DE60305285T2 - Trägermechanismus von einem elektrostatischen Halter, Standvorrichtung und Plasma - Google Patents

Trägermechanismus von einem elektrostatischen Halter, Standvorrichtung und Plasma Download PDF

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Description

  • Technisches Gebiet
  • Diese Erfindung betrifft Plasmabearbeitungsausrüstung zur Abscheidung eines Films auf der Oberfläche eines Substrats durch Dampfabscheidung, eine Auflageständervorrichtung der Plasmabearbeitungsausrüstung und einen elektrostatischen Auflagehaltemechanismus der Auflageständervorrichtung. Das bedeutet, die Erfindung betrifft eine elektrostatische Auflagehaltefixierstruktur für verbesserte Wartung.
  • Stand der Technik
  • Derzeit ist die Filmabscheidung unter Verwendung eines Plasma-CVD-Systems (chemische Dampfabscheidung) zur Herstellung eines Halbleiters bekannt. Das Plasma-CVD-System ist ein System, in welchem ein Quellengas zur Ausbildung eines Films in eine Filmabscheidungskammer in einem Behälter eingeführt wird, Hochfrequenzwellen werden von einer Hochfrequenzantenne abgeschossen, um das Quellengas in den Plasmazustand umzuwandeln, und angeregte aktive Atome im Plasma fördern chemische Reaktionen auf der Oberfläche des Substrats, um die Filmabscheidung auszuführen.
  • Bei dem Plasma-CVD-System wird eine Auflageständervorrichtung zum Lagern des Substrats in der Filmabscheidungskammer bereitgestellt, und die Auflageständervorrichtung wird mit einem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus zum elektrostatischen Anziehen des Substrats versehen. Der elektrostatische Auflagehaltemechanismus hat eine elektrostatische Auflagehalteplatte, auf welcher das Substrat direkt angeordnet wird. Der elektrostatische Auflagehaltemechanismus ist vorgesehen, um elektrische Ionen zwischen dem Substrat und der elektrostatischen Auflageplatte aufzuladen und eine Vorspannung anzuwenden, um negative Ionen hereinzuziehen, wodurch das Substrat gleichförmig und elektrostatisch an die Auflageplatte angezogen wird. Durch Anziehen des Substrats auf die elektrostatische Auflageplatte gleichförmig und unmittelbar wird die Temperatur des Substrats genau geregelt auf die gewünschte Temperatur.
  • Ein konventioneller elektrostatischer Auflagehaltemechanismus ist mit einer elektrostatischen Stromquelle verbunden und besitzt eine Elektrode, die auf der elektrostatischen Auflageplatte der Auflageständervorrichtung zum Anwenden einer Vorspannungsleistung vorgesehen ist. Die Elektrode besteht zum Beispiel aus einem Kupferrohrteil und hat ein oberes Ende, das mit der elektrostatischen Auflageplatte verbunden ist, und hat einen Stecker, der an ihrem unteren Ende vorgesehen ist. Der Stecker am unteren Ende wird mit einer Buchse angepaßt, die zu einer Stromquelle führt (die elektrostatische Stromquelle, Vorspannungsstromquelle).
  • Bei dem konventionellen elektrostatischen Auflagehaltemechanismus werden die elektrostatische Auflageplatte und die verbundene Elektrode bei der Wartung gelöst (zum Beispiel Ersetzen der elektrostatischen Platte, ein Verbrauchsartikel). Zu diesem Zeitpunkt ist die Buchse abgelöst von dem Stecker der Elektrode und die elektrostatische Auflageplatte und die damit integrale Elektrode werden nach oben heraus gezogen. Um eine neue elektrostatische Auflageplatte anzubringen, wird die elektrostatische Auflageplatte, die eine integral damit verbunden Elektrode besitzt, von oben angebracht, und die Buchse der Stromquelle wird in den Stecker der Elektrode eingepaßt.
  • Beim Herausziehen der elektrostatischen Auflageplatte nach oben bei der Wartung ist es aufgrund von ihrem Eigengewicht schwierig, die elektrostatische Auflageplatte anzuheben. Auch ist die Elektrode integral an einen unteren Teil der elektrostatischen Auflageplatte angeschlossen, so daß die elektrostatische Auflageplatte gerade auf eine bestimmte Höhe herausgezogen werden muß. Ferner hat eine Verbindung zwischen der Elektrode und dem Stecker eine so niedrige Bindungsstärke, daß sie beschädigt werden kann durch Stoß oder dergleichen. Ein Vorgang zum Lösen der elektrostatischen Auflageplatte muß daher in einer Situation ausgeführt worden, wo die Arbeitseffizienz gering ist.
  • Ferner gibt es eine Situation, wo der Stecker für die Stromquelle an die Buchse der Elektrode angepaßt wird, wodurch Verkabelung usw. gehalten wird. Häufiger Zugang zu einem engen Ort unter der Trägerauflagevorrichtung ist notwendig für den Vorgang des Zusammenpassens von Stecker und Buchse. Ablöse- und Anbringungsvorgänge für die elektrostatische Auflageplatte müssen daher in einer Situation ausgeführt werden, wo deren Arbeitseffizienz gering ist.
  • Das Dokument US 6,159,055 offenbart einen elektrostatischen Auflagehaltemechanismus, worin eine Elektrode gefedert montiert ist und das rückseitige Ende der Elektrode mechanisch und elektrisch mit einem Spannungsquellenkabel verbunden ist.
  • Das US-Dokument 6,072,685 offenbart einen elektrostatischen Auflagehaltemechanismus, worin die Elektrode in einem Blindloch angebracht wird, das an einem Spannungsversorgungsterminal ausgeführt ist.
  • Zusammenfassung der Erfindung
  • Die vorliegende Erfindung ist im Lichte der oben erwähnten Probleme mit den früheren Technologien vollbracht worden. Es ist eine erste Aufgabe der Erfindung, einen elektrostatischen Auflagehaltemechanismus bereitzustellen, bei dem es leicht ist, eine elektrostatische Auflageplatte anzubringen und zu lösen.
  • Es ist eine zweite Aufgabe der Erfindung, eine Auflageständervorrichtung vorzusehen, die ausgerüstet ist mit einem elektrischen Auflagehaltemechanismus, bei dem es leicht ist, eine elektrostatische Auflageplatte anzubringen und zu lösen.
  • Es ist eine dritte Aufgabe der Erfindung, eine Plasmabearbeitungsausrüstung vorzusehen mit einer Auflageständervorrichtung, die ausgerüstet ist mit einem elektrischen Auflagehaltemechanismus, bei dem es leicht ist, eine elektrostatische Auflageplatte anzubringen und zu lösen.
  • Der elektrostatische Auflagehaltemechanismus der vorliegenden Erfindung zum Erzielen der ersten Aufgabe ist ein elektrostatischer Auflage-Haltemechanismus, gekennzeichnet durch: eine elektrostatische Auflageplatte, die an einer Lagerungsstelle eines Auflageständers angebracht ist, um mit einer elektrostatischen Kraft ein Substrat zu halten, und ein Elektrodenstabelement, das mit einer Unterseite der elektrostatischen Auflageplatte verbunden ist und durch einen Lagerungsabschnitt hindurch angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß er ein Buchsenelement zur Versorgung mit Elektrizität umfaßt, das neben dem Auflageständer befestigt ist und an seinem unteren Ende ein Durchgangsloch aufweist, wobei ein unterer Abschnitt des Elektrodenstabelementes in dem Buchsenelement angebracht ist, und ein in dem Buchsenelement vorgesehenes Hochdrückelement, das durch das Durchgangsloch hindurch verschoben werden kann, um das Elektrodenstabelement nach oben zu schieben, wobei die elektrostatische Auflageplatte auf dem Lagerungsabschnitt befestigt ist, wodurch der untere Abschnitt des Elektrodenstabelementes entgegen einer Hochdrückkraft des Hochdrückelementes in dem Buchsenelement angebracht ist, während die Befestigung der elektrostatischen Auflageplatte von dem Lagerungsabschnitt gelöst wird, wodurch der untere Abschnitt des Elektrodenstabelementes durch die Hochdrückkraft des Hochdrückelementes nach oben geschoben wird, um das Elektrodenstabelement zusammen mit der elektrostatischen Auflageplatte nach oben zu schieben. Daher ermöglicht es der elektrostatische Auflagehaltemechanismus, daß die elektrostatischen Auflageplatte leicht angebracht und gelöst wird.
  • Bei dem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus kann das Hochdrückelement umfassen: ein hochspringendes Teil, das verschieblich in dem Buchsenelement vorgesehen ist und einen in Kontakt mit dem unteren Abschnitt des Elektrodenstabelementes stehenden oberen Endabschnitt aufweist, und eine Druckfeder zum Hochdrücken des hochspringenden Teils nach oben. Daher kann die elektrostatische Auflageplatte durch eine einfache Konstruktion heraufgeschoben werden.
  • Bei dem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus kann ein Isolator an einem Umfang sowohl vom Elektrodenstabelement als auch dem Buchsenelement angeordnet und daran befestigt sein, und ein Abschirmelement zum Abschirmen gegen elektromagnetische Wellen an einem Umfang des Isolators angeordnet und daran befestigt sein. Das Elektrodenstabteil und das Buchsenteil können damit daran gehindert werden, Entladung und Rauschen hervorzurufen.
  • Die Auflageständervorrichtung der vorliegenden Erfindung zum Erzielen der zweiten Aufgabe ist eine Auflageständervorrichtung, die in einer Bearbeitungskammer vorgesehen ist, in welcher ein Plasma zum Bearbeiten einer Oberfläche eines Substrats mit durch das Plasma erregten Atomen und Molekülen erzeugt wird, wobei die Auflageständervorrichtung das Substrat halten kann, wobei die Auflageständervorrichtung durch einen der elektrostatischen Auflage-Haltemechanismen gekennzeichnet ist, die oben beschrieben sind. Damit kann eine Auflagehaltevorrichtung ausgeführt werden, welche mit einem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus versehen ist, bei dem es leicht ist, die elektrostatische Auflageplatte anzubringen und zu lösen.
  • Die Plasmabearbeitungsausrüstung der vorliegenden Erfindung zum Erzielen der dritten Aufgabe ist gekennzeichnet durch: eine Bearbeitungskammer, in welcher ein Plasma zum Bearbeiten einer Oberfläche eines Substrats mit durch das Plasma erregten und aktivierten Atomen und Molekülen erzeugt wird, eine Auflageständervorrichtung, die zum Halten des Substrats in der Bearbeitungskammer vorgesehen ist, und ein Plasmaerzeugungsmittel zum Erzeugen des Plasmas in der Bearbeitungskammer, wobei die Plasmabearbeitungsanlage des weiteren dadurch gekennzeichnet ist, daß sie einen der oben beschriebenen elektrostatischen Auflagehaltemechanismus als Auflageständervorrichtung umfaßt. Damit kann eine Plasmabearbeitungsausrüstung ausgeführt werden, welche die Auflagehaltevorrichtung ausgerüstet hat mit dem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus, bei dem es leicht ist, die elektrostatische Auflageplatte anzubringen und zu lösen.
  • Bei der Plasmabearbeitungsausrüstung kann das Plasmaerzeugungsmittel Elektrizität zu einer Antenne liefern, um elektromagnetische Wellen zu senden und ein Plasma in der Bearbeitungskammer zu erzeugen und dadurch mit Hilfe der erregten und aktivierten Atome und Moleküle einen Film auf die Oberfläche des Substrats aufzubringen. Die Plasmabearbeitungsausrüstung kann daher als eine Plasmafilmabscheidungsvorrichtung dienen, bei welcher die Auflagehaltevorrichtung ausgerüstet ist mit dem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus, bei dem es leicht ist, die elektrostatische Auflageplatte anzubringen und zu lösen.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • Die vorliegende Erfindung wird nun vollständiger verstanden aus der detaillierten Beschreibung, die hierunter gegeben ist, und den anliegenden Zeichnungen, welche nur zur Veranschaulichung gegeben sind und daher nicht begrenzend für die vorliegende Erfindung sind, worin:
  • 1 eine schematische Seitenansicht einer Plasmabearbeitungsausrüstung (Plasma-CVD-System) gemäß einer Ausführung der vorliegenden Erfindung ist;
  • 2 eine schematische Konfigurationsansicht einer Auflageständervorrichtung ist; und
  • 3 eine Querschnittsansicht des mit dem Pfeil III in 2 markierten Teils zur Veranschaulichung eines elektrostatischen Auflagehaltemechanismus ist.
  • Detaillierte Beschreibung
  • Bevorzugte Ausführungen der vorliegenden Erfindung werden nun detailliert mit Bezug auf die anliegenden Zeichnungen beschrieben werden, welche keinesfalls die Erfindung beschränken.
  • 1 zeigt schematisch die Seite einer Plasmabearbeitungsausrüstung (Plasma-CVD-System) gemäß einer Ausführungsform der vorliegenden Erfindung. 2 zeigt schematisch die Konfiguration einer Auflagehaltevorrichtung. 3 zeigt die Querschnittssituation des mit dem Pfeilen III in 2 markierten Teils zur Veranschaulichung eines elektrostatischen Auflagehaltemechanismus.
  • Wie in 1 gezeigt, ist ein zylindrischer Aluminiumbehälter 2 versehen mit einem Fuß 1, und eine Filmabscheidungskammer 3 ist in dem Behälter 2 definiert. Ein kreisförmiges Deckenbrett 4 ist an der Spitze des Behälters 2 vorgesehen. Die Filmabscheidungskammer 3 in dem Behälter 2 ist ausgerüstet mit einer Auflageständervorrichtung 5. Die Auflageständervorrichtung 5 hat einen Lagerteil 9, welcher elektrostatisch ein Substrat 6 eines Halbleiters anzieht und hält. Ein Haltemechanismus 7, der ausgerüstet ist mit einem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus, ist unter dem Lagerungsteil 9 vorgesehen.
  • Eine Vorspannungsquelle 21 und eine elektrostatische Leistungsquelle 22 sind angeschlossen an den Haltemechanismus 7 der Auflageständervorrichtung 5, um einen Hochfrequenzstrom in dem Lagerungsteil 9 zu erzeugen und auch eine elektrostatische Kraft darin zu erzeugen. Die Auflageständervorrichtung 5 ist angepaßt, um frei nach oben und nach unten als Ganzes bewegbar zu sein, so daß ihre Höhe in Vertikalrichtung auf eine optimale Höhe eingestellt werden kann.
  • Am Deckenbrett 4 ist beispielsweise eine Hochfrequenzantenne 13 mit z.B. Kreisringform angeordnet. Eine Hochfrequenzstromquelle 15 ist angeschlossen an die Hochfrequenzantenne 13 über ein Abgleichinstrument 14. Durch Anlegen einer elektrischen Leistung an die Hochfrequenzantenne 13 werden elektromagnetische Wellen in die Filmabscheidungskammer 3 des Behälters 2 geschossen. Die elektromagnetischen Wellen, die in den Behälter 2 geschossen werden, ionisieren in der Filmabscheidungskammer 3 Gase, um ein Plasma zu erzeugen.
  • Der Behälter 2 ist versehen mit Gaszufuhrdüsen 16 zur Lieferung eines Quellengases wie ein Silan (zum Beispiel SiH4). Das Quellengas, welches ein Filmbildungsmaterial (zum Beispiel Si) werden wird, wird in die Filmabscheidungskammer 3 durch die Gaszufuhrdüsen 16 geliefert.
  • Der Behälter 2 ist auch mit Hilfsgasversorgungsdüsen 17 zum Liefern eines Hilfsgases, wie einem Inertgas (Edelgas), zum Beispiel Argon oder Helium oder Sauerstoff oder Wasserstoff versehen. Auslaßanschluß 18, welcher an ein Vakuumpumpsystem (nicht gezeigt) zur Evakuierung des Inneren des Behälters 2 angeschlossen ist, ist am Fuß 1 vorgesehen. Ein Eintrags-/Austragsanschluß für das Substrat 6 ist auch im Behälter 2 vorgesehen, obwohl dieser Anschluß nicht gezeigt ist. Über diesen Anschluß wird das Substrat 6 von einer Transportkammer (nicht gezeigt) in den Behälter 2 fördert und aus dem Behälter 2 zur Transportkammer befördert.
  • Bei dem oben beschriebenen Plasma-CVD-System wird das Substrat 6 auf dem Lagerungsteil 9 der Auflageständervorrichtung 5 angeordnet und elektrostatisch dahin angezogen. Das Quellengas wird mit einer vorbestimmten Strömungsgeschwindigkeit durch die Gaszufuhrdüsen 16 in die Filmabscheidungskammer 3 geliefert, während das Hilfsgas bei einer vorbestimmten Strömungsgeschwindigkeit durch die Hilfsgaszufuhrdüsen 17 in die Filmabscheidungskammer 3 geliefert wird. Das Innere der Filmabscheidungskammer 3 wird unter einen vorbestimmten Druck gesetzt, der den Filmabscheidungsbedingungen angepaßt ist.
  • Dann wird elektrische Leistung aus der Hochfrequenzstromquelle 15 zur Hochfrequenzantenne 13 geliefert, um hochfrequente elektromagnetische Wellen zu erzeugen. Zur gleichen Zeit wird elektrische Leistung von der Vorspannungsleistungsquelle 21 zum Lagerungsteil 9 geliefert, um hochfrequente elektromagnetische Wellen zu erzeugen.
  • Durch diese Mittel entlädt sich das Quellengas in der Filmabscheidungskammer 3 und kommt teilweise in einen Plasmazustand. Dieses Plasma kollidiert mit anderen neutralen Molekülen in dem Quellengas unter weiterer Ionisierung und Anregung der neutralen Moleküle. Die so gebildeten aktiven Partikel werden adsorbiert an der Oberfläche des Substrats 6, um eine chemische Reaktion mit hoher Effizienz hervorzurufen, wodurch sie darauf abscheiden, um einen CVD-Film zu bilden.
  • Die Auflageständervorrichtung 5, ausgerüstet mit dem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus in dem obigen Plasma-CVD-System wird detailliert mit Bezug auf die 2 und 3 beschrieben.
  • Wie in 2 gezeigt, ist der Lagerungsteil 9 konstruiert durch Anbringen einer elektrostatischen Auflageplatte 32 auf der Lagerungsseite eines Auflageständer 31 und die elektrostatische Auflageplatte 32 ist auf dem Auflageständer 31 durch herunterhaltende Teile 33 befestigt. Ein oberes Endteil eines Kupferrohrs 34 als Elektrodenstabteil ist befestigt an der unteren Oberfläche der elektrostatischen Auflageplatte 32.
  • Eine Platte 36 ist befestigt am Auflageständer 31 über einen Befestigungsbolzen 35. Eine Buchse 37 als Buchsenteil, um angeschlossen zu werden an die Vorspannungsleistungsquelle 21, und die elektrostatische Leistungsquelle 22 wird befestigt an der Platte 36. Ein unteres Endteil des Kupferrohrs 34 (das heißt ein unteres Endteil des Elektrodenstabteils; der untere Endteil des Kupferrohres 34 oder der untere Teil des Elektrodenstabteils werden im folgenden als Stecker bezeichnet) wird in die Buchse 37 eingepaßt.
  • Die Buchse 37 ist versehen mit einem Teil 38 zum nach oben Drücken. Das Kupferrohr 34 wird eingefügt in den Auflageständer 31, die elektrostatische Auflageplatte 32 wird angeordnet auf dem Lagerungsteil 9 und die elektrostatische Auflageplatte 32 wird befestigt an dem Lagerungsteil 9 mittels der Teile 33 zum Herunterhalten. Dadurch wird der untere Endteil (Stecker) des Kupferrohrs 34 eingepaßt in die Buchse 37 gegen die nach oben schiebende Kraft des Teils 38 zum Hochdrücken.
  • Die Teile 33 zum Herunterhalten werden gelöst, um die elektrostatische Auflageplatte 32 von dem Auflageständer 31 freizusetzen, wobei der untere Endteil (Stecker) des Kupferrohrs 34 nach oben geschoben wird durch eine Hochschiebekraft des Teils 38 zum Heraufdrücken. Als Ergebnis bewegt sich Kupferrohr 34 nach oben, um die elektrostatische Auflageplatte 32 von dem Auflageständer 31 anzuheben.
  • Wie gezeigt in 2 und 3 wird ein Isolierrohr 41, das einen Außenumfangsteil des Kupferrohrs 37 bedeckt, am oberen Teil der Platte 36 befestigt. Ein Keramikisolierrohr 42, das einen Außenumfangteil des Steckers 37 bedeckt, wird fixiert an einem unteren Teil der Platte 36. Ein Abschirmrohr 43 zum Abschirmen gegen elektromagnetische Wellen ist vorgesehen am Außenumfang des Isolierrohrs 41 und ein Trägerrohr 44 zum Tragen der Buchse 37 an der Platte 36 ist am Außenumfang des Isolierrohrs 42 vorgesehen.
  • Die Aufbauten des Steckers und der Buchse 37 und des Teils 38 zum Heraufschieben werden beschrieben werden basierend auf 3.
  • Wie in der Zeichnung gezeigt, ist das Kupferrohr 34 hohl und hat einen Stecker 45 aufgeschraubt und verlötet an ihrem unteren Ende. Die Buchse 37 hat eine Hülse 46, befestigt auf dem Innenumfang des Isolierrohrs 42, zum Beispiel durch Schweißen. Ein passender Stecker 47 wird befestigt an einer Oberseite der Hülse 46, zum Beispiel durch Schrauben, und ein Durchgangsloch 48 wird am oberen Ende des Fassungssteckers 47 ausgebildet.
  • Ein Innenzylinder 49 wird ausgebildet am unteren Ende der Hülse 46 und ein Abdeckteil 50 wird befestigt an einer unteren Öffnung des Innenzylinders 49. Eine nach oben springende Fassung 51 wird vorgesehen in dem Innenzylinder 49, um hinauf- und hinabschiebbar zu sein. Die nach oben springende Fassung 51 ist versehen mit einem Schaftteil 52, welches durch das Durchgangsloch 48 geleitet wird. Eine obere Endfläche des Schaftteils 52 ist in Kontakt mit einer unteren Endfläche des Steckers 45.
  • Ein Kompressionsfederteil 53 ist vorgesehen zwischen dem Abdeckteil 50 und dem nach oben springenden Teil 51 und das nach oben springende Teil 51 wird durch das Kompressionsfederteil 53 nach oben gezwungen. Verkabelung (nicht gezeigt) für die Vorspannungsstromquelle 21 und die elektrostatische Stromquelle 22 wird angeschlossen an das untere Ende der Buchse 37 durch eine Verbindung 54.
  • Die Wirkungen auf die Auflagehaltevorrichtung 5, ausgerüstet mit dem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus werden beschrieben werden.
  • Die Buchse 37 wird befestigt auf der Seite des Trägerstands 31 und die Verkabelung für die Vorspannungsstromquelle 21 und die elektrostatische Stromquelle 22 wird verbunden mit Buchse 37 durch Verbindung 54. Wenn das Kupferrohr 34 in den Auflageständer 31 des Lagerungsteil 9 eingesetzt und die elektrostatische Auflageplatte 32 auf dem Lagerungsteil plaziert wird, wird das Kupferrohr 34 mit dem Isolierrohr 41, befestigt an dem Auflageständer 31, eingesetzt.
  • Beim Einsetzen des Kupferrohrs 34 wird der Stecker 45 in den Fassungsstecker 47 eingepaßt und die untere Endoberfläche des Steckers 45 kontaktiert den Schaftteil 52 der aufspringenden Fassung 51. Wenn bei diesem Zustand die elektrostatische Auflageplatte 32 gedrückt wird gegen und befestigt wird an dem Auflageständer 31 durch die Teile 33 zum Herunterhalten, wird die aufspringende Fassung 51 nach unten gedrückt durch den Stecker 45 gegen die Druckkraft des Kompressionsfederteils 53.
  • Gemäß diesem Vorgang wird die elektrostatische Auflageplatte 32 befestigt in einem vorbestimmten Zustand am Auflageständer 31. Dann ist das Substrat 6 abnehmbar angebracht und eine Filmabscheidung wird ausgeführt.
  • Um die elektrostatische Auflageplatte 32 für Wartungszwecke abzunehmen (zum Beispiel Ersetzen der elektrostatischen Auflageplatte 32) werden die Teile 33 zum Herunterhalten entfernt, um die Befestigung der elektrostatischen Auflageplatte 32 auf dem Auflageständer 31 zu lösen. Durch Lösen der Befestigung der elektrostatischen Auflageplatte 32 drückt das aufspringende Teil 51 den Stecker 45 nach oben unter der Druckkraft des Kompressionsfederteils 53, wodurch das Kupferrohr 34 sich zusammen mit der elektrostatischen Auflageplatte 32 nach oben bewegt. In diesem Zustand wird die elektrostatische Auflageplatte 32 mit dem Kupferrohr 34 daran befestigt über den Auflageständer 31 herausgezogen und ein vorbestimmter Vorgang wie Ersetzen wird ausgeführt.
  • Beim Entfernen der elektrostatischen Auflageplatte 32 ermöglicht es bloßes Lösen der Befestigung der elektrostatischen Auflageplatte 32 am Auflageständer 31 der elektrostatischen Auflageplatte 32 nach oben durch die Druckkraft des Kompressionsfederteils 53 bewegt zu werden und daher leicht entfernt zu werden. Beim Anbringen der elektrostatischen Auflageplatte 32 genügt es, die elektrostatische Auflageplatte 32 mit dem daran befestigten Kupferrohr 34 zu plazieren beim Einsetzen des Kupferrohrs 34 in den Auflageständer 31. Folglich wird der Stecker 45 in die passende Buchse 47 eingepaßt und macht so die Verbindung zur Stromquelle möglich.
  • Die Anbringung und das Lösen der elektrostatischen Auflageplatte 32 und das Verbinden des Kupferrohrs 34 an die Stromquelle werden daher extrem leicht und die Ersetzbarkeit der elektrostatischen Auflageplatte 32 wird merklich verbessert.
  • Die Buchse 37 wird weiterhin befestigt am Auflageständer 31, so daß die Verbindung 54 an der Stromquellenseite unterstützt wird durch Auflageständer 31. Dies umgeht die Notwendigkeit des Ausführens von Vorgängen zum Anschließen der Verbindung 54 an die Stromquellenseite des Kupferrohrs 34 als der Elektrode und des Trennens der Verbindung 54 von dem Kupferrohr 34. Daher können die Mühen von Vorgängen in engem Raum unter dem Auflageständer 31 vermindert werden.
  • Das Kupferrohr 34 und die Buchse 37 können mit den Isolierrohren 41, 42 und dem Abschirmrohr 43 daneben bedeckt sein, wodurch Entladung und Rauschen verhindert werden können. Nach gewöhnlicher Praxis, in welcher die Verbindung 54 an der Stromquellenseite an das Kupferrohr 34 als Elektrode angeschlossen ist, ist der Ort des Steckers integral mit einem flexiblen Kabel und macht so das Vorsehen eines Abschirmrohres usw. schwierig. Bei der obigen Ausführung wird die Buchse 37 an dem Auflageständer 31 befestigt, was so das Abschirmen der Buchse 37 erleichtert.
  • Zusätzlich wird eine sehr einfache Konfiguration erzielt, in welcher das aufspringende Teil 51 nach oben durch die Druckkraft des Kompressionsfederteils 53 gedrückt wird. Hingegen kann eine Konfiguration, in welcher das aufspringende Teil 51 nach oben gedrückt wird mit befriedigender Kontrollierbarkeit durch Verwendung eines Stellglieds (zum Beispiel pneumatisch, elektrisch) angepaßt werden.
  • Gemäß der vorliegenden Erfindung ist daher ein elektrostatischer Auflagehaltemechanismus erzielbar, bei welchem leicht Anbringen und Lösen der elektrostatischen Auflageplatte 32 ausgeführt werden können. Auch erzielbar ist die Auflageständervorrichtung 5, ausgerüstet mit dem elektrostatischen Auflagehaltemechanismus, bei welchem leicht Anbringen und Lösen der elektrostatischen Auflageplatte 32 ausgeführt werden können. Ferner erzielbar ist eine Plasmabearbeitungsausrüstung mit der Auflageständevorrichtung 5, bei welcher leicht Anbringen und Lösen der elektrostatischen Auflageplatte 32 ausgeführt werden können.

Claims (6)

  1. Elektrostatischer Auflage-Haltemechanismus, umfassend: eine elektrostatischen Auflageplatte (32), die an einer Lagerungsstelle eines Halteständers (31) angebracht ist, um mit einer elektrostatischen Kraft ein Substrat (6) zu halten, und ein Elektrodenstabelement (34), das mit einer Unterseite der elektrostatischen Auflageplatte verbunden ist und durch einen Lagerungsabschnitt (9) hindurch angeordnet ist, dadurch gekennzeichnet, daß er umfaßt ein Buchsenelement (37) zur Versorgung mit Elektrizität, das außerhalb des Auflageständers (31) befestigt ist und an seinem unteren Ende ein Durchgangsloch (48) aufweist, wobei ein unterer Abschnitt des Elektrodenstabelementes (34) in dem Buchsenelement angebracht ist, und ein in dem Buchsenelement vorgesehenes Hochdrückelement (38), das durch das Durchgangsloch (48) hindurch verschoben werden kann, um das Elektrodenstabelement nach oben zu schieben, wobei die elektrostatische Auflageplatte auf dem Lagerungsabschnitt befestigt ist, wodurch der untere Abschnitt des Elektrodenstabelementes entgegen einer Hochdrückkraft des Hochdrückelementes in dem Buchsenelement angebracht ist, während die Befestigung der elektrostatischen Auflageplatte von dem Lagerungsabschnitt gelöst wird, wodurch der untere Abschnitt des Elektrodenstabelementes durch die Hochdrückkraft des Hochdrückelementes nach oben geschoben wird, um das Elektrodenstabelement zusammen mit der elektrostatischen Auflageplatte nach oben zu schieben.
  2. Elektrostatischer Auflage-Haltemechanismus nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Hochdrückelement (38) umfaßt: ein hochspringendes Teil (51), das verschieblich in dem Buchsenelement (37) vorgesehen ist und einen in Kontakt mit dem unteren Abschnitt des Elektrodenstabelementes (34) stehenden oberen Endabschnitt aufweist, und eine Druckfeder (53) zum Hochdrücken des hochspringenden Teils nach oben.
  3. Elektrostatischer Auflage-Haltemechanismus nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß ein Isolator (41, 42) an einem Umfang sowohl vom Elektrodenstabelement (34) als auch dem Buchsenelement (37) angeordnet und daran befestigt ist, und ein Abschirmelement (43) zum Abschirmen gegen elektromagnetische Wellen an einem Umfang des Isolators angeordnet und daran befestigt ist.
  4. Auflageständervorrichtung (5), die in einer Bearbeitungskammer (3) vorgesehen ist, in welcher ein Plasma zum Bearbeiten einer Oberfläche eines Substrats (6) mit durch das Plasma erregten Atomen und Molekülen erzeugt wird, wobei die Auflageständervorrichtung das Substrat halten kann, wobei die Auflageständervorrichtung durch den elektrostatischen Auflage-Haltemechanismus nach einem der Ansprüche 1 bis 3 gekennzeichnet ist.
  5. Plasmabearbeitungsanlage, gekennzeichnet durch: eine Bearbeitungskammer (3), in welcher ein Plasma zum Bearbeiten einer Oberfläche eines Substrats (6) mit durch das Plasma erregten Atomen und Molekülen erzeugt wird, eine Auflageständervorrichtung (5), die zum Halten des Substrats in der Bearbeitungskammer vorgesehen ist, und ein Plasmaerzeugungsmittel (14, 15) zum Erzeugen des Plasmas in der Bearbeitungskammer, wobei die Plasmabearbeitungsanlage des weiteren dadurch gekennzeichnet ist, daß sie den elektrostatischen Auflage-Haltemechanismus nach einem der Ansprüche 1 bis 3 als Auflageständervorrichtung umfaßt.
  6. Plasmabearbeitungsanlage nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Plasmaerzeugungsmittel (14, 15) Elektrizität zu einer Antenne (13) liefert, um elektromagnetische Wellen zu senden und ein Plasma in der Bearbeitungskammer (3) zu erzeugen und dadurch mit Hilfe der erregten und aktivierten Atome und Moleküle einen Film auf die Oberfläche des Substrats (6) aufzubringen.
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