公司 一种提高甲基氯硅烷合成中硅粉利用率的添加剂
CN104841213A (zh) * 2015-05-25 2015-08-19 云南省龙陵县龙山硅有限责任公司 一种硅微粉回收再利用系统
RU2592629C1 (ru) * 2015-07-23 2016-07-27 Борис Павлович Чесноков Способ получения кремния
US12015148B2 (en) 2017-02-09 2024-06-18 Wacker Chemie Ag Silicon particles for anode materials of lithium ion batteries
CN107285319A (zh) * 2017-06-27 2017-10-24 亚洲硅业(青海)有限公司 一种颗粒硅籽晶及其制备方法
FR3083465B1 (fr) 2018-07-03 2020-07-17 Institut Polytechnique De Grenoble Procede et dispositif de granulation
NL2021507B1 (en) * 2018-08-28 2020-03-09 Space Xyz B V Assembly and method for producing metal powder
CN109482892B (zh) * 2018-12-28 2024-01-23 山东重山光电材料股份有限公司 一种锂硅合金的生产方法及生产装置
CN111634915A (zh) * 2020-06-12 2020-09-08 将乐三晶新材料有限公司 熔融金属硅雾化制粉工艺
CN114247892A (zh) * 2021-12-24 2022-03-29 江苏永炬锻造有限公司 一种基于粉末冶金的模具钢的制备方法

Family Cites Families (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3592391A (en) * 1969-01-27 1971-07-13 Knapsack Ag Nozzle for atomizing molten material
US4298423A (en) * 1976-12-16 1981-11-03 Semix Incorporated Method of purifying silicon
SE412712B (sv) * 1978-07-21 1980-03-17 Asea Ab Forfarande och anleggning for framstellning av pulver genom granulering av smelta
US4347199A (en) * 1981-03-02 1982-08-31 Dow Corning Corporation Method and apparatus for rapidly freezing molten metals and metalloids in particulate form
US4374633A (en) * 1981-03-16 1983-02-22 Hart Robert J Apparatus for the continuous manufacture of finely divided metals, particularly magnesium
DE3129009A1 (de) * 1981-07-22 1983-02-10 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren zum herstellen von fuer solarzellen verwendbarem silizium
DE3223821A1 (de) * 1982-06-25 1983-12-29 Siemens AG, 1000 Berlin und 8000 München Verfahren und vorrichtung zum herstellen von hochreinnem siliciumgranulat
US4419060A (en) * 1983-03-14 1983-12-06 Dow Corning Corporation Apparatus for rapidly freezing molten metals and metalloids in particulate form
DE3311343C2 (de) * 1983-03-29 1987-04-23 Alfred Prof. Dipl.-Ing.Dr.-Ing. 7830 Emmendingen Walz Verfahren zur Herstellung von feinen Metallpulvern sowie Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
US4564401A (en) * 1983-09-29 1986-01-14 Crucible Materials Corporation Method for producing iron-silicon alloy articles
US4612179A (en) * 1985-03-13 1986-09-16 Sri International Process for purification of solid silicon
GB8527852D0 (en) * 1985-11-12 1985-12-18 Osprey Metals Ltd Atomization of metals
US4680096A (en) * 1985-12-26 1987-07-14 Dow Corning Corporation Plasma smelting process for silicon

Also Published As

Publication number Publication date
NO885453L (no) 1990-06-11
JPH02204320A (ja) 1990-08-14
NO165288B (no) 1990-10-15
US5128116A (en) 1992-07-07
JPH05333B2 (de) 1993-01-05
NO885453D0 (no) 1988-12-08
EP0372918A3 (de) 1991-07-24
EP0372918A2 (de) 1990-06-13
ATE86947T1 (de) 1993-04-15
EP0372918B1 (de) 1993-03-17
AR242760A1 (es) 1993-05-31
YU47501B (sh) 1995-10-03
US5094832A (en) 1992-03-10
BR8906362A (pt) 1990-08-21
CN1043112A (zh) 1990-06-20
YU231089A (en) 1991-02-28
CA2003167A1 (en) 1990-06-08
RU2055812C1 (ru) 1996-03-10
CN1024412C (zh) 1994-05-04
ES2038419T3 (es) 1993-07-16
AU622247B2 (en) 1992-04-02
NO165288C (no) 1991-01-23
DE68905448D1 (de) 1993-04-22
AU4604889A (en) 1990-06-14
CA2003167C (en) 1996-12-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE68905448T2 (de) Siliziumpulver und Verfahren zu seiner Herstellung.
DE1027881B (de) Verfahren zur Herstellung von Titan
DE69412228T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Stahl in einem Behälter
EP2421997B1 (de) Herstellung von rundlichen metallpartikeln
DE69020636T2 (de) Verfahren zur Herstellung einer Aluminium-Kornverfeinerer-Vorlegierung.
DE102011112662A1 (de) Verfahren zum Behandeln von metallurgischem Silizium
CH645133A5 (de) Verfahren und vorrichtung zur entfernung von alkalimetall und erdalkalimetall aus geschmolzenem aluminium.
EP0537502B1 (de) Metall- und Metallegierungspulver in Form von mikrokristallinen, kugelförmigen und dichten Teilchen sowie Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung der Pulver
DE69323210T2 (de) Filtration von geschmolzenen metallen
EP0593977B1 (de) Verfahren zur Herstellung von Schleifkörnern
DE10055523C1 (de) Vorrichtung zur Filtration von und Zugabe von Kornfeinungsmittel zu Metallschmelzen
EP0232221B1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Aufbereitung feinteiligen Aluminiumschrotts
DE2737329C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung von Legierungen
DE69104346T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur kontinuierlichen Herstellung von Mennige.
DE69418938T2 (de) Zusatzmittel zur herstellung von legierungen
AT403482B (de) Verfahren und vorrichtung zur gewinnung von flüssigem leichtmetall aus einer dispersen mischung
DE3011962C2 (de) Metallverbundwerkstoff und Verfahren zu seiner Herstellung
DE3109318A1 (de) Verfahren zur durch kohlenstoffreduktion erfolgenden herstellung von metallisch
WO1993001131A1 (de) Verfahren und vorrichtung zum kontinuierlichen behandeln von silicium
DE1758146C (de) Verfahren zur Gewinnung von Bruchstuk ken gleichmaßiger Abmessungen aus Gußstucken von Ferromangan
JPH0920939A (ja) AlおよびAl合金溶湯中への微細化剤添加方法
DE2263288C3 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Raffinieren von schmelzflüssigem Aluminium
DE1533851A1 (de) Verfahren zur Herstellung metallisierter Pellets
CH297680A (de) Verfahren zur Herstellung einer Aluminium-Silizium-Legierung.
DD155958A5 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung von metallgranulaten

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: ELKEM ASA, OSLO, NO

8339 Ceased/non-payment of the annual fee