DE656029C - Verfahren zur Vorbehandlung von fuer die kathodische Zerstaeubung bestimmten Metallelektroden - Google Patents

Verfahren zur Vorbehandlung von fuer die kathodische Zerstaeubung bestimmten Metallelektroden

Info

Publication number
DE656029C
DE656029C DED69214D DED0069214D DE656029C DE 656029 C DE656029 C DE 656029C DE D69214 D DED69214 D DE D69214D DE D0069214 D DED0069214 D DE D0069214D DE 656029 C DE656029 C DE 656029C
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
metal electrodes
pretreatment
gas
cathodic sputtering
electrodes intended
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired
Application number
DED69214D
Other languages
English (en)
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
DISPERSION CATHODIQUE S A
Original Assignee
DISPERSION CATHODIQUE S A
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by DISPERSION CATHODIQUE S A filed Critical DISPERSION CATHODIQUE S A
Application granted granted Critical
Publication of DE656029C publication Critical patent/DE656029C/de
Expired legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/56Apparatus specially adapted for continuous coating; Arrangements for maintaining the vacuum, e.g. vacuum locks
    • C23C14/564Means for minimising impurities in the coating chamber such as dust, moisture, residual gases

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Solid-Sorbent Or Filter-Aiding Compositions (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)
  • Physical Vapour Deposition (AREA)

Description

  • Verfahren zur Vorbehandlung von für die kathodische Zerstäubung bestimmten Metallelektroden Ziel der. Erfindung ist, die kathodische Zerstäubung von Metallen zu beschleunigen und wirtschaftlich zu gestalten sowie das -kathodische Zerstäuben von solchen Metallen, die bisher überhaupt nicht oder nur sehr schwer zu zerstäuben waren, zu ermöglichen sowie die Zerstäubung bei höheren Drücken als bisher vorzunehmen.
  • Man hat gefunden, daß durch Chemosorption oder aktive (aktivierte) Adsorption, hierunter versteht man die auf Primärvalenzkräften beruhende Adsorption von Gasen auf festen Körpern, die erst oberhalb einer bestimmten Temperatur merkbar in Erscheinung tritt, bei Temperaturerhöhung bis auf ein gewisses Maximum ansteigt und dann nicht mehr allein durch Herabsetzung des Druckes entfernt werden kann (vgl. u. a. »Die Adsorption von Gasen und Dämpfen an festen Körpern« von H. Dohse und H. Mark, Leipzig, Akademische Verlagsgesellschaft mbH., 1933, § 18, insbesondere S. 66, Absatz 3, sowie James William M c Bain, »The sorption of gases and vapours by solids«, London, George Routledge & Sons Ltd., 1932, S.475 und 479-481), an der Oberfläche des zu zerstäubenden Metalls eine dünne Gasschicht gebunden ist, die die Zerstäubung erschwert. Erfindungsgemäß wird nun, zweckmäßig bevor man mit dem eigentlichen Zerstäuben beginnt, diese Gasschicht, die` praktisch aus Luftsauerstoff besteht, bei einer Temperatur oberhalb 80o° C entfernt, und zwar in Gegenwart eines ionisierten Füllgases, das mit dem Gas der gebundenen Gasschicht eine chemische -Verbindung eingeht.
  • Die Höhe der Temperatur, bis zu der die Kathode erhitzt werden muß, hängt von der Art des zu zerstäubenden Metalles und den chemischen Eigenschaften des Füllgases ab. Bei gewissen Elektrodenmetallen kann die Temperatur etwa bei Weißglut liegen. Sie übersteigt z. B. bei Verwendung von Platin oder Wolfram 130o° C. Um die Kathode auf die gewünschte Temperatur zu bringen und, wenn es erwünscht ist, auf dieser Temperatur zu halten, kann man sich beliebiger Mittel bedienen. So ist es beispielsweise möglich, mit Hilfe der gleichen Stromquelle, die später für die Zerstäubung in Anwendung kommt, die notwendige Erhitzung der Kathode durchzuführen oder auch eine direktes Beheizung der Kathode durch einen besonderen Stromkreis vorzusehen.
  • In gewissen Fällen ist es zweckmäßig, während des Abgasens der Elektroden eine letwä ,auftretende geringe Bestäubung des zu metallisierenden Gegenstandes durch Anbringen eines Schutzschirmes zwischen diesem und den Elektroden zu verhindern.
    trischen Widerständen, Spiegeln usw. Beispiel -i Um Kobalt kathodisch zu zerstäuben, werden Kobaltbänder von 4 mm Breite und 2 mm Dicke als Elektroden benutzt. Als Füllgas verwendet man Wasserstoff. Der Druck beträgt 0,36 mm IHg. Man bringt die Kathoden auf eine Temperatur von etwa iioo° C. Die anhaftende Sauerstoffschicht läßt sich innerhalb von etwa i Minute entfernen. Darauf erfolgt die kathodische Zerstäubung bei einer Spannung von 2ooo Volt innerhalb einer Zeit von ungefähr 5 Minuten. Es entsteht eine Kobaltschicht von annähernd 4o Millimikron Dicke.
  • Beispiel 2 Zur kathodischen Zerstäubungvon Molybdän werden als Elektroden Molybdändrähte mit einem Durchmesser von o,8 mm verwendet. Als Füllgas dient Wasserstoff. Der Druck beträgt 0,4 mm Hg. Die Kathoden werden auf eine Temperatur von i2oo° C gebracht.

Claims (2)

  1. PATENTANSPRÜCHE: i. Verfahren zur Vorbehandlung von für die kathodische Zerstäubung bestimmten Metallelektroden, die im Betriebe in warmem Zustande mit Luft in Berührung kommen, dadurch gekennzeichnet, daß die durch Chemosorption oder aktive (aktivierte), Adsorption auf der Oberfläche der Metallelektroden gebundene dünne Sauerstoffschicht vor dem eigentlichen Zerstäubungsvorgang bei einer Temperatur oberhalb 8oo° C und gleichzeitiger lonisierung des Füllgases entfernt wird.
  2. 2. Verfahren nach Anspruch i, dadurch gekennzeichnet, daß die Entfernung der gebundenen Gasschicht in Gegenwart von Wasserstoff erfolgt, das mit dem Gas der Gasschicht eine chemische Verbindung eingeht.
DED69214D 1934-10-16 1934-11-25 Verfahren zur Vorbehandlung von fuer die kathodische Zerstaeubung bestimmten Metallelektroden Expired DE656029C (de)

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
FR793014T 1934-10-16

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE656029C true DE656029C (de) 1938-01-27

Family

ID=9232535

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DED69214D Expired DE656029C (de) 1934-10-16 1934-11-25 Verfahren zur Vorbehandlung von fuer die kathodische Zerstaeubung bestimmten Metallelektroden

Country Status (6)

Country Link
US (1) US2047350A (de)
BE (1) BE411781A (de)
DE (1) DE656029C (de)
ES (1) ES137643A1 (de)
FR (1) FR793014A (de)
NL (1) NL46324C (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE748506C (de) * 1939-07-27 1944-11-04 Arbeitsflaechen fuer Ventilkegel von Brennkraftmaschinen und aehnliche metallische Maschinenteile

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2815302A (en) * 1954-03-12 1957-12-03 Ohio Commw Eng Co Film resistors

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE748506C (de) * 1939-07-27 1944-11-04 Arbeitsflaechen fuer Ventilkegel von Brennkraftmaschinen und aehnliche metallische Maschinenteile

Also Published As

Publication number Publication date
US2047350A (en) 1936-07-14
BE411781A (de) 1935-11-30
NL46324C (de) 1939-03-15
FR793014A (fr) 1936-01-15
ES137643A1 (es) 1935-07-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE68908249T2 (de) Verfahren zur Verbesserung der Korrosionsbeständigkeit von metallischen Materialien.
DE2215151A1 (de) Verfahren zum herstellen von duennen schichten aus tantal
DE2647088B2 (de) Verfahren und Vorrichtung zum Reinigen von Oberflächen
DE1465702A1 (de) Verfahren zur Haltbarmachung eines schwer schmelzbaren duennschichtigen Metallwiderstandes
DE2638097A1 (de) Verfahren zur oberflaechenbehandlung von kunststofflinsen und nach diesem hergestellte produkte
EP0208893A1 (de) Vorrichtung zum Behandeln mindestens eines Keramikgegenstandes in einer Alkalihydroxidschmelze
DE2832836A1 (de) Verfahren zur herstellung von oberflaechenschichten mit verbesserten korrosionseigenschaften auf gegenstaenden aus eisen-chrom-legierungen
DE667942C (de) Verfahren zur Herstellung von Oxydkathoden, insbesondere Gluehkathoden fuer elektrische Entladungsgefaesse
DE1515320A1 (de) Vorrichtung zum kathodischen Aufstaeuben
DE656029C (de) Verfahren zur Vorbehandlung von fuer die kathodische Zerstaeubung bestimmten Metallelektroden
DE1515310A1 (de) Verfahren zum Herstellen gleichfoermiger duenner Schichten hoher Guete aus leitenden oder halbleitenden Materialien und Vorrichtung zur Durchfuehrung des Verfahrens
DE1953070C3 (de) Verfahren zum Herstellen eines Tantaloxinitridschicht- widerstandelements
DE3204764A1 (de) Vorrichtung zur physikalischen bedampfung von oberflaechen
DE2063580A1 (de) Transparenter Leiter und Verfahren zu seiner Herstellung
DE1909869A1 (de) Verfahren zur Herstellung leitender Metalloxidueberzuege
DE2406891A1 (de) Spiegel
CH185432A (de) Verfahren zur Metallisierung von Gegenständen durch kathodische Zerstäubung von Metallelektroden.
DE2540999C3 (de) Elektrischer Steckkontakt mit einer Kontaktschicht aus einer Silber-Palladium-Legierung
DE69030752T2 (de) Verfahren zur abscheidung von mindestens einer stärke von mindestens einem dekorativen werkstoff über einen gegenstand und dadurch erhaltener gegenstand
DE4000664A1 (de) Transparente elektrode aus leitfaehigem oxid fuer photodioden und verfahren zu ihrer herstellung
AT156343B (de) Verfahren zur Vorbehandlung von für die kathodische Zerstäubung bestimmten Metallelektroden.
DE1195135B (de) Verfahren zur Verbesserung der elektrischen Leitfaehigkeit von auf Unterlagen, wie Glas und Kunststoffen, insbesondere durch Vakuum-bedampfen aufgebrachten duennen, licht-durchlaessigen oxydischen Schichten
DE3526830C1 (de) Verfahren und Einrichtung zum Niederschlagen eines Materials durch Zersetzung einer dampfförmigen chemischen Verbindung
DE1188895B (de) Verfahren zur Herstellung eines Verbundwerkstoffes aus Titan und einem Metall der Platingruppe durch Plattieren
DE2032639A1 (de) Verfahren zum Niederschlagen einer dünnen gut haftenden Goldschicht und mit derartigen Schichten überzogene Gegenstande