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Technisches
Gebiet
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Diese
Erfindung betrifft Plasmabearbeitungsausrüstung zur Abscheidung eines
Films auf der Oberfläche
eines Substrats durch Dampfabscheidung, eine Auflageständervorrichtung
der Plasmabearbeitungsausrüstung
und einen elektrostatischen Auflagehaltemechanismus der Auflageständervorrichtung.
Das bedeutet, die Erfindung betrifft eine elektrostatische Auflagehaltefixierstruktur
für verbesserte
Wartung.
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Stand der
Technik
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Derzeit
ist die Filmabscheidung unter Verwendung eines Plasma-CVD-Systems
(chemische Dampfabscheidung) zur Herstellung eines Halbleiters bekannt.
Das Plasma-CVD-System ist ein System, in welchem ein Quellengas
zur Ausbildung eines Films in eine Filmabscheidungskammer in einem
Behälter
eingeführt
wird, Hochfrequenzwellen werden von einer Hochfrequenzantenne abgeschossen,
um das Quellengas in den Plasmazustand umzuwandeln, und angeregte
aktive Atome im Plasma fördern chemische
Reaktionen auf der Oberfläche
des Substrats, um die Filmabscheidung auszuführen.
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Bei
dem Plasma-CVD-System wird eine Auflageständervorrichtung zum Lagern
des Substrats in der Filmabscheidungskammer bereitgestellt, und
die Auflageständervorrichtung
wird mit einem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus zum elektrostatischen
Anziehen des Substrats versehen. Der elektrostatische Auflagehaltemechanismus
hat eine elektrostatische Auflagehalteplatte, auf welcher das Substrat
direkt angeordnet wird. Der elektrostatische Auflagehaltemechanismus
ist vorgesehen, um elektrische Ionen zwischen dem Substrat und der
elektrostatischen Auflageplatte aufzuladen und eine Vorspannung
anzuwenden, um negative Ionen hereinzuziehen, wodurch das Substrat
gleichförmig
und elektrostatisch an die Auflageplatte angezogen wird. Durch Anziehen
des Substrats auf die elektrostatische Auflageplatte gleichförmig und
unmittelbar wird die Temperatur des Substrats genau geregelt auf
die gewünschte
Temperatur.
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Ein
konventioneller elektrostatischer Auflagehaltemechanismus ist mit
einer elektrostatischen Stromquelle verbunden und besitzt eine Elektrode, die
auf der elektrostatischen Auflageplatte der Auflageständervorrichtung
zum Anwenden einer Vorspannungsleistung vorgesehen ist. Die Elektrode
besteht zum Beispiel aus einem Kupferrohrteil und hat ein oberes
Ende, das mit der elektrostatischen Auflageplatte verbunden ist,
und hat einen Stecker, der an ihrem unteren Ende vorgesehen ist.
Der Stecker am unteren Ende wird mit einer Buchse angepaßt, die
zu einer Stromquelle führt
(die elektrostatische Stromquelle, Vorspannungsstromquelle).
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Bei
dem konventionellen elektrostatischen Auflagehaltemechanismus werden
die elektrostatische Auflageplatte und die verbundene Elektrode
bei der Wartung gelöst
(zum Beispiel Ersetzen der elektrostatischen Platte, ein Verbrauchsartikel).
Zu diesem Zeitpunkt ist die Buchse abgelöst von dem Stecker der Elektrode
und die elektrostatische Auflageplatte und die damit integrale Elektrode
werden nach oben heraus gezogen. Um eine neue elektrostatische Auflageplatte
anzubringen, wird die elektrostatische Auflageplatte, die eine integral
damit verbunden Elektrode besitzt, von oben angebracht, und die Buchse
der Stromquelle wird in den Stecker der Elektrode eingepaßt.
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Beim
Herausziehen der elektrostatischen Auflageplatte nach oben bei der
Wartung ist es aufgrund von ihrem Eigengewicht schwierig, die elektrostatische
Auflageplatte anzuheben. Auch ist die Elektrode integral an einen
unteren Teil der elektrostatischen Auflageplatte angeschlossen,
so daß die
elektrostatische Auflageplatte gerade auf eine bestimmte Höhe herausgezogen
werden muß.
Ferner hat eine Verbindung zwischen der Elektrode und dem Stecker eine
so niedrige Bindungsstärke,
daß sie
beschädigt werden
kann durch Stoß oder
dergleichen. Ein Vorgang zum Lösen
der elektrostatischen Auflageplatte muß daher in einer Situation
ausgeführt
worden, wo die Arbeitseffizienz gering ist.
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Ferner
gibt es eine Situation, wo der Stecker für die Stromquelle an die Buchse
der Elektrode angepaßt
wird, wodurch Verkabelung usw. gehalten wird. Häufiger Zugang zu einem engen
Ort unter der Trägerauflagevorrichtung
ist notwendig für
den Vorgang des Zusammenpassens von Stecker und Buchse. Ablöse- und
Anbringungsvorgänge für die elektrostatische
Auflageplatte müssen
daher in einer Situation ausgeführt
werden, wo deren Arbeitseffizienz gering ist.
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Das
Dokument
US 6,159,055 offenbart
einen elektrostatischen Auflagehaltemechanismus, worin eine Elektrode
gefedert montiert ist und das rückseitige
Ende der Elektrode mechanisch und elektrisch mit einem Spannungsquellenkabel
verbunden ist.
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Das
US-Dokument 6,072,685 offenbart einen elektrostatischen Auflagehaltemechanismus, worin
die Elektrode in einem Blindloch angebracht wird, das an einem Spannungsversorgungsterminal ausgeführt ist.
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Zusammenfassung
der Erfindung
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Die
vorliegende Erfindung ist im Lichte der oben erwähnten Probleme mit den früheren Technologien
vollbracht worden. Es ist eine erste Aufgabe der Erfindung, einen
elektrostatischen Auflagehaltemechanismus bereitzustellen, bei dem
es leicht ist, eine elektrostatische Auflageplatte anzubringen und zu
lösen.
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Es
ist eine zweite Aufgabe der Erfindung, eine Auflageständervorrichtung
vorzusehen, die ausgerüstet
ist mit einem elektrischen Auflagehaltemechanismus, bei dem es leicht
ist, eine elektrostatische Auflageplatte anzubringen und zu lösen.
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Es
ist eine dritte Aufgabe der Erfindung, eine Plasmabearbeitungsausrüstung vorzusehen
mit einer Auflageständervorrichtung,
die ausgerüstet
ist mit einem elektrischen Auflagehaltemechanismus, bei dem es leicht
ist, eine elektrostatische Auflageplatte anzubringen und zu lösen.
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Der
elektrostatische Auflagehaltemechanismus der vorliegenden Erfindung
zum Erzielen der ersten Aufgabe ist ein elektrostatischer Auflage-Haltemechanismus,
gekennzeichnet durch: eine elektrostatische Auflageplatte, die an
einer Lagerungsstelle eines Auflageständers angebracht ist, um mit
einer elektrostatischen Kraft ein Substrat zu halten, und ein Elektrodenstabelement,
das mit einer Unterseite der elektrostatischen Auflageplatte verbunden
ist und durch einen Lagerungsabschnitt hindurch angeordnet ist,
dadurch gekennzeichnet, daß er
ein Buchsenelement zur Versorgung mit Elektrizität umfaßt, das neben dem Auflageständer befestigt
ist und an seinem unteren Ende ein Durchgangsloch aufweist, wobei
ein unterer Abschnitt des Elektrodenstabelementes in dem Buchsenelement
angebracht ist, und ein in dem Buchsenelement vorgesehenes Hochdrückelement,
das durch das Durchgangsloch hindurch verschoben werden kann, um
das Elektrodenstabelement nach oben zu schieben, wobei die elektrostatische
Auflageplatte auf dem Lagerungsabschnitt befestigt ist, wodurch
der untere Abschnitt des Elektrodenstabelementes entgegen einer
Hochdrückkraft des
Hochdrückelementes
in dem Buchsenelement angebracht ist, während die Befestigung der elektrostatischen
Auflageplatte von dem Lagerungsabschnitt gelöst wird, wodurch der untere
Abschnitt des Elektrodenstabelementes durch die Hochdrückkraft des
Hochdrückelementes
nach oben geschoben wird, um das Elektrodenstabelement zusammen
mit der elektrostatischen Auflageplatte nach oben zu schieben. Daher
ermöglicht
es der elektrostatische Auflagehaltemechanismus, daß die elektrostatischen Auflageplatte
leicht angebracht und gelöst
wird.
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Bei
dem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus kann das Hochdrückelement
umfassen: ein hochspringendes Teil, das verschieblich in dem Buchsenelement
vorgesehen ist und einen in Kontakt mit dem unteren Abschnitt des
Elektrodenstabelementes stehenden oberen Endabschnitt aufweist, und
eine Druckfeder zum Hochdrücken
des hochspringenden Teils nach oben. Daher kann die elektrostatische
Auflageplatte durch eine einfache Konstruktion heraufgeschoben werden.
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Bei
dem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus kann ein Isolator
an einem Umfang sowohl vom Elektrodenstabelement als auch dem Buchsenelement
angeordnet und daran befestigt sein, und ein Abschirmelement zum
Abschirmen gegen elektromagnetische Wellen an einem Umfang des Isolators
angeordnet und daran befestigt sein. Das Elektrodenstabteil und
das Buchsenteil können damit
daran gehindert werden, Entladung und Rauschen hervorzurufen.
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Die
Auflageständervorrichtung
der vorliegenden Erfindung zum Erzielen der zweiten Aufgabe ist eine
Auflageständervorrichtung,
die in einer Bearbeitungskammer vorgesehen ist, in welcher ein Plasma zum
Bearbeiten einer Oberfläche
eines Substrats mit durch das Plasma erregten Atomen und Molekülen erzeugt
wird, wobei die Auflageständervorrichtung das
Substrat halten kann, wobei die Auflageständervorrichtung durch einen
der elektrostatischen Auflage-Haltemechanismen
gekennzeichnet ist, die oben beschrieben sind. Damit kann eine Auflagehaltevorrichtung
ausgeführt
werden, welche mit einem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus
versehen ist, bei dem es leicht ist, die elektrostatische Auflageplatte
anzubringen und zu lösen.
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Die
Plasmabearbeitungsausrüstung
der vorliegenden Erfindung zum Erzielen der dritten Aufgabe ist
gekennzeichnet durch: eine Bearbeitungskammer, in welcher ein Plasma
zum Bearbeiten einer Oberfläche
eines Substrats mit durch das Plasma erregten und aktivierten Atomen
und Molekülen
erzeugt wird, eine Auflageständervorrichtung,
die zum Halten des Substrats in der Bearbeitungskammer vorgesehen
ist, und ein Plasmaerzeugungsmittel zum Erzeugen des Plasmas in
der Bearbeitungskammer, wobei die Plasmabearbeitungsanlage des weiteren
dadurch gekennzeichnet ist, daß sie
einen der oben beschriebenen elektrostatischen Auflagehaltemechanismus
als Auflageständervorrichtung
umfaßt. Damit
kann eine Plasmabearbeitungsausrüstung ausgeführt werden,
welche die Auflagehaltevorrichtung ausgerüstet hat mit dem elektrostatischen
Auflagehaltemechanismus, bei dem es leicht ist, die elektrostatische
Auflageplatte anzubringen und zu lösen.
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Bei
der Plasmabearbeitungsausrüstung kann
das Plasmaerzeugungsmittel Elektrizität zu einer Antenne liefern,
um elektromagnetische Wellen zu senden und ein Plasma in der Bearbeitungskammer
zu erzeugen und dadurch mit Hilfe der erregten und aktivierten Atome
und Moleküle
einen Film auf die Oberfläche
des Substrats aufzubringen. Die Plasmabearbeitungsausrüstung kann
daher als eine Plasmafilmabscheidungsvorrichtung dienen, bei welcher
die Auflagehaltevorrichtung ausgerüstet ist mit dem elektrostatischen
Auflagehaltemechanismus, bei dem es leicht ist, die elektrostatische
Auflageplatte anzubringen und zu lösen.
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Kurze Beschreibung
der Zeichnungen
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Die
vorliegende Erfindung wird nun vollständiger verstanden aus der detaillierten
Beschreibung, die hierunter gegeben ist, und den anliegenden Zeichnungen,
welche nur zur Veranschaulichung gegeben sind und daher nicht begrenzend
für die
vorliegende Erfindung sind, worin:
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1 eine
schematische Seitenansicht einer Plasmabearbeitungsausrüstung (Plasma-CVD-System) gemäß einer
Ausführung
der vorliegenden Erfindung ist;
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2 eine
schematische Konfigurationsansicht einer Auflageständervorrichtung
ist; und
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3 eine
Querschnittsansicht des mit dem Pfeil III in 2 markierten
Teils zur Veranschaulichung eines elektrostatischen Auflagehaltemechanismus
ist.
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Detaillierte
Beschreibung
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Bevorzugte
Ausführungen
der vorliegenden Erfindung werden nun detailliert mit Bezug auf
die anliegenden Zeichnungen beschrieben werden, welche keinesfalls
die Erfindung beschränken.
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1 zeigt
schematisch die Seite einer Plasmabearbeitungsausrüstung (Plasma-CVD-System) gemäß einer
Ausführungsform
der vorliegenden Erfindung. 2 zeigt
schematisch die Konfiguration einer Auflagehaltevorrichtung. 3 zeigt
die Querschnittssituation des mit dem Pfeilen III in 2 markierten
Teils zur Veranschaulichung eines elektrostatischen Auflagehaltemechanismus.
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Wie
in 1 gezeigt, ist ein zylindrischer Aluminiumbehälter 2 versehen
mit einem Fuß 1,
und eine Filmabscheidungskammer 3 ist in dem Behälter 2 definiert.
Ein kreisförmiges
Deckenbrett 4 ist an der Spitze des Behälters 2 vorgesehen.
Die Filmabscheidungskammer 3 in dem Behälter 2 ist ausgerüstet mit einer
Auflageständervorrichtung 5.
Die Auflageständervorrichtung 5 hat
einen Lagerteil 9, welcher elektrostatisch ein Substrat 6 eines
Halbleiters anzieht und hält.
Ein Haltemechanismus 7, der ausgerüstet ist mit einem elektrostatischen
Auflagehaltemechanismus, ist unter dem Lagerungsteil 9 vorgesehen.
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Eine
Vorspannungsquelle 21 und eine elektrostatische Leistungsquelle 22 sind
angeschlossen an den Haltemechanismus 7 der Auflageständervorrichtung 5,
um einen Hochfrequenzstrom in dem Lagerungsteil 9 zu erzeugen
und auch eine elektrostatische Kraft darin zu erzeugen. Die Auflageständervorrichtung 5 ist
angepaßt,
um frei nach oben und nach unten als Ganzes bewegbar zu sein, so
daß ihre
Höhe in
Vertikalrichtung auf eine optimale Höhe eingestellt werden kann.
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Am
Deckenbrett 4 ist beispielsweise eine Hochfrequenzantenne 13 mit
z.B. Kreisringform angeordnet. Eine Hochfrequenzstromquelle 15 ist
angeschlossen an die Hochfrequenzantenne 13 über ein
Abgleichinstrument 14. Durch Anlegen einer elektrischen
Leistung an die Hochfrequenzantenne 13 werden elektromagnetische
Wellen in die Filmabscheidungskammer 3 des Behälters 2 geschossen. Die
elektromagnetischen Wellen, die in den Behälter 2 geschossen
werden, ionisieren in der Filmabscheidungskammer 3 Gase,
um ein Plasma zu erzeugen.
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Der
Behälter 2 ist
versehen mit Gaszufuhrdüsen 16 zur
Lieferung eines Quellengases wie ein Silan (zum Beispiel SiH4). Das Quellengas, welches ein Filmbildungsmaterial
(zum Beispiel Si) werden wird, wird in die Filmabscheidungskammer 3 durch
die Gaszufuhrdüsen 16 geliefert.
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Der
Behälter 2 ist
auch mit Hilfsgasversorgungsdüsen 17 zum
Liefern eines Hilfsgases, wie einem Inertgas (Edelgas), zum Beispiel
Argon oder Helium oder Sauerstoff oder Wasserstoff versehen. Auslaßanschluß 18,
welcher an ein Vakuumpumpsystem (nicht gezeigt) zur Evakuierung
des Inneren des Behälters 2 angeschlossen
ist, ist am Fuß 1 vorgesehen.
Ein Eintrags-/Austragsanschluß für das Substrat 6 ist
auch im Behälter 2 vorgesehen,
obwohl dieser Anschluß nicht
gezeigt ist. Über
diesen Anschluß wird
das Substrat 6 von einer Transportkammer (nicht gezeigt)
in den Behälter 2 fördert und
aus dem Behälter 2 zur
Transportkammer befördert.
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Bei
dem oben beschriebenen Plasma-CVD-System wird das Substrat 6 auf
dem Lagerungsteil 9 der Auflageständervorrichtung 5 angeordnet
und elektrostatisch dahin angezogen. Das Quellengas wird mit einer
vorbestimmten Strömungsgeschwindigkeit
durch die Gaszufuhrdüsen 16 in
die Filmabscheidungskammer 3 geliefert, während das Hilfsgas
bei einer vorbestimmten Strömungsgeschwindigkeit
durch die Hilfsgaszufuhrdüsen 17 in die
Filmabscheidungskammer 3 geliefert wird. Das Innere der
Filmabscheidungskammer 3 wird unter einen vorbestimmten
Druck gesetzt, der den Filmabscheidungsbedingungen angepaßt ist.
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Dann
wird elektrische Leistung aus der Hochfrequenzstromquelle 15 zur
Hochfrequenzantenne 13 geliefert, um hochfrequente elektromagnetische
Wellen zu erzeugen. Zur gleichen Zeit wird elektrische Leistung
von der Vorspannungsleistungsquelle 21 zum Lagerungsteil 9 geliefert,
um hochfrequente elektromagnetische Wellen zu erzeugen.
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Durch
diese Mittel entlädt
sich das Quellengas in der Filmabscheidungskammer 3 und
kommt teilweise in einen Plasmazustand. Dieses Plasma kollidiert
mit anderen neutralen Molekülen
in dem Quellengas unter weiterer Ionisierung und Anregung der neutralen
Moleküle.
Die so gebildeten aktiven Partikel werden adsorbiert an der Oberfläche des Substrats 6,
um eine chemische Reaktion mit hoher Effizienz hervorzurufen, wodurch
sie darauf abscheiden, um einen CVD-Film zu bilden.
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Die
Auflageständervorrichtung 5,
ausgerüstet
mit dem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus in dem obigen
Plasma-CVD-System wird detailliert mit Bezug auf die 2 und 3 beschrieben.
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Wie
in 2 gezeigt, ist der Lagerungsteil 9 konstruiert
durch Anbringen einer elektrostatischen Auflageplatte 32 auf
der Lagerungsseite eines Auflageständer 31 und die elektrostatische
Auflageplatte 32 ist auf dem Auflageständer 31 durch herunterhaltende
Teile 33 befestigt. Ein oberes Endteil eines Kupferrohrs 34 als
Elektrodenstabteil ist befestigt an der unteren Oberfläche der
elektrostatischen Auflageplatte 32.
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Eine
Platte 36 ist befestigt am Auflageständer 31 über einen
Befestigungsbolzen 35. Eine Buchse 37 als Buchsenteil,
um angeschlossen zu werden an die Vorspannungsleistungsquelle 21,
und die elektrostatische Leistungsquelle 22 wird befestigt
an der Platte 36. Ein unteres Endteil des Kupferrohrs 34 (das
heißt
ein unteres Endteil des Elektrodenstabteils; der untere Endteil
des Kupferrohres 34 oder der untere Teil des Elektrodenstabteils
werden im folgenden als Stecker bezeichnet) wird in die Buchse 37 eingepaßt.
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Die
Buchse 37 ist versehen mit einem Teil 38 zum nach
oben Drücken.
Das Kupferrohr 34 wird eingefügt in den Auflageständer 31,
die elektrostatische Auflageplatte 32 wird angeordnet auf
dem Lagerungsteil 9 und die elektrostatische Auflageplatte 32 wird
befestigt an dem Lagerungsteil 9 mittels der Teile 33 zum
Herunterhalten. Dadurch wird der untere Endteil (Stecker) des Kupferrohrs 34 eingepaßt in die Buchse 37 gegen
die nach oben schiebende Kraft des Teils 38 zum Hochdrücken.
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Die
Teile 33 zum Herunterhalten werden gelöst, um die elektrostatische
Auflageplatte 32 von dem Auflageständer 31 freizusetzen,
wobei der untere Endteil (Stecker) des Kupferrohrs 34 nach
oben geschoben wird durch eine Hochschiebekraft des Teils 38 zum
Heraufdrücken.
Als Ergebnis bewegt sich Kupferrohr 34 nach oben, um die
elektrostatische Auflageplatte 32 von dem Auflageständer 31 anzuheben.
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Wie
gezeigt in 2 und 3 wird ein
Isolierrohr 41, das einen Außenumfangsteil des Kupferrohrs 37 bedeckt,
am oberen Teil der Platte 36 befestigt. Ein Keramikisolierrohr 42,
das einen Außenumfangteil
des Steckers 37 bedeckt, wird fixiert an einem unteren
Teil der Platte 36. Ein Abschirmrohr 43 zum Abschirmen
gegen elektromagnetische Wellen ist vorgesehen am Außenumfang
des Isolierrohrs 41 und ein Trägerrohr 44 zum Tragen
der Buchse 37 an der Platte 36 ist am Außenumfang
des Isolierrohrs 42 vorgesehen.
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Die
Aufbauten des Steckers und der Buchse 37 und des Teils 38 zum
Heraufschieben werden beschrieben werden basierend auf 3.
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Wie
in der Zeichnung gezeigt, ist das Kupferrohr 34 hohl und
hat einen Stecker 45 aufgeschraubt und verlötet an ihrem
unteren Ende. Die Buchse 37 hat eine Hülse 46, befestigt
auf dem Innenumfang des Isolierrohrs 42, zum Beispiel durch
Schweißen. Ein
passender Stecker 47 wird befestigt an einer Oberseite
der Hülse 46,
zum Beispiel durch Schrauben, und ein Durchgangsloch 48 wird
am oberen Ende des Fassungssteckers 47 ausgebildet.
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Ein
Innenzylinder 49 wird ausgebildet am unteren Ende der Hülse 46 und
ein Abdeckteil 50 wird befestigt an einer unteren Öffnung des
Innenzylinders 49. Eine nach oben springende Fassung 51 wird vorgesehen
in dem Innenzylinder 49, um hinauf- und hinabschiebbar
zu sein. Die nach oben springende Fassung 51 ist versehen
mit einem Schaftteil 52, welches durch das Durchgangsloch 48 geleitet
wird. Eine obere Endfläche
des Schaftteils 52 ist in Kontakt mit einer unteren Endfläche des
Steckers 45.
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Ein
Kompressionsfederteil 53 ist vorgesehen zwischen dem Abdeckteil 50 und
dem nach oben springenden Teil 51 und das nach oben springende Teil 51 wird
durch das Kompressionsfederteil 53 nach oben gezwungen.
Verkabelung (nicht gezeigt) für
die Vorspannungsstromquelle 21 und die elektrostatische
Stromquelle 22 wird angeschlossen an das untere Ende der
Buchse 37 durch eine Verbindung 54.
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Die
Wirkungen auf die Auflagehaltevorrichtung 5, ausgerüstet mit
dem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus werden beschrieben
werden.
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Die
Buchse 37 wird befestigt auf der Seite des Trägerstands 31 und
die Verkabelung für
die Vorspannungsstromquelle 21 und die elektrostatische Stromquelle 22 wird
verbunden mit Buchse 37 durch Verbindung 54. Wenn
das Kupferrohr 34 in den Auflageständer 31 des Lagerungsteil 9 eingesetzt
und die elektrostatische Auflageplatte 32 auf dem Lagerungsteil
plaziert wird, wird das Kupferrohr 34 mit dem Isolierrohr 41,
befestigt an dem Auflageständer 31,
eingesetzt.
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Beim
Einsetzen des Kupferrohrs 34 wird der Stecker 45 in
den Fassungsstecker 47 eingepaßt und die untere Endoberfläche des
Steckers 45 kontaktiert den Schaftteil 52 der
aufspringenden Fassung 51. Wenn bei diesem Zustand die
elektrostatische Auflageplatte 32 gedrückt wird gegen und befestigt
wird an dem Auflageständer 31 durch
die Teile 33 zum Herunterhalten, wird die aufspringende
Fassung 51 nach unten gedrückt durch den Stecker 45 gegen
die Druckkraft des Kompressionsfederteils 53.
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Gemäß diesem
Vorgang wird die elektrostatische Auflageplatte 32 befestigt
in einem vorbestimmten Zustand am Auflageständer 31. Dann ist das
Substrat 6 abnehmbar angebracht und eine Filmabscheidung
wird ausgeführt.
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Um
die elektrostatische Auflageplatte 32 für Wartungszwecke abzunehmen
(zum Beispiel Ersetzen der elektrostatischen Auflageplatte 32)
werden die Teile 33 zum Herunterhalten entfernt, um die
Befestigung der elektrostatischen Auflageplatte 32 auf dem
Auflageständer 31 zu
lösen.
Durch Lösen
der Befestigung der elektrostatischen Auflageplatte 32 drückt das
aufspringende Teil 51 den Stecker 45 nach oben
unter der Druckkraft des Kompressionsfederteils 53, wodurch
das Kupferrohr 34 sich zusammen mit der elektrostatischen
Auflageplatte 32 nach oben bewegt. In diesem Zustand wird
die elektrostatische Auflageplatte 32 mit dem Kupferrohr 34 daran befestigt über den
Auflageständer 31 herausgezogen und
ein vorbestimmter Vorgang wie Ersetzen wird ausgeführt.
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Beim
Entfernen der elektrostatischen Auflageplatte 32 ermöglicht es
bloßes
Lösen der
Befestigung der elektrostatischen Auflageplatte 32 am Auflageständer 31 der
elektrostatischen Auflageplatte 32 nach oben durch die
Druckkraft des Kompressionsfederteils 53 bewegt zu werden
und daher leicht entfernt zu werden. Beim Anbringen der elektrostatischen
Auflageplatte 32 genügt
es, die elektrostatische Auflageplatte 32 mit dem daran
befestigten Kupferrohr 34 zu plazieren beim Einsetzen des
Kupferrohrs 34 in den Auflageständer 31. Folglich
wird der Stecker 45 in die passende Buchse 47 eingepaßt und macht
so die Verbindung zur Stromquelle möglich.
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Die
Anbringung und das Lösen
der elektrostatischen Auflageplatte 32 und das Verbinden
des Kupferrohrs 34 an die Stromquelle werden daher extrem
leicht und die Ersetzbarkeit der elektrostatischen Auflageplatte 32 wird
merklich verbessert.
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Die
Buchse 37 wird weiterhin befestigt am Auflageständer 31,
so daß die
Verbindung 54 an der Stromquellenseite unterstützt wird
durch Auflageständer 31.
Dies umgeht die Notwendigkeit des Ausführens von Vorgängen zum
Anschließen
der Verbindung 54 an die Stromquellenseite des Kupferrohrs 34 als
der Elektrode und des Trennens der Verbindung 54 von dem Kupferrohr 34.
Daher können
die Mühen von
Vorgängen
in engem Raum unter dem Auflageständer 31 vermindert
werden.
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Das
Kupferrohr 34 und die Buchse 37 können mit
den Isolierrohren 41, 42 und dem Abschirmrohr 43 daneben
bedeckt sein, wodurch Entladung und Rauschen verhindert werden können. Nach
gewöhnlicher
Praxis, in welcher die Verbindung 54 an der Stromquellenseite
an das Kupferrohr 34 als Elektrode angeschlossen ist, ist
der Ort des Steckers integral mit einem flexiblen Kabel und macht
so das Vorsehen eines Abschirmrohres usw. schwierig. Bei der obigen
Ausführung
wird die Buchse 37 an dem Auflageständer 31 befestigt,
was so das Abschirmen der Buchse 37 erleichtert.
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Zusätzlich wird
eine sehr einfache Konfiguration erzielt, in welcher das aufspringende
Teil 51 nach oben durch die Druckkraft des Kompressionsfederteils 53 gedrückt wird.
Hingegen kann eine Konfiguration, in welcher das aufspringende Teil 51 nach oben
gedrückt
wird mit befriedigender Kontrollierbarkeit durch Verwendung eines
Stellglieds (zum Beispiel pneumatisch, elektrisch) angepaßt werden.
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Gemäß der vorliegenden
Erfindung ist daher ein elektrostatischer Auflagehaltemechanismus
erzielbar, bei welchem leicht Anbringen und Lösen der elektrostatischen Auflageplatte 32 ausgeführt werden
können.
Auch erzielbar ist die Auflageständervorrichtung 5,
ausgerüstet
mit dem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus, bei welchem leicht
Anbringen und Lösen
der elektrostatischen Auflageplatte 32 ausgeführt werden
können.
Ferner erzielbar ist eine Plasmabearbeitungsausrüstung mit der Auflageständevorrichtung 5,
bei welcher leicht Anbringen und Lösen der elektrostatischen Auflageplatte 32 ausgeführt werden
können.