DE60221208T2 - Beschichtung von Partikeln in einem Wirbelbett durch Abscheidung aus der Dampfphase - Google Patents

Beschichtung von Partikeln in einem Wirbelbett durch Abscheidung aus der Dampfphase Download PDF

Info

Publication number
DE60221208T2
DE60221208T2 DE60221208T DE60221208T DE60221208T2 DE 60221208 T2 DE60221208 T2 DE 60221208T2 DE 60221208 T DE60221208 T DE 60221208T DE 60221208 T DE60221208 T DE 60221208T DE 60221208 T2 DE60221208 T2 DE 60221208T2
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
particles
temperature
coating
riser
chamber
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
DE60221208T
Other languages
English (en)
Other versions
DE60221208D1 (de
Inventor
Daniel Nashua Carril
Keith-A Hudson Klinedinst
Christoforos Medford Kazazis
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Osram Sylvania Inc
Original Assignee
Osram Sylvania Inc
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Osram Sylvania Inc filed Critical Osram Sylvania Inc
Publication of DE60221208D1 publication Critical patent/DE60221208D1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE60221208T2 publication Critical patent/DE60221208T2/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Lifetime legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B82NANOTECHNOLOGY
    • B82YSPECIFIC USES OR APPLICATIONS OF NANOSTRUCTURES; MEASUREMENT OR ANALYSIS OF NANOSTRUCTURES; MANUFACTURE OR TREATMENT OF NANOSTRUCTURES
    • B82Y30/00Nanotechnology for materials or surface science, e.g. nanocomposites
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01JCHEMICAL OR PHYSICAL PROCESSES, e.g. CATALYSIS OR COLLOID CHEMISTRY; THEIR RELEVANT APPARATUS
    • B01J2/00Processes or devices for granulating materials, e.g. fertilisers in general; Rendering particulate materials free flowing in general, e.g. making them hydrophobic
    • B01J2/006Coating of the granules without description of the process or the device by which the granules are obtained
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/02Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor
    • C09K11/025Use of particular materials as binders, particle coatings or suspension media therefor non-luminescent particle coatings or suspension media
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C09DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09KMATERIALS FOR MISCELLANEOUS APPLICATIONS, NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE
    • C09K11/00Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials
    • C09K11/08Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials
    • C09K11/58Luminescent, e.g. electroluminescent, chemiluminescent materials containing inorganic luminescent materials containing copper, silver or gold
    • C09K11/582Chalcogenides
    • C09K11/584Chalcogenides with zinc or cadmium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/4417Methods specially adapted for coating powder
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C16/00Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes
    • C23C16/44Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating
    • C23C16/442Chemical coating by decomposition of gaseous compounds, without leaving reaction products of surface material in the coating, i.e. chemical vapour deposition [CVD] processes characterised by the method of coating using fluidised bed process

Landscapes

  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Materials Engineering (AREA)
  • Organic Chemistry (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Metallurgy (AREA)
  • Nanotechnology (AREA)
  • General Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Composite Materials (AREA)
  • Inorganic Chemistry (AREA)
  • Chemical Vapour Deposition (AREA)

Description

  • 1. Erfindungsgebiet
  • Die Erfindung betrifft beschichtete Partikel und insbesondere beschichtete Leuchtstoffpartikel. Die Erfindung betrifft insbesondere beschichtete elektrolumineszente Leuchtstoffpartikel.
  • 2. Allgemeiner Stand der Technik
  • Feinteilige Materialien werden in sehr vielen Produkten und Anwendungen verwendet. Es ist manchmal der Fall, daß die Oberflächeneigenschaften des Partikels für die beabsichtigte Anwendung nicht vollständig zufriedenstellend sind. In solchen Fällen können verschiedene Oberflächenmodifikationstechniken eingesetzt werden, um die Leistung des Partikels zu verbessern. Ein Weg zum Ändern der Oberflächeneigenschaften eines Partikelmaterials besteht darin, jedes Partikel mit einer Substanz zu beschichten, deren Eigenschaften sowohl substantiell von denen des Basismaterials verschieden sind als auch mit der Umgebung der beabsichtigten Anwendung kompatibler sind. Beispielsweise können Leuchtstoffpartikel vor den schädlichen Effekten des Quecksilberplasmas bei Betreiben von Fluoreszenzlampen durch die Abscheidung von vollständig verkapselten Beschichtungen geschützt werden ( US 4,585,673 ; US 5,051,277 ). Auf ähnliche Weise kann elektrolumineszenter Leuchtstoff vor den Effekten von Feuchtigkeit in einer arbeitenden Elektrolumineszenzlampe durch das Anwenden von Schutzbeschichtungen geschützt werden ( US 5,080,928 ; US 6,064,150 ). Aus US-A-5,876,793 ist ein Verfahren zum Beschichten eines Partikels durch chemische Dampfabscheidungsreaktionen in der Steigleitung eines zirkulierenden Wirbelbettprozesses ohne Berücksichtigung des Problems der Kondensation auf den Oberflächen des Geräts und ohne Anzeige spezifischer Temperaturbedingungen, die kritisch sein könnten, bekannt.
  • Bei den angeführten Literaturstellen sowie bei anderen ähnlichen Literaturstellen werden die Beschichtungen über chemische Dampfabscheidungsreaktionen abgeschieden, die in Partikel-Wirbelbetten bei erhöhten Temperaturen durchgeführt werden. Die verdampften Beschichtungsvorläufer werden in das erhitzte Wirbelbett über eine Rohrleitung gebracht, die so erhitzt ist, daß die verdampften Vorläufer vor dem Eintritt in das Bett und dem Adsorbieren an den fluidisierten Partikeloberflächen nicht kondensieren oder reagieren. Um dies zu bewerkstelligen, darf die Reaktionstemperatur, d.h. die Wirbelbettemperatur, im allgemeinen nicht unter der niedrigsten Temperatur der erhitzten Vorläufertransportleitung liegen, weil ein Wirbelbett ein ausgezeichnetes Wärmetauschmedium ist. Es ist praktisch unmöglich, die Temperatur einer Gaszufuhrleitung, die in ein Wirbelbett mündet, auf einer Temperatur zu halten, die wesentlich höher oder niedriger ist als die Temperatur des Wirbelbettes selbst. Die Gaszufuhrleitung kann dann keine Temperatur haben, die von der Temperatur der fluidisierten Partikel substantiell verschieden ist. Deshalb kann solches Gerät nicht mit Prozessen einer Beschichtungsabscheidung verwendet werden, wenn die maximale Abscheidungstemperatur unter der Mindesttemperatur der erhitzten Zufuhrleitung liegt. Das Beschichtungsmaterial würde ansonsten in der Zufuhrleitung reagieren, diese beschichten und schließlich verstopfen.
  • Eine Klasse von Beschichtungsabscheidungsprozessen, die nicht unter Verwendung eines traditionellen Wirbelbettabscheidungssystems durchgeführt werden kann, sind die sogenannten Dampfabscheidungsprozesse (A. Kubono, et al., Prog. Polym. Sci., 19, 389–438, 1994). Bei Anwenden eines derartigen Prozesses auf einen typischen Wirbelbettreaktor würde das abzuscheidende Beschichtungsmaterial als Dampf über ein inertes Trägergas in dem Wirbelbettreaktor transportiert werden, wobei dann das verdampfte Beschichtungsmaterial sich mit dem feinteiligen Beschichtungssubstrat vermischen würde. Um jedoch das verdampfte Beschichtungsmaterial auf den Oberflächen der fluidisierenden Partikel zu adsorbieren (abzuscheiden), muß die Temperatur des Wirbelbettes wesentlich unter der des ankommenden Gasstromes liegen. Dies ist jedoch physikalisch unmöglich, da die ausgezeichneten Wärmetauscheigenschaften des Wirbelbettes bewirken, daß die Temperatur der ankommenden Gasleitung in der Nähe des Wirbelbettes im wesentlichen die gleiche ist wie die des Wirbelbettes selbst. Somit wird das Beschichtungsmaterial entweder im Ende des Gaszufuhrrohrs abgeschieden (bevor es mit den fluidisierten Partikeln in Kontakt kommt) oder es wird überhaupt nicht abgeschieden, je nach der Temperatur des Wirbelbettes und dem Partialdruck des verdampften Beschichtungsmaterials in dem ankommenden Gasstrom.
  • Eine zweite Klasse von Beschichtungsabscheidungsprozessen, die nicht unter Verwendung traditioneller Wirbelbettabscheidungssysteme ausgeführt werden können, sind die sogenannten Dampfabscheidungspolymerisationsprozesse (A. Kubono, et al., Prog. Polym. Sci., 19, 389–438, 1994). Prozesse dieser Art sind ähnlich den oben beschriebenen einfacheren Dampfabscheidungsprozessen, außer daß die Beschichtungen durch die wiederholte Reaktion (Polymerisation) der verdampften Vorläufermoleküle auf den Oberflächen der fluidisierten Partikel aufgebaut werden anstatt durch simple Adsorption. Solche Beschichtungen können durch die Reaktion eines einzelnen Vorläufermoleküls ausgebildet werden, beispielsweise durch die Polymerisation von p-Xylylen (P. Kramer, et al., J. of Polymer Science: Polymer Chemistry Edition, 22, 475–491, 1984) oder durch die Reaktion zwei verschiedener monomerischer Vorläufermoleküle, beispielsweise durch die Reaktion eines Diamins mit einem Dianhydrid unter Ausbildung eines Polyimids (K. Iida, et al., Japanese Journal of Applied Physics, 28, 2552–2555, 1989). Ansonsten sind die Überlegungen identisch mit den oben umrissenen für die einfachere Situation nur mit Dampfabscheidung.
  • Dementsprechend besteht ein Bedarf an einem Verfahren und Gerät, wobei durch den Einsatz von diesen nützliche Beschichtungen gleichförmig auf den Oberflächen von fluidisierten Partikulatmaterialien durch Dampfabscheidungsprozesse bei Temperaturen unter jenen der erwärmten Beschichtungsvorläufertransportleitungen abgeschieden werden können.
  • Offenbarung der Erfindung
  • Ein neues Wirbelbettpartikelbeschichtungsverfahren, durch dessen Einsatz Beschichtungen gleichförmig und zweckmäßig auf den Oberflächen von fluidisiertem Partikulatmaterial durch Dampfabscheidungsprozesse bei Temperaturen unter denen der erwärmten Beschichtungsvorläufertransportleitungen abgeschieden werden können. Partikelmaterialien mit relativ niedrigen Oberflächentemperaturen können in enge Nähe mit einem einen Beschichtungsvorläufer enthaltenden Gasstrom gebracht werden, charakterisiert durch eine substantiell höhere Gasvolumentemperatur, und zwar derart, daß die Vorläufermoleküle an den relativ kalten Partikeloberflächen adsorbieren oder kondensieren, ohne auch auf den Geräteoberflächen zu kondensieren. Wenn die adsorbierten Vorläufermoleküle in der Lage sind, an den relativ kalten Partikeloberflächen zu reagieren oder zu polymerisieren, wodurch im wesentlichen kontinuierliche Beschichtungen auf jenen Oberflächen ausgebildet werden, dann können sie dies ferner ohne signifikante Abscheidung des Beschichtungsmaterials an den Geräteoberflächen tun.
  • Kurze Beschreibung der Zeichnungen
  • 1 zeigt eine schematische Zeichnung des Beschichtungsgeräts.
  • 2 zeigt eine schematische Ansicht eines beschichteten Partikels.
  • 3 zeigt ein Diagramm der Phosphorpartikelumwälzungsrate über der Strömungsrate des fluidisierenden Gases.
  • 4 zeigt ein Diagramm der Umwälzungszeit für 800 Gramm Leuchtstoff über verschiedenen gasfluidisierenden Strömungsraten.
  • 5 zeigt eine Leuchtstoffpartikelumwälzungsrate über der Steigleitungsgasströmungsrate.
  • 6 zeigt ein Diagramm von Umwälzungszeiten für 800 Gramm Leuchtstoff über der Steigleitungsgasströmungsrate.
  • 7 zeigt ein Schemadiagramm des bevorzugten Geräts zum Beschichten von Partikeln mit polymerem Aminoboran.
  • 8 zeigt ein Diagramm der Oberflächenzusammensetzung (ESCA) über der Beschichtungsdicke von beschichteten Partikeln.
  • 9 zeigt schematisch eine Konstruktion für eine Elektrolumineszenzlampe.
  • 10 zeigt ein Diagramm von Helligkeiten der Elektrolumineszenzlampe über einer Beschichtungsdicke in Angström.
  • 11 zeigt ein Diagramm einer prozentualen Änderung bei einer EL-Lampenhelligkeit über einer Beschichtungsdicke.
  • 12 zeigt den Beginn von mehreren Reaktoren eines verketteten Systems.
  • 13 zeigt eine schematische Ansicht einer Fluoreszenzlampe.
  • 14 zeigt eine schematische Ansicht einer Hochdruckentladungslampe.
  • Beste Weise zum Ausführen der Erfindung
  • Die bevorzugte Ausführungsform des zum Praktizieren des Verfahrens verwendeten Geräts 10 ist schematisch in 1 gezeigt. Gerät zum Implementieren des Verfahrens kann als zwei parallelgeschaltete Wirbelbettreaktoren verallgemeinert werden. Der Hauptreaktor 12 weist eine Reaktorkammer 14 mit relativ großem Durchmesser auf. Der zweite Reaktor, der schnelle Reaktor 16, weist eine Reaktionskammer oder eine Steigleitung 18 mit relativ kleinerem Durchmesser auf. Der Hauptreaktor 12 weist eine typische Wirbelbettreaktorkonstruktion auf mit einem Bodeneinlaß 20 für ein inertes fluidisierendes Gas 22. Das Einströmen des fluidisierenden Gases 22 trägt Partikel 24 in der einen großen Durchmesser aufweisenden Kammer 14 in dem Hauptreaktor 12. Das fluidisierende Gas 22 strömt hoch durch die Partikel 24, tritt durch einen oberen Auslaß 26 aus und kann durch den Einlaß 20 zurück umgewälzt werden. Bei der Operation wühlt das fluidisierende Gas 22 dann die Partikel 24 in der großen Kammer 14 des Hauptreaktors 12 auf und suspendiert sie. Der Hauptreaktor 12 enthält in der Regel einen Wärmetauschermantel 30, der sich über zumindest das Gebiet neben der Stelle erstreckt, wo die Partikel 24 suspendiert sind, um die suspendierten Partikel 24 bei oder unter einer Reaktionstemperatur T1 zu halten.
  • Ein Speiserohr 32, das zu dem schnellen Reaktor 16 und zur Steigleitung 18 führt, ist neben der Stelle, wo die Partikel 24 in der Regel suspendiert wären, an den Hauptreaktor 12 gekoppelt. Ein Teil der Partikel 24 in der Suspension kann dann kontinuierlich von dem Hauptreaktor 12 der Steigleitung 18 zugeführt werden. Der schnelle Reaktor 16 enthält außerdem einen Bodeneinlaß 34 für einen ein Beschichtungsvorläufermaterial enthaltenden Gasstrom 36, das eine Mischung aus mehreren Abscheidungskomponenten und einem inerten Trägergas sein kann. Das bevorzugte Vorläuferbeschichtungsmaterial weist einen Dampfabscheidungs- oder Dampfabscheidungspolymerisations-(abkühlungs)-Reaktionspunkt bei oder über T1 auf. Das Vorläufermaterial bildet während der Abkühlung das endgültige Beschichtungsmaterial. Dies wird hierin als Abkühlungsreaktion, die an oder unter einem Abkühlungsreaktionspunkt (Temperatur) erfolgt, bezeichnet. Das Vorläufermaterial wird von dem Einlaß 34 in die einen kleinen Durchmesser aufweisende Steigleitung 18 bei einer Temperatur T2 eingespeist, die höher ist als sein Abkühlungsreaktionspunkt. Der schnelle Reaktor 16 enthält einen oberen Auslaß, bevorzugt als ein Rücklaufrohr ausgebildet, das zurück zum Hauptreaktor 12 führt. Der schnelle Reaktor 16 weist bezüglich der Partikelgröße und der Strömungsraten der Einlaßströme von dem Speiserohr 32 und dem Bodeneinlaß 34 einen relativ kleinen Durchmesser auf. Die in den schnellen Reaktor 16 eingespeisten Partikel 24 werden dann mit dem Einlaßgasstrom 36 und dem Vorläufermaterial vermischt und durch die Steigleitung 18 angehoben und zu dem Hauptreaktor 14 zurückgeführt. Bevorzugt enthält der schnelle Reaktor 16 auch einen Wärmetausch mantel 40, der sich entlang eines Abschnitts der Steigleitung 18 befindet, um die Steigleitung 18 bei einer Temperatur T3 größer als T1 und größer als der Abkühlungsreaktionspunkt zu halten. Dies soll die Abscheidung des Vorläufermaterials auf der Steigleitung 18 verhindern. Der Bodeneinlaß 34 kann auch eine Heizvorrichtung 42 enthalten, um eine Temperatur von T2 in dem Einlaßgasstrom 36 beizubehalten.
  • Die Länge der Steigleitung 18, die Temperaturdifferenz zwischen T1 und T3, die Anfangsmasse der Partikel 24 und die Geschwindigkeit des Partikelflusses durch die Steigleitung 18 werden so justiert, daß die Oberflächentemperatur der Partikel 24 unter der Abkühlungsreaktionstemperatur in der Steigleitung 18 gehalten wird, wodurch bewirkt wird, daß das Vorläufermaterial an den relativ kühleren Partikeln 24 kondensiert und möglicherweise reagiert, während sie die Länge der Steigleitung 18 durchlaufen. Bevorzugt wird die Abkühlreaktion in der Steigleitung 18 beendet, doch kann sie in dem Hauptreaktor beendet werden. Analog wird bevorzugt, daß sich im wesentlichen alles Vorläufermaterial an die Partikel anhängt, so daß wenig oder nichts von dem hohen Vorläufermaterial in den Hauptreaktor eintritt. Es versteht sich, daß eine gewisse kleine Menge des Vorläufers in den Hauptreaktor ausgetragen werden kann, um mit dem austretenden fluidisierenden Gas entfernt oder möglicherweise in dem Hauptreaktor kombiniert zu werden. Die tolerierbare Menge derartigen überfließenden Vorläufers hängt von den Details des Materials und des Reaktorbetriebs ab. Ein grobes Ziel wäre, daß mit Ausnahme einer Partikelbeschichtung weniger als 1 Prozent des Vorläufermaterials austritt.
  • Die beschichteten Partikel 50, die die Beschichtung aus kondensiertem Vorläufermaterial tragen, werden dann durch das Rücklaufrohr 38 in die oberen Gebiete des Hauptreaktors 12 geleitet. Das obere Ende der Steigleitung 18 ist so positioniert, daß ein aus der Steigleitung 18 austretendes Partikel 50 bevorzugt bei oder in der Nähe der Oberseite des Hauptreaktors 12 wieder in den Hauptreaktor 12 eintritt, aber möglicherweise an einer beliebigen zweckmäßigen Position in dem Hauptreaktor 12. Idealerweise wurde an diesem Punkt alles Vorläuferbeschichtungsmaterial in dem austretenden Gasstrom an den Partikeln abgeschieden, und wenig oder keines tritt zum Hauptreaktor 12 aus. Aufgrund des erweiterten Durchmessers werden die beschichteten Partikel 50 nicht länger von dem Strom des Gases 22 entgegen der Schwere getragen. Die beschichteten Partikel 50 fallen dann durch die Kraft der Schwere durch die relativ kühlere T1-Temperaturzone und werden dabei abgekühlt. Das Beschichtungsmaterial an den absteigenden beschichteten Partikeln 50 kann dann seine Abkühlreaktion fortsetzen. Die umgesetzten beschichteten Partikel 50 vereinigen sich mit den anderen Partikeln 24 und können für zusätzliche Beschichtungen statistisch durch den schnellen Reaktor 16 umgewälzt werden. Wenn sich in dem Gasstrom irgendwelches des durch das Rücklaufrohr eintretenden Vorläuferbeschichtungsmaterials befindet, wird es aus dem Hauptreaktor 12 von dem austretenden fluidisierenden Gas 22 durch den oberen Auslaß 26 abgezogen. Die anfänglichen Partikel 24 und die beschichteten Partikel 50 können unterschiedliche Dichten aufweisen und dadurch in dem Hauptreaktor 12 statistisch und höhenmäßig getrennt werden. Der Höhenort des Speiserohrs 32 kann dann justiert werden, um die Aufnahme von unbeschichteten oder weniger beschichteten Partikeln 24 zu begünstigen. Bei ausreichender Zeit können dann alle die unbeschichteten Partikel 24 durch den relativ heißeren schnellen Reaktor 16 für eine Oberflächenbeschichtung umgewälzt werden, die dann bei Rückkehr zu dem relativ kühleren Hauptreaktor 12 umgesetzt wird. Auf diese Weise können im wesentlichen gleichmäßig beschichtete Partikel hergestellt werden, und ähnliche Partikel ähnlicher Größe können hergestellt werden.
  • Wie in 1 gezeigt, gibt es drei Schlüsseltemperaturen: T1, die Materialtemperatur der Partikel in dem Hauptreaktor 12; T2, die Gastemperatur des Einlasses 34 und deshalb die Temperatur des einen Vorläufer enthaltenden Gasstroms 36; und T3, die Wandtemperatur der Steigleitung 18. In 1 ebenfalls angegeben sind die separaten Heizvorrichtungen oder Wärmetauscher (30, 40, 42), um während der Dauer des Beschichtungsprozesses die drei Zonen auf diesen verschiedenen Temperaturen zu halten. Die Beziehung zwischen diesen drei Temperaturen ist für die Operation des Beschichtungsverfahrens essentiell. Für die erfolgreiche Operation des Verfahrens muß die Materialtemperatur T1 unter der Gasstromtemperatur T2 und der Wandsteigleitungstemperatur T3 liegen. Insbesondere müssen die Temperaturen T2 und T3 hoch genug liegen, um Kondensation oder Reaktion der Beschichtungsvorläufer an den inneren Oberflächen des ankommenden unteren Einlasses 34 bzw. der Steigleitung 18 zu verhindern. Andererseits darf die Materialtemperatur T1 nicht über der Kondensationstemperatur des Beschichtungsvorläufers liegen. Wenn die Beschichtungsreaktion als ein Kondensationsprozeß betrachtet wird, muß der Gleichgewichtsdampfdruck des kondensierten Beschichtungsvorläufermaterials bei Temperatur T1 unter dem Partialdruck des Vorläufers in dem ankommenden, einen Vorläufer enthaltenden Gasstrom 36 liegen. Umgekehrt muß der Gleichgewichtsdampfdruck des kondensierten Beschichtungsvorläufermaterials bei Gastemperatur T2 und bei Wandtemperatur T3 über dem Partialdruck des Vorläufermaterials in dem ankommenden Gasstrom 36 liegen.
  • Wenn die Partikel 24 mit einer Oberflächentemperatur T1 in den Boden der Steigleitung 18 eintreten, werden sie in dem in den Boden der Steigleitung 18 mit Temperatur T2 eintretenden, einen Vorläufer enthaltenden Gasstrom 36 mitgerissen. Während die verdampften Beschichtungsvorläufermoleküle in Kontakt mit relativ kalten Oberflächen des Partikels 24 kommen, adsorbieren sie auf den Oberflächen der Partikel 24. Die adsorbierten Vorläufermoleküle können auf den Oberflächen der Partikel 24 reagieren (polymerisieren) unter Ausbildung einer Beschichtung über Dampfabscheidungspolymerisation. Die mit einem Vorläufer beschichteten Partikel 24 bewegen sich dann schnell in der Steigleitung 18 hoch und treten wieder in den Hauptreaktor 12 ein.
  • Weil das ankommende, einen Vorläufer enthaltende Gas 36 und die Steigleitung 18 bei Temperaturen über der der Partikel 24 im Hauptreaktor 12 gehalten werden, werden die mit einem Vorläufer beschichteten Partikel 24 etwas erhitzt, während sie sich hoch und aus der Steigleitung 18 herausbewegen. Das Ausmaß dieser Erhitzung wird jedoch durch die relativ kurze Verweilzeit der Partikel 24 (anfänglich) oder 50 (beschichtet) in der Steigleitung 18 begrenzt, und es ist wichtig, daß die Temperatur des Hauptreaktors 12, T1, niedrig genug ist und die Verweilzeit der Partikel 24 in der Steigleitung kurz genug ist, um die Desorption von adsorbierten Vorläufermolekülen vor dem Punkt zu verhindern, bei dem die pneumatisch transportierten Partikel 24 die Steigleitung verlassen und wieder in den Hauptreaktor 12 eintreten.
  • Die ankommenden Partikel 24 weisen eine ausreichende thermische Masse und eine ausreichend niedrige Temperatur auf und sie durchlaufen ausreichend schnell die Steigleitung 18, daß sie aus der Steigleitung 18 mit einer Kondensationsbeschichtung des Vorläufermaterials auftauchen. Angesichts der Anzahl an Partikeln 24 und der relativ geringen Größe (Schmalheit) der Steigleitung 18 überwältigen die ankommenden Partikel 24 thermisch das zur Verfügung stehende Vorläufermaterial und kondensieren das meiste davon, wenn nicht sogar alles, auf den Oberflächen der Partikel 24. Alternativ befindet sich der Vorläuferdampf gerade über seiner Reaktionstemperatur und ausreichend verdünnt, so daß im wesentlichen alles von ihm kondensiert ist und auf den Partikeln 24 kondensiert bleibt, während sie die Steigleitung 18 durchlaufen. Wenn die Partikel 24 zu klein sind oder das Vorläufermaterial zu heiß ist, können die Partikel die Kondensationsreaktion nicht induzieren oder können je nachdem das Material nicht zurückhalten, das sich aus der Kondensationsreaktion ergibt. Wenn die thermische Dichte des Vorläufermaterials zu groß ist, werden die ankommenden Partikel überhitzt, und unkondensiertes Vorläufermaterial läuft in den Hauptreaktor über.
  • Das bevorzugte Kernpartikel kann eine der zahlreichen, in der Technik der Lampen- und Elektrolumineszenzherstellung bekannten Leuchtstofformulierungen oder Kombinationen davon sein. Leuchtstoffe können relativ hohe Zersetzungstemperaturen aufweisen und dadurch eine Beschichtung durch eines von zahlreichen Dampfabscheidungsmaterialien tolerieren, die bei niedrigeren Temperaturen reaktiv auftreten. 2 zeigt eine schematische Ansicht eines beschichteten Partikels. Das Kernpartikel 70 als ein Leuchtstoff kann einen mittleren Durchmesser 72 im Bereich von 0,5 Mikrometer bis 200 Mikrometer aufweisen. Die Beschichtung 74 kann eine mittlere Dicke 76 im Bereich von 100 Angström bis 2 Mikrometer aufweisen. Es versteht sich, daß Variationen bei den individuellen Beschichtungen auftreten, einige können ungleich, zu dünn, zu dick oder unvollständig sein. Zu Beispielen für solche Leuchtstoffe würden mindestens die zinkbasierten Leuchtstoffe zählen, einschließlich der zinkbasierten Elektrolumineszenzleuchtstoffe. Diese Leuchtstoffe emittieren im allgemeinen Licht bei elektromagnetischer Stimulation, Stimulation durch Ultraviolettlicht oder durch ein elektrisches Feld. Allgemeiner ausgedrückt wird angenommen, daß sich das hierin beschriebene Verfahren für eine beliebige Anzahl von Kernpartikeln eignet, die mit einer beliebigen Anzahl von Dampfabscheidungs- oder Dampfabscheidungspolymerisationsbeschichtungsmaterialien beschichtet werden sollen.
  • Die Beschichtung kann durch Dampfabscheidung abgeschieden werden. Es ist besonders nützlich, ein Leuchtstoffpartikel mit einem Material zu beschichten, das einem Eindringen durch Wasser oder ähnliche Materialien widersteht, die die Funktion des Leuchtstoffs verschlechtern können. Zahlreiche Kombinationen von Beschichtungsmaterialien können in einem beschriebenen Dampfabscheidungsprozeß verwendet werden. Zu einigen der bevorzugten Alternativen zählen Paraffine, Polyvinylidenfluorid, Polyethylen und Π-konjugierte stromleitende Polymere wie etwa Po ly(p-phenylen), Poly(2,5-thienylen), Poly(2,2'-bipyridin-5,5'-diyl) und Poly(pyridin-2-5-diyl).
  • Die Beschichtung kann auch durch Dampfabscheidungspolymerisation abgeschieden werden. Wiederum können zahlreiche Kombinationen von Beschichtungsmaterialien bei dem beschriebenen Dampfabscheidungspolymerisationsprozeß verwendet werden. Zu einigen der bevorzugten Alternativen zählen dampfpolymeres Aminoboran, Poly(p-xylylen) und seine Derivate wie etwa (2,2)-Paracyclophan und 1,4-Dichlor-(2,2)-paracyclophan, p-Phenylenterephthalamid, 4,4'-Diaminodiphenylether, Alkylpolyamid, Poly(decamethylen)terephthalamid und Poly(decamethylen)pyromellitsäure.
  • Die folgenden Beispiele werden vorgelegt, um das Partikelbeschichtungsverfahren zu veranschaulichen. Das erste Beispiel zeigt die Zirkulation des Partikelmaterials aus dem Hauptreaktor 12 in den Boden der Steigleitung 18, dann die Steigleitung 18 hoch und zurück in den Hauptreaktor. Die folgenden Beispiele demonstrieren die Verwendung des Verfahrens zum Abscheiden von im wesentlichen kontinuierlichen Schutzbeschichtungen auf den Oberflächen von Elektrolumineszenzleuchtstoffpartikeln durch Dampfabscheidungspolymerisation.
  • Beispiel 1
  • Bei diesem Beispiel wurde das Produktionsgerät wie in 1 ausgelegt. Ein 2-Zoll-Durchmesser-Hauptreaktor wurde zusammen mit einer 0,25-Zoll-Durchmesser-Steigleitung verwendet. 800 Gramm Elektrolumineszenzleuchtstoff Sylvania Typ 723 wurden in den Reaktor gegossen, und gereinigter Stickstoff wurde sowohl als das fluidisierende Gas als auch das pneumatische Transportgas verwendet. Die Strömungsrate des fluidisierenden Gases lag zwischen 1,0 und 5,0 Litern pro Minute, während der Steigleitungsgasstrom zwischen 200 und 700 Normkubikzentimeter pro Minute (sccm) lag. Die gleichen Serien von Experimenten wurden mit dem Hauptreaktor bei Raumtemperatur mit unbefeuchtetem Stickstoff und mit auf 200°C gehaltenem Hauptreaktor durchgeführt, wobei der Stickstoff vor dem Eintritt in das Bett eine Wasserwaschflasche bei Raumtemperatur durchlief.
  • Zwei grundlegende Tests wurde durchgeführt. Im ersten Fall wurde der Steigleitungsgasstrom auf nur 200 sccm eingestellt, und der Strom des fluidisierenden Gases des Hauptreaktors wurde von 1,0 auf 5,0 Liter pro Minute in Inkrementen von 1,0 Liter pro Minute erhöht. Bei jeder Strömungsrate des fluidisierenden Gases wurde die Rate des Leuchtstoffpartikeltransports (die Steigleitung hoch und hinaus) unter Verwendung einer Stoppuhr und eines anfänglich leeren Sammeleimers bekannten Volumens bestimmt. Im zweiten Fall wurde die Strömung des fluidisierenden Gases auf 1,0 Liter pro Minute eingestellt, und die Steigleitungsgasströmung wurde in Inkrementen von 100 sccm von 200 auf 700 sccm heraufgesetzt. Bei jeder Steigleitungsgasströmung wurde die Rate des Leuchtstofftransports die Steigleitung hoch und hinaus wie zuvor bestimmt. Die Leuchtstoffpartikelumwälzungsrate (Gramm pro Minute) und die Zeit, in der eine Menge Leuchtstoff entsprechend dem ganzen Hauptreaktorbettvolumen (800 Gramm) über die Steigleitung (in Minuten) umgewälzt wurde, wurden nach jeder Messung berechnet.
  • 3 zeigt ein Diagramm der Phosphorpartikelumwälzungsrate über der Strömungsrate des fluidisierenden Gases mit einer 200-sccm-Steigleitung. Wie in 3 gezeigt, stellt es sich mit einer Steigleitungsgasströmungsrate von nur 200 sccm heraus, daß die Partikelumwälzungsrate sowohl bei Raumtemperatur mit unbefeuchtetem Gas als auch bei 200°C mit befeuchtetem fluidisierenden Gas von der Strömung des fluidisierenden Gases im wesentlichen unabhängig ist. Die pneumatische Transportrate mit befeuchtetem Gas bei 200°C betrug jedoch etwa das doppelte der, die bei Raumtemperatur mit unbefeuchtetem Gas gemessen wurde.
  • 4 zeigt ein Diagramm der Umwälzungszeit für 800 Gramm Leuchtstoff über verschiedenen Gasfluidisierungsströmungsraten bei Raumtemperatur ohne Befeuchtung und bei 200°C mit Befeuchtung. Wie in 4 angegeben, betrugen die entsprechenden totalen externen Umwälzungszeiten etwa 10 Minuten bei Raumtemperatur mit unbefeuchtetem Gas, aber nur etwa 5,0 Minuten bei 200°C mit befeuchtetem Gas.
  • 5 zeigt ein Diagramm der Leuchtstoffpartikelumwälzungsrate über der Steigleitungsgasströmungsrate in Zunahmen von 1,0 Litern pro Minute bei der Steigleitungsgasströmungsrate. Wiederum wurden Messungen für fluidisierende Gase bei Raumtemperatur ohne Befeuchtung vorgenommen und bei 200°C mit Befeuchtung. Die Ergebnisse sind hier etwas komplizierter. Bei beiden Hauptreaktorbettemperaturen stellte es sich heraus, daß die Umwälzungsrate (pneumatischer Transport) etwa linear mit der Steigleitungsgasströmungsrate zunimmt, wobei die Transportrate bei einer bestimmten Steigleitungsgasströmung weiter mit zunehmender Hauptreaktorbetttemperatur und Gasbefeuchtung ansteigt. Die maximale Transportrate jedoch, die erreicht werden konnte, betrug etwa 300 Gramm pro Minute. Es wird angenommen, daß dieses offensichtliche Maximum für die Umwälzungsrate das Ergebnis einer relativ engen Rohrleitung (1/4 Zoll Außendurchmesser) ist, die die Leuchtstoffteilchen passieren müssen, um in den Boden der Steigleitung einzutreten. Je größer der Durchmesser des Speiserohrs und tatsächlich je größer der Durchmesser der ganzen Steigleitungsbaugruppe, um so größer sollte die offensichtliche maximale Transportrate werden.
  • 6 zeigt ein Diagramm von Umwälzungszeiten für 800 Gramm Leuchtstoff über der Steigleitungsgasströmungsrate in Zunahmen von 0,1 Liter pro Minute bei der Steigleitungsgasströmungsrate. Wiederum wurden Messungen für die beiden untersuchten fluidisierenden Gasarten vorgenommen, Gas bei Raumtemperatur ohne Befeuchtung und Gas bei 200°C mit Befeuchtung. Mit der Steigleitungsströmungsrate nimmt die Umwälzungszeit für das in dem Hauptreaktor gehaltene Materialvolumen bis zu einer Grenze zu, die wahrscheinlich durch Drosseleffekte der Einlaß- und Auslaßrohre bestimmt wird. Aus Daten wie denen in 3 bis 6 kann zusammen mit den Messungen der Steigleitung eine Verweilzeit eines Partikels in der Steigleitung bestimmt werden, was für das Abstimmen des Systembetriebs nützlich ist.
  • Beispiel 2
  • 7 zeigt ein schematisches Diagramm des bevorzugten Geräts zum Beschichten von Partikeln mit polymerem Aminoboran. Da die Vorläufermaterialien bei Abkühlung reagieren, müssen sie in dem Vorläufergasstrom vor der Abscheidung auf den Partikeln in der Steigleitung adäquat kombiniert werden. Bei diesem Beispiel werden die fluidisierten Partikel mit Polymeraminoboran über Dampfabscheidungspolymerisation beschichtet. Der Prozeß ist für die Dampfabscheidung von polymerem Aminoboran. Wie angegeben ist das umwälzende Wirbelbett das gleiche wie das in 1 gezeigte, wobei die Temperatur T1 des Partikelmaterials in dem Hauptreaktor auf einen Wert zwischen 35°C und 65°C festgelegt und die Temperatur T2 der ankommenden, einen Vorläufer enthaltenden Gasleitung zwischen 120°C und 200°C eingestellt ist. Die Temperatur T3 der Steigleitungswand wurde auf 100°C eingestellt, wobei der untere Einlaß der Steigleitung auf eine geringfügig höhere Temperatur, 110°C, eingestellt war. Der Hauptreaktor wies einen Durchmesser von 1,0 Zoll auf, während der Durchmesser der Steigleitung 0,25 Zoll betrug. Gereinigter Stickstoff wurde als das fluidisierende Gas verwendet, das mit einer Rate zwischen 400 und 1000 sccm fließt. Das Partikelmaterial war Elektrolumineszenzleuchtstoff Sylvania Typ 723 ZnS:Cu, und das Gewicht des in den verschiedenen Durchläufen verwendeten Leuchtstoffs lag zwischen 40 und 100 Gramm.
  • Der gasförmige Vorläufer für die Abscheidung von polymerem Aminoboran auf der Oberfläche der fluidisierten Partikel wurde durch Erhitzen einer Mischung aus gasförmigem Ammoniak und Triethylaminboran bei einer Temperatur von 425°C erzeugt. Verdampftes Triethylaminboran wurde hergestellt, indem gereinigtes Stickstoffgas durch flüssiges Triethylaminboran geperlt wurde, das bei einer Temperatur von 97°C gehalten wurde. Der Triethylaminboran enthaltende Gasstrom wurde unmittelbar vor dem 425°C-Rohrvorreaktor mit mit 100 sccm fließendem gasförmigem Ammoniak kombiniert. Außerdem wurde eine zusätzliche Menge gereinigten Stickstoffgases als Verdünnungsmittel zugesetzt. Damit die Gasgeschwindigkeit in dem 425°C-Vorreaktor immer die gleiche bleiben würde, wurde der Verdünnungsmittelstickstoffstrom so eingestellt, daß die Summe aus den Verdünnungsmittel- und Trägerstickstoffströmen immer gleich 300 sccm war.
  • Eine Serie von 9 Partikelbeschichtungsdurchläufen wurde durchgeführt, wobei die folgenden Mengen während jedes Durchlaufs auf bestimmte Werte festgelegt waren: Gewicht des ZnS:Cu-Leuchtstoffpartikels, Hauptreaktortemperatur, Fluidisationsgasströmungsrate, Waschflaschengasströmungsrate und Durchlaufzeit. Die Werte dieser Parameter für jeden der neun Durchläufe sind in Tabelle I aufgeführt.
  • Tabelle I Partikelbeschichtungsdurchlaufparameter
    Figure 00160001
  • Nach jedem Durchlauf wurden Proben der homogenisierten Leuchtstoffpartikel durch SNMS- und ESCA-Spektroskopie analysiert, um die ungefähren Dicken der Beschichtungen bzw. die chemischen Zusammensetzungen der Oberflächen zu bestimmen. Die ungefähren Beschichtungsdicken und Oberflächenzusammensetzungen (ausgedrückt als Zusammensetzung in Atomprozent) sind in Tabelle II für jeden der neuen Durchläufe aufgeführt. Gezeigt werden außerdem die für eine Probe des unbeschichteten Leuchtstoffs erhaltenen Ergebnisse.
  • Tabelle II Beschichtungsdicken und Oberflächenzusammensetzungen
    Figure 00170001
  • 8 zeigt ein Diagramm der Oberflächenzusammensetzung (ESCA) über der Beschichtungsdicke von beschichteten Partikeln für die in Tabelle II quantifizierten Durchläufe. Die Atomprozentsätze der verschiedenen Komponenten auf der Oberfläche sind gezeigt. Wie erwartet ist, je größer die Beschichtungsdicke um so kleiner die Signale von dem Kernpartikelmaterial, hier Zink und Schwefel und je größer das Signal von dem Beschichtungsmaterial, hier Bor und Stickstoff. Die Partikeloberflächen erscheinen für Beschichtungsdicken über etwa 400 Angström im wesentlichen vollständig mit polymerem Aminoboran beschichtet zu sein.
  • Beispiel 3
  • Ein weiterer Beschichtungsdurchlauf wurde auf die gleiche Weise durchgeführt, wie die in Beispiel 2 beschriebenen neun Durchläufe, außer daß die Steigleitung eliminiert war, so daß sich das Ende der einen Vorläufer enthaltenden Gasleitung in dem Bett mit fluidisierten Partikeln selbst befand. 100 Gramm ZnS:Cu-Leuchtstoff wurden in diesem Durchlauf mit einer Bettemperatur von 45°C verwendet. Die Fluidisierungsgasströmungsrate betrug 1000 sccm, und die Waschflaschengasströmungsrate betrug 200 sccm. Alle diese Durchlaufparameter lagen in den in den neun in Beispiel 2 beschriebenen Durchläufen verwendeten Parameterbereichen.
  • Der Durchlauf wurde für 2,5 Stunden fortgesetzt, wonach die Gasströmungen gestoppt und das Bett gekühlt wurden. Das Leuchtstoffpartikelbett und das Ende der Vorläuferzufuhrleitung wurden untersucht. Während des Durchlaufs war die Temperatur der Vorläuferzufuhrleitung gleich der des Bettes aus fluidisierten Partikeln gewesen, mit dem es in Kontakt stand. Es stellte sich heraus, daß sich auf der Innenseite der Vorläuferzufuhrleitung polymeres Aminoboran abgeschieden hatte, so daß nur eine kleine Öffnung zurückblieb. Außerdem wurde beobachtet, daß der Teil des Beschichtungsvorläufers, der nicht auf der Innenseite des Zufuhrrohrs adsorbierte und reagierte, statt dessen schnell auf den Oberflächen der Leuchtstoffpartikel adsorbierte und reagierte, die sich in der Nähe des Endes des Gaszufuhrrohrs in dem Partikelbett befanden. Die sehr schnelle Abscheidung von polymerem Aminoboran in dem Partikelbett verursachte, daß sich die Leuchtstoffpartikel agglomerierten und aneinander hafteten. Tatsächlich wurden die Partikel durch das polymere Aminoboran so gut wie miteinander verklebt.
  • Dieses Beispiel zeigt die Tatsache, daß Dampfabscheidungsprozesse wie etwa die Abscheidung von polymerem Aminoboran un ter Verwendung eines traditionellen Wirbelbettabscheidungsverfahrens nicht erfolgreich durchgeführt werden können, bei dem die einen Vorläufer enthaltende Zufuhrleitung in dem Bett aus fluidisierten Partikeln endet. Andererseits können, wie in Beispiel 2 gezeigt, solche Abscheidungsprozesse unter Verwendung des neuen Wirbelbettpartikelbeschichtungsverfahrens, das beschrieben wird, sehr erfolgreich ausgeführt werden.
  • Beispiel 4
  • 9 zeigt einen Aufbau für eine Elektrolumineszenzlampe. Eine erste leitende Schicht 100 und eine zweite leitende Schicht 104 schließen eine ein Leuchtstoffmaterial enthaltende kapazitive Zwischenschicht ein. Die Lampe kann weiterhin mit Schutzschichten 106, 108 geschützt sein, um zu verhindern, daß Feuchtigkeit die Lampe verschlechtert. Elektrolumineszenzlampen von derartigem Standardaufbau wurden unter Verwendung der beschichteten Leuchtstoffe hergestellt, die in den ersten drei in dem obigen Beispiel 2 beschriebenen Durchläufen produziert wurden. Eine zusätzliche Lampe wurde unter Verwendung des unbeschichteten Leuchtstoffs hergestellt. Die Lampen wurden zwischen zwei Folien aus feuchtigkeitsdurchlässigem Kunststoffilm verpackt, so daß die Effektivität der Partikelbeschichtung als eine Feuchtigkeitsbarriere anhand einer Messung der Lampenhelligkeit als Funktion der Zeit beurteilt werden konnte.
  • Die Lampen wurden alle unter Verwendung einer Stromversorgung von 100 Volt und 400 Hertz in eine Atmosphäre mit 50% relativer Feuchtigkeit bei 21°C betrieben. Die ungefähren Beschichtungsdicken sind in Tabelle III zusammen mit den Elektrolumineszenzlampenhelligkeiten aufgeführt, nachdem sie 2 Stunden und 24 Stunden lang brannten. Aufgeführt sind auch die Unterschiede zwischen den Helligkeiten für 2 Stunden und 24 Stunden zusammen mit der prozentuellen Abnahme der Helligkeit zwischen einem Brennen von 2 und 24 Stunden. B(fL) in Tabelle III ist die Helligkeit in Foot-Lambert.
  • Tabelle III Beschichtungsdicke und EL-Lampe-Helligkeitsdaten
    Figure 00200001
  • Die Elektrolumineszenzlampen wurden getestet, um die Effektivität der Beschichtung beim Schützen der Lampen gegenüber abträglichen Effekten der Feuchtigkeit zu bestimmen. Die Lampenausgaben wurden dann nach 2 Stunden und 24 Stunden Betrieb bei 21°C, 100 Volt und 400 Hertz unter 50% relativer Feuchtigkeit abgetastet. 10 zeigt ein Diagramm der Elektrolumineszenzlampenhelligkeiten und Helligkeitsunterschiede über der Beschichtungsdicke in Angström. Anfänglich weist die Beschichtungsdicke auf die Helligkeit kaum einen Effekt auf. Nach 24 Stunden ist die verbleibende Helligkeit um so größer, oder gleichermaßen nach 24 Stunden ist die Helligkeitsabnahme um so geringer, je dicker die Beschichtung ist. 11 zeigt ein Diagramm der prozentualen Änderung bei der Elektrolumineszenzlampenhelligkeit über der Beschichtungsdicke. Wie in 10 und 11 gezeigt, nahm zwar die nach 2 Stunden Brennen gemessene Lampenhelligkeit mit zunehmender Beschichtungsdicke geringfügig ab, stieg die nach 24 Stunden Betrieb gemessene Helligkeit schnell mit zunehmender Beschichtungsdicke an. Diese Daten zeigen zusammen mit jenen in Beispiel 2 vorgelegten, daß unter Verwendung des neuen Partikelbeschichtungsverfahrens Schutzbeschichtungen gleichförmig auf Oberflächen von fluidisierten Partikulatmaterialien durch Dampfabscheidungsprozesse bei Temperaturen abgeschieden werden können, die niedriger liegen als jene der erhitzten Beschichtungsvorläufertransportleitungen. Wie in Beispiel 3 gezeigt, kann dies zudem nicht unter Verwendung herkömmlicher Wirbelbettpartikelbeschichtungsverfahren bewerkstelligt werden.
  • Zahlreiche Variationen hinsichtlich Gerät und Operation können erdacht werden. Beispielsweise beinhaltet das Verfahren solche Variationen wie etwa die Verwendung von mehreren Steigleitungen, einer einzelnen Steigleitung mit mehreren Auslässen und mehreren Steigleitungen mit einem einzelnen Auslaß. Man kann auch einen ersten Hauptreaktor mit einer ersten Steigleitung mit einem zweiten Hauptreaktor mit einer zweiten Steigleitung usw. verketten, wie in 12 gezeigt. Das verkettete System in 12 würde eine Feinsteuerung der Gesamtbeschichtung auf dem mittleren Partikel ermöglichen, da auf jedem schließlich erscheinenden Partikel genau N Schichten (die Anzahl der verketteten Steigleitungen) existieren würden. Alternativ würde das verkettete System in 12 abwechselnde Beschichtungsschichten ermöglichen, wobei jede Steigleitung in der Kette mit einem anderen Beschichtungsmaterial assoziiert ist. Gleichermaßen könnte jedes der nachfolgenden fluidisierenden Gase der Hauptreaktoren ein Reaktionspartner für die ankommende Beschichtungsschicht sein. Der oder die Steigleitungseinlässe können sich auf allen Höhen in dem Wirbelbett-Hauptreaktor befinden und analog für den oder die Hauptreaktorbettauslässe. Gleichermaßen können sich die Steigleitungseinlaß- und Steigleitungsauslaßrohröffnungen an jeder Position relativ zu der Hauptreaktorbettquerschnittsfläche befinden, beispielsweise in der Nähe der axialen Mitte des Bettes oder in der Nähe der Außenwand. Die Effizienz des pneumatischen Transports kann unabhängig von der Operation des Hauptreaktors gesteuert werden durch Justieren von Durchmesser und Länge des Wirbelbettes und des oder der Steigleitungsspeiseröhre, der Größen und Längen der Steigleitung(en) oder des oder der Steigleitungsgasströme.
  • In dem Schutzbereich dieses Verfahrens sind auch die bekannten Klassen von Beschichtungsabscheidungsreaktionen enthalten, die als Dampfabscheidungs- und Dampfabscheidungspolymerisationsreaktionen bekannt sind. Mit solchen Prozessen können nützliche Beschichtungen auf den Oberflächen der in einem Partikelwirbelbett enthaltenen individuellen Partikel nur abgeschieden werden, wenn die Partikeloberflächentemperaturen wesentlich unter jenen der Beschichtungsvorläufertransportleitungen liegen. Es ist schwierig, wenn nicht unmöglich, diese Situation unter Verwendung herkömmlicher Wirbelbettpartikelbeschichtungstechniken zu erzielen, bei denen die Temperatur des Endes der einen Vorläufer enthaltenden Gasleitung im wesentlichen die gleiche sein muß wie die des Partikelwirbelbettes, da sie in physischem Kontakt mit diesem Partikelbett steht. Siehe beispielsweise die Partikelbeschichtungspatente US 4,585,673 ; 5,051,277 und 5,080,928.
  • Es versteht sich, daß gemäß den beschriebenen Verfahren hergestellte beschichtete Leuchtstoffe vorteilhafterweise in Nieder- und Hochdruckentladungslampensystemen verwendet werden können. 13 zeigt eine schematische Ansicht einer Fluoreszenzlampe mit einer beschichteten Leuchtstoffschicht 80. 14 zeigt eine schematische Ansicht einer Hochdruckentladungslampe mit einer beschichteten Leuchtstoffschicht 82.
  • Wenngleich die Ausführungsformen der Erfindung gezeigt und beschrieben worden sind, die gegenwärtig als bevorzugt angesehen werden, versteht der Fachmann, daß daran zahlreiche Änderungen und Modifikationen vorgenommen werden können, ohne von dem Schutzbereich der Erfindung abzuweichen, wie er durch die beigefügten Ansprüche definiert wird.

Claims (15)

  1. Verfahren zum Herstellen eines Partikels mit einer umgesetzten Beschichtung, umfassen die folgenden Schritte: a) Bereitstellen einer bei einer ersten Temperatur T1 arbeitenden Hauptkammer, b) Lokalisieren vieler freier Partikel mit einer Kernzusammensetzung in der Hauptkammer; c) Bereitstellen einer mit einer Wandtemperatur T3 größer als T1 arbeitenden Steigleitungskammer, d) Bereitstellen einer Strömung aus einem Vorläuferbeschichtungsmaterial mit einer Kondensations- oder Reaktionstemperatur T4 unter T3, aber nicht unter T1, in die Steigleitungskammer, wobei die Vorläufermaterialströmung bei einer Strömungstemperatur T2 größer als T4 erfolgt; e) Bereitstellen einer Strömung der Partikel von der Hauptkammer bei einer Temperatur unter der Strömungstemperatur T2 und unter der Steigleitungskammerwandtemperatur T3 in die Steigleitungskammer zum engen Vermischen mit der Strömung aus dem Vorläufermaterial, wodurch die Partikel mit dem Vorläufermaterial beschichtet werden können; f) Führen der kombinierten Ströme der Partikel und Beschichtungsmaterial zu einer Austrittsströmung; g) Trennen der beschichteten Partikel von der Austrittsströmung und h) Zurückführen der beschichteten Partikel zu einer bei einer Temperatur unter der Reaktionstemperatur T4 arbeitenden Reaktorkammer.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Hauptkammer bei Schritt a die gleiche Kammer ist wie die Hauptreaktorkammer von Schritt h.
  3. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Hauptkammer von Schritt a nicht die gleiche Kammer ist wie die Hauptreaktorkammer von Schritt h.
  4. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die beschichteten Partikel aus der Austrittsströmung abgetrennt werden, indem gestattet wird, daß die Partikel aus der Austrittsströmung ausfallen.
  5. Verfahren nach Anspruch 1, wobei während der Trennung der beschichteten Partikel im wesentlichen alles nicht auf die Partikel aufgebrachtes verbleibendes Vorläufermaterial in der Austrittsströmung zurückgehalten wird.
  6. Verfahren nach Anspruch 1, wobei der Strom von Partikeln aus dem Hauptreaktor in der Nähe eines Gebietes eingeleitet wird, das unbeschichtete Partikel statistisch begünstigt.
  7. Verfahren nach Anspruch 1, wobei relativ zu der Vorläufermaterialtemperatur und -dichte die ankommenden Partikel eine ausreichende thermische Masse und eine ausreichend niedrige Temperatur aufweisen und die Partikel die Steigleitungskammer ausreichend schnell durchlaufen, daß die Partikel aus der Steigleitungskammer mit einer Kondensationsbeschichtung des Vorläufermaterials austreten.
  8. Verfahren nach Anspruch 1, wobei im wesentlichen alles aus der Steigleitungskammer austretende Vorläufermaterial als eine Beschichtung auf den Partikeln aufgebracht ist.
  9. Verfahren nach Anspruch 1, wobei die Temperatur des ankommenden Vorläufermaterials ausreichend über der Reaktionstemperatur des Vorläufermaterials liegt und ausreichend verdünnt ist, so daß im wesentlichen alles Vorläufermaterial auf den Partikeln kondensiert, wenn die Partikel die Steigleitungskammer durchlaufen, und wenig oder keines des Vorläufermaterials in den Hauptreaktor eintritt, das nicht auf die Partikel aufgebracht ist.
  10. Verfahren nach Anspruch 10, wobei das auf die Partikel aufgebrachte Vorläufermaterial im wesentlichen auf den Partikeln aufgebracht verbleibt, wenn die Partikel die Steigleitungskammer verlassen.
  11. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Beschichtungsmaterial durch Dampfabscheidung abgeschieden wird.
  12. Verfahren nach Anspruch 11, wobei das Beschichtungsmaterial eines einer Gruppe bestehend aus Paraffinen, Polyvinylidenfluorid, Polyethylen und Π-konjugierten stromleitenden Polymeren umfaßt wie etwa Poly(p-phenylen), Poly(2,5-thienylen), Poly(2,2'-bipyridin-5,5'-diyl) und Poly(pyridin-2-5-diyl).
  13. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Beschichtungsmaterial durch Dampfabscheidung aufgebracht wird.
  14. Verfahren nach Anspruch 13, wobei das Beschichtungsmaterial eines aus einer Gruppe bestehend aus polymerem Aminoboran, Poly(p-xylylen) und seinen Derivaten wie etwa (2,2)-Paracyclophan und 1,4-Dichlor-(2,2)-paracyclophan, p-Phenylen-terephthalamid, 4,4'-Diaminodiphenylether, Alkylpolyamid, Poly(decamethylen)therephthalamid und Poly(decamethylen)pyromellitsäure umfaßt.
  15. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Kernpartikel eine Zersetzungstemperatur größer als Temperatur T2 und größer als Temperatur T3 aufweist und das Beschichtungsmaterial ein Material umfaßt, ausgebildet durch eine Dampfabscheidungspolymerisationsreaktion bei einer Temperatur unter T2 und unter Temperatur T3.
DE60221208T 2001-09-27 2002-09-11 Beschichtung von Partikeln in einem Wirbelbett durch Abscheidung aus der Dampfphase Expired - Lifetime DE60221208T2 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US965497 1992-10-23
US09/965,497 US6602547B2 (en) 2001-09-27 2001-09-27 Method of coating particles by vapor deposition

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE60221208D1 DE60221208D1 (de) 2007-08-30
DE60221208T2 true DE60221208T2 (de) 2007-11-22

Family

ID=25510055

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE60221208T Expired - Lifetime DE60221208T2 (de) 2001-09-27 2002-09-11 Beschichtung von Partikeln in einem Wirbelbett durch Abscheidung aus der Dampfphase

Country Status (4)

Country Link
US (1) US6602547B2 (de)
EP (1) EP1298182B1 (de)
CA (1) CA2399481A1 (de)
DE (1) DE60221208T2 (de)

Families Citing this family (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7442227B2 (en) * 2001-10-09 2008-10-28 Washington Unniversity Tightly agglomerated non-oxide particles and method for producing the same
JP4208790B2 (ja) * 2004-08-10 2009-01-14 キヤノン株式会社 放射線検出装置の製造方法
KR20160105431A (ko) 2013-12-27 2016-09-06 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 컴파니 3차원 배열의 균일한 형상을 갖는 물체의 균일한 화학 증착 코팅
AU2018320958A1 (en) * 2017-08-24 2020-03-26 Forge Nano, Inc. Manufacturing processes to synthesize, functionalize, surface treat and/or encapsulate powders, and applications thereof
CN113984481B (zh) * 2021-11-11 2024-01-23 中国核动力研究设计院 一种制备性能表征样品的装置及方法

Family Cites Families (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4585673A (en) * 1984-05-07 1986-04-29 Gte Laboratories Incorporated Method for coating phosphor particles
JPS6414894A (en) * 1987-07-08 1989-01-19 Murata Manufacturing Co Electric field luminescent element
WO1990002546A1 (en) * 1988-09-09 1990-03-22 The Ronald T. Dodge Company Pharmaceuticals microencapsulated by vapor deposited polymers and method
US5080928A (en) * 1990-10-05 1992-01-14 Gte Laboratories Incorporated Method for making moisture insensitive zinc sulfide based luminescent materials
US5876793A (en) * 1996-02-21 1999-03-02 Ultramet Fine powders and method for manufacturing
US6064150A (en) * 1998-01-12 2000-05-16 Osram Sylvania Inc. Nitride coated particle and composition of matter comprised of such particles
US6733826B2 (en) * 2000-12-18 2004-05-11 Osram Sylvania Inc. Method and apparatus for coating electroluminescent phosphors

Also Published As

Publication number Publication date
DE60221208D1 (de) 2007-08-30
EP1298182B1 (de) 2007-07-18
US20030059530A1 (en) 2003-03-27
US6602547B2 (en) 2003-08-05
EP1298182A2 (de) 2003-04-02
CA2399481A1 (en) 2003-03-27
EP1298182A3 (de) 2006-02-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE10260733B4 (de) Verfahren und Anlage zur Wärmebehandlung von eisenoxidhaltigen Feststoffen
WO2007128821A2 (de) Verfahren zur herstellung von suspensionen nanopartikulärer feststoffe
DE10260737B4 (de) Verfahren und Anlage zur Wärmebehandlung von titanhaltigen Feststoffen
DE3043440A1 (de) Granulierverfahren und -vorrichtung
EP0568862A1 (de) Feinteiliges Metallpulver
DE102004033320A1 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von Nanopartikeln
CH664551A5 (de) Verfahren und vorrichtung zur herstellung von kugeln und die damit hergestellten kugeln.
DD141919A5 (de) Verfahren zur thermischen spaltung von aluminiumchloridhydrat
DE10260739B3 (de) Verfahren und Anlage zur Herstellung von Metalloxid aus Metallverbindungen
EP0061716A2 (de) Verfahren zur Nutzung der Abwärme und zur Gewinnung von Wassergas beim Kühlen von aus einem Kammerofen ausgestossenem glühenden Koks
DD214858A5 (de) Verfahren zur thermischen crackung von schweroel
DE60221208T2 (de) Beschichtung von Partikeln in einem Wirbelbett durch Abscheidung aus der Dampfphase
EP2391431B1 (de) Verfahren und vorrichtung zur kontinuierlichen reinigung eines feststoffgemisches durch fraktionierte sublimation/desublimation
EP1189835A1 (de) Sprühpyrolyse- oder sprühtrocknungsverfahren sowie anlage zur durchführung
WO2000049055A1 (de) VERFAHREN UND APPARAT ZUR GASPHASENPOLYMERISATION VON α-OLEFINEN
DE10260734B4 (de) Verfahren und Anlage zur Herstellung von Schwelkoks
DE4142814A1 (de) Auf umlaufmassentechnik basierendes verfahren zum abkuehlen von gasen und beim verfahren verwendbarer umlaufmassenkuehler
DE60204035T2 (de) Verfahren zur Herstellung oder Beschichtung von Granulaten, Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens und hiernach erhältliche Granulate
US6773813B2 (en) Particles with vapor deposition coating
DE10319742A1 (de) Pulverisierte organische Halbleiter und Verfahren zum Aufdampfen auf einen Träger
DE10331364B3 (de) Verfahren und Anlage zur Herstellung von Metalloxid aus Metallhydroxid
DE2306004A1 (de) Verfahren zur herstellung von traegermaterialien zur verwendung in elektrophotographischen verfahren
EP0103579B1 (de) Vorrichtung und verfahren zum trocknen von pulverförmigen und agglomerierten oder gekörnten feststoffen
DE102022102320A1 (de) Vorrichtung und Verfahren zur Produktion von Siliziumkarbid
DE2457382C3 (de) Verfahren zur Herstellung von Pulveranstrichmassen

Legal Events

Date Code Title Description
8364 No opposition during term of opposition