DE669193C

DE669193C - Vorrichtung zur Ablenkung von Elektronenstrahlen

Info

Publication number: DE669193C
Application number: DEA78671D
Authority: DE
Inventors: Dr Walter Henneberg; Dr Alfred Recknagel
Original assignee: AEG AG
Current assignee: AEG AG
Priority date: 1936-02-29
Filing date: 1936-03-01
Publication date: 1938-12-19

Description

Vorrichtung zur Ablenkung von Elektronenstrahlen Zur Ablenkung von Elektronenstrahlen" z. B. in Braunscheu Röhren, verwendet man Ablenkplattenpaare oder Ablenkspulenpaare. Nun ist bekannt, daß diese Ablenkelemiente außer ihrer ablenkenden Eigenschaft auch noch die Eigenschaft haben, auf den. Elektronenstrahl fokussierend zu wirken. Ein solches Ablenkelement stellt also eine zusätzliche Zylinderlinse dar, die .die optischen Eigenschaften des übrigen in der Röhrie vorhandenen elektronenoptischen Systems in unerwünschter Weise verändert.
Es ist schon vorgeschlagen worden, zur Vermeidung der fokussierenden Eigenschaften des Ablenkelementes. eine geeignete überlagerung elektrischer und magnetischer Felder zu wählen.
Gemäß der Erfindung läßt sich ein nicht fokussierendes Ablenkelement bereits durch Verwendung eines einzigen, geeignet gewählten axialsymmetrischenelektrischen Feldes herstellen, dessen Achse senkrecht zu der Ebene steht, in der die Elektronenstrahlen verlaufen, ohne die Achse zu schneiden. Es wird dazu die Feldanordnung derart ausgebildet, daß in der Ablenkebene ein radial gerichtetes elektrisches Feld herrscht, dessen Stärke umgekehrt proportional der . dritten Potenz der Entfernung von der Achse abnimmt.
Die Erfindung sei an Hand der Zeichnung näher erläutert, in der eine Ausführungsform von Elektroden, die das nach der Erfindung vorgeschriebene Feld erzeugen, beispielsweise dargestellt ist. Es bedeuten i und 2 vorzugsweise kreisförmige Platten .aus :einem noch näher zu beschreibenden Widerstandsmaterial, auf denen zentrisch das eine Elektrodenpaar 3 und q. angeordnet ist und um die Ringe 5 und 6 herumgelegt sind, die das andere Elektrodenpaar des Ablenkelementes bilden; die Elektroden 5 und 6 sind zweckmäßig als konzentrischer Draht und Ring ausgebildet. Das Widerstandsmaterial soll so beschaffen sein, daß mit wachsendem Abstand 7 von der Achse 7 des Systems das elektrische Potential wie i/Y2, die Feldstärke also wie i/73 abnimmt. Nahezu den gleichen Verlauf haben Feldstärke und Potential in dem freien Raum zwischen den Widerstandsplatten.
Ein Widerstandsmaterial der gewünschten Art kann bekanntlich auf verschiedene Weise hergestellt werden. Man kann z. B. entweder ein homogenes Material verschiedener Dicke oder ,ein. geeignetes inhomogenes Material, z. B. Siliciumcarbi$, verwenden. Zur Ablenkung eines Elektronenstrahles wählt man die Spannung an den Mittelelektroden 3 und 4 positiv, an den Außenelektroden 5 und 6 n@egativ. Durch geeignete Wahl von Elektronengeschwindigkeit und Ablenkspannung kann man erreichen, daß ein Elektronenstrahlenbündel, das in einer zwischen den Widerstandsplatten senkrecht zur Achse gelegenen Ebene .eingeschossen wird, nahezu eine Kreisbahn in dieser Ebene beschreibt. Dieses. Strahlenbündel wird nicht fokussiert.
An Stelle eines Widerstandsmaterials, das dauernd von einem geringen Strom durchflossen wird, kann auch ein Dielektrikum verwendet werden, dem eine zentrale Elektrode eingebettet wird und um das eine zweite ringförmige Elektrode herumgelegt wird. Dieses Dielektrikum muß dann derart inhomogen ausgebildet sein, daß die Feldstärke den geforderten Verlauf umgekehrt proportional der dritten Potenz der Entfernung nimmt.

Claims

PATENTANSPRÜCHE: i. Vorrichtung zur Ablenkung von Elektronenstrahlen in einer Ebene mit Hilfe einer ein axialsymmetrisches elektrisches Feld erzeugenden Anordnung, deren Achse senkrecht zu dieser Ebene steht, aber die Elektronenstrahlen nicht schneidet, gekennzeichnet durch eine solche Ausbildung der Feldanordnung, daß in der Ablenkebene ein radial gerichtetes elektrisches Feld herrscht, dessen Stärke umgekehrt proportional der dritten Potenz der Entfernung von ,der Achse abnimmt.
2. Vorrichtung nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß zwei kreisrunde Platten, in deren jeder die elektrische Feldstärke umgekehrt proportional der dritten Potenz der Entfernung von der Achse abnimmt, in so. geringer Entfernung voneinander angeordnet sind, daß in dem Zwischenraum annähernd die gleiche Feldverteilung herrscht.
3. Vorrichtung nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die beiden Platten, in denen das Felderzeugt werden soll, aus einem Widerstandsmaterial bestehen, an das durch je eine zentrale Elektro,de. und je eine außen ringförmig herumgelegte Elektrode eine Spannung gehegt werden kann.
4. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das WiderstandsmateTial aus einer inhomobenen Masse, z. B. Siliciumcarbid, besteht.
5. Vorrichtung nach Anspruch 3, dadurch gekennzeichnet, daß das Widerstandsmaterial aus einer dünnen Leiter-oder Halbleiterschicht von gesetzmäßig abnehmender Dicke besteht.
6. Vorrichtung nach Anspruch i und 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Platten aus einem Dielektrikum bestehen.