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Die
Erfindung bezieht sich auf eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung,
die eine Fläche,
durch die Licht durchgehen kann, um Bilder auf einem Bildschirm
zu bilden, und eine Fläche
aufweist, an der Licht reflektiert wird, um Bilder auf einem Bildschirm zu
bilden.
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Eine
Flüssigkristallanzeigevorrichtung
hat die Vorteile, dass sie dünn
ist und dass sie wenig Leistung verbraucht. Aufgrund der Vorteile
werden Flüssigkristallanzeigevorrichtungen
häufig
verwendet, zum Beispiel für Überwachungsbildschirme
bei verschiedenen Anzeigen.
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Anders
als eine Braun'sche
Röhre (CRT)
und eine Elektrolumineszenzanzeigevorrichtung (EL) weist eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung
nicht eine Funktion des Emittierens von Licht auf. Daher muss die
Flüssigkristallanzeigevorrichtung
eine Lichtquelle separat von dem Bildschirm aufweisen. In Abhängigkeit
von der Art der Lichtquelle wird die Flüssigkristallanzeigevorrichtung
in eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichttransmission und in eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichtreflexion gruppiert.
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Die
Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichttransmission enthält
eine Lichtquelle an der Rückseite
und sie zeigt Bilder an, indem zwischen Transmission und Unterbrechung
des Lichts (das als "Rücklicht" bezeichnet wird)
geschaltet wird, das von der Lichtquelle ausgestrahlt wird.
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Bei
einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung der
Art mit Lichttransmission beträgt
die Leistung, die für
das Ausstrahlen des Rücklichts
verbraucht wird, 50 % oder mehr der gesamten Leistungsaufnahme. Das
bedeutet, dass die Lichtquelle für
das Ausstrahlen des Rücklichts
eine starke Leistungsaufnahme bei der Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art der Lichttransmission verursacht.
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Um
diesen oben erwähnten
Nachteil der Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichttransmission zu lösen,
ist eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichtreflexion vorgeschlagen worden.
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Die
Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art mit Lichtreflexion enthält
eine Licht reflektierende Platte, bei der Umgebungslicht reflektiert
wird. Bilder werden auf einem Bildschirm angezeigt, indem zwischen
Transmission und Unterbrechung des Lichts geschaltet wird, das von
der Licht reflektierenden Platte reflektiert worden ist. Anders
als die Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichttransmission braucht die Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichtreflexion keine Lichtquelle aufzuweisen, und somit
kann die Leistungsaufnahme im Vergleich mit der Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichttransmission verringert werden.
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Zum
Beispiel wird eine handliche Kommunikationsvorrichtung wie ein Mobiltelefon
häufig
draußen
verwendet und kann somit Umgebungslicht als reflektiertes Licht
verwenden. Aus diesem Grund ist eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichtreflexion für
den Bildschirm einer handlichen Kommunikationsvorrichtung geeignet.
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Wenn
das Umgebungslicht nicht hell ist, tritt allerdings bei der Flüssigkristallanzeigevorrichtung der
Art Lichtreflexion, die das Umgebungslicht als reflektiertes Licht
verwendet, das Problem auf, dass der Nutzer nicht klar den Bildschirm
erkennen kann.
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Wenn
das Umgebungslicht sehr hell ist, tritt andererseits im Gegensatz
zu der Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art mit Lichtreflexion bei der Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art mit Lichttransmission das Problem auf, dass die Bilder,
die auf dem Bildschirm angezeigt werden, im Vergleich mit dem Umgebungslicht
dunkel erscheinen.
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Um
diese Probleme zu lösen,
ist eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichtreflexion und Lichttransmission vorgeschlagen worden,
die es in einem einzelnen Flüssigkristallanzeigepaneel
erreicht, sowohl Bilder anzuzeigen, indem teilweise Licht transmittiert
wird, als auch Bilder anzuzeigen, indem teilweise Licht reflektiert
wird.
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Als
ein Beispiel ist in der 1 eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichtreflexion und Lichttransmission dargestellt, die in
dem japanischen Patent Nr. 2955277 (B2) (japanische Offenlegungsschrift
Nr. 11-101992 (A)) vorgeschlagen wurde.
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Die
dargestellte Flüssigkristallanzeigevorrichtung
weist ein Substrat 100 der aktiven Matrix, ein gegenüberliegendes
Substrat 110, das gegenüber dem
Substrat 100 der aktiven Matrix liegt, und eine Flüssigkristallschicht 120 auf,
die zwischen dem Substrat 100 der aktiven Matrix und dem
gegenüberliegenden
Substrat 110 angeordnet ist.
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Das
Substrat 100 der aktiven Matrix weist ein erstes transparentes
Substrat 101, eine Phasenverschiebungsplatte 102,
die auf dem ersten transparenten Substrat 101 auf der gegenüberliegenden
Seite der Flüssigkristallschicht 120 gebildet
ist, und einen Polarisator 103 auf, der auf der Phasenverschiebungsplatte 102 gebildet
ist.
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Eine
Rücklichtquelle 104 ist
unter dem Polarisator 103 angeordnet.
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Das
gegenüberliegende
Substrat 110 weist ein zweites transparentes Substrat 111,
eine Phasenverschiebungsplatte 112, die auf dem zweiten
transparenten Substrat 111 gebildet ist, und einen Polarisator 113 auf,
der auf der Phasenverschiebungsplatte 112 gebildet ist.
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Das
erste transparente Substrat 101 weist einen ersten Bereich
A, bei dem das Licht, das von der Rücklichtquelle 104 ausgestrahlt
wurde, durch das Substrat 100 der aktiven Matrix, die Flüssigkristallschicht 120 und
das gegenüberliegende
Substrat 110 geht, und einen zweiten Bereich B auf, bei
dem eingehendes Licht reflektiert wird.
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Eine
elektrisch leitende transparente Schicht 105 ist auf dem
ersten transparenten Substrat 101 in dem ersten Bereich
A gebildet.
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Eine
elektrisch isolierende Schicht 106, die erhobene und vertiefte
Bereiche aufweist, und eine Licht reflektierende Platte 107,
die die elektrisch isolierende Schicht 106 abdeckt, sind
auf dem ersten transparenten Substrat 101 in dem zweiten
Bereich B gebildet.
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Ein
Licht 130, das von der Rücklichtquelle 104 ausgestrahlt
wurde, geht durch die elektrisch leitende transparente Schicht 105,
um bestimmte Bilder auf dem Flüssigkristallanzeigepaneel
zu bilden. Ein Licht 140, das von außen in die Flüssigkristallanzeigevorrichtung
gelangt, wird bei der Licht reflektierenden Platte 107 reflektiert,
um bestimmte Bilder auf dem Flüssigkristallanzeigepaneel
zu bilden.
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Die
Phasenverschiebungsplatten 102 und 112 stellen
eine Phasenverschiebung mit einer viertel Länge (λ/4) für das transmittierte Licht
und das reflektierte Licht bereit. Das transmittierte Licht und
das reflektierte Licht werden in ein linear polarisiertes Licht aus
einem zirkular polarisierten Licht oder umgekehrt umgewandelt, wenn
sie durch die Polarisatoren 103 und 113 gehen.
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Wie
in der 1 dargestellt ist, ist die elektrisch isolierende
Schicht 106 nicht unter der elektrisch leitenden transparenten
Schicht 105 gebildet. Somit wird es möglich, eine optische Länge des Lichts
in der Flüssigkristallschicht 120,
bei der das Licht die Flüssigkristallschicht 120 in
einer Hin- und Herbewegung in dem zweiten Bereich B passiert, und
eine optische Länge
des Lichts in der Flüssigkristallschicht 120,
bei der das Licht die Flüssigkristallschicht 120 in
dem ersten Bereich A passiert, miteinander anzugleichen, indem eine
Zelllücke
in dem ersten Bereich A bestimmt wird, das heißt, dass eine Dicke Df der
Flüssigkristallschicht 120 größer als
eine Zelllücke
Dr in dem zweiten Bereich B ist. Demzufolge wird es möglich, die
optischen Charakteristiken des Lichts, das durch die Flüssigkristallschicht 120 in dem
ersten Bereich A und in dem zweiten Bereich B geht, so zu steuern,
dass die optischen Charakteristiken auf dieselbe Weise variieren.
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Allerdings
tritt bei der herkömmlichen
Flüssigkristallanzeigevorrichtung,
die in der 1 dargestellt ist, das Problem
auf, dass, wenn die Charakteristiken zum Anzeigen der Bilder über reflektiertes Licht
optimiert werden, die Leuchtdichte abgesenkt wird, weil die Zelllücke Df in
dem ersten Bereich A größer als
die Zelllücke
Dr in dem zweiten Bereich B ist. Der Grund dafür liegt darin, dass der Drehwinkel des
Flüssigkristalls
ungefähr
gleich 72 Grad ist, wenn diese Charakteristiken optimiert sind,
und dass die Intensität
des Transmissionslichts bei einem Drehwinkel von ungefähr 72 Grad
unter der Bedingung von Df < Dr
abgesenkt ist.
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In
US-B1-6195140, die alle Merkmale von dem Oberbegriff des Anspruches
1 in Kombination offenbart, ist eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung offenbart,
die die Vorteile der Transmissionsmodusanzeige und der Reflexionsmodusanzeige
kombiniert. Die Flüssigkristallanzeigevorrichtung
weist ein erstes Substrat, ein zweites Substrat und eine Flüssigkristallschicht
auf, die zwischen dem ersten Substrat und dem zweiten Substrat angeordnet
ist. Das erste Substrat weist eine Anzahl an Gateleitungen, eine
Anzahl an Sourceleitungen, eine Anzahl an Schaltelementen und eine
Anzahl an Bildpunktelektroden auf, die mit der Anzahl der Schaltelemente
verbunden sind. Das zweite Substrat weist eine Gegenelektrode auf.
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In
Anbetracht dieser Probleme bei den herkömmlichen Flüssigkristallanzeigevorrichtungen
ist es eine Aufgabe der vorliegenden Erfindung, eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichttransmission und Lichtreflexion bereitzustellen, die
die Verringerung in der Helligkeit vermeiden kann, wenn sie als
eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichttransmission verwendet wird, und die sowohl Kontrast
als auch Leuchtdichte erhöhen
kann, wenn sie als eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichtreflexion verwendet wird.
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Diese
und andere Aufgaben der vorliegenden Erfindung werden durch eine
Flüssigkristallanzeigevorrichtung
nach dem unabhängigen
Anspruch 1 gelöst.
Die abhängigen
Ansprüche
behandeln vorteilhafte Weiterentwicklungen der vorliegenden Erfindung.
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Die
Vorteile, die durch die vorliegende Erfindung erhalten werden, werden
nachfolgend beschrieben.
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In Übereinstimmung
mit dieser Flüssigkristallanzeigevorrichtung
ist es möglich,
einen verdrehten nematischen Flüssigkristall
zu verwenden, der einen großen
Spielraum der Lücke
aufweist, eine sehr weißfarbige
Anzeige zu erreichen, wenn die Bilder über reflektiertes Licht dargestellt
werden, und die Bilder klar mit hohem Kontrast darzustellen, wenn
die Bilder über
transmittiertes Licht angezeigt werden.
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Der
Grund dafür
ist wie folgt.
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Wenn
eine Flüssigkristallvorrichtung,
die für ein
Lichtreflexionspaneel verwendet wird, konstruiert wird, wird ein
beliebiger Winkel außer
90 Grad ausgewählt,
wobei die Anzeigecharakteristiken beim Anzeigen der Bilder über reflektiertes
Licht berücksichtigt
werden. Selbst wenn eine Spannung an den Flüssigkristallmolekülen angelegt
wird, werden allerdings die Flüssigkristallmoleküle, die
sich in der Nähe
des oberen und des unteren Substrats befinden, nicht auf einen anderen
Drehwinkel als 90 Grad ansteigen, was bewirkt, dass ein hoher Kontrast
aufgrund des Vorhandenseins einer verbleibenden Doppelbrechung nicht
erhalten werden kann.
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Die
Flüssigkristallanzeigevorrichtung
eines ersten Beispiels erhöht
die Doppelbrechung der ersten Phasenverschiebungsplatte, um dadurch
zu bewirken, dass die ersten Phasenverschiebungsplatten parallel
mit einem Ellipsoiden der restlichen Doppelbrechung sind, und um
die restliche Phasenverschiebung zu beseitigen. Zusätzlich kompensiert
die Kombination der ersten und der zweiten Phasenverschiebungsplatten
die Phasenverschiebung in einem weiten Bereich und stellt ein hohes
Kontrastverhältnis dar.
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KURZE BESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
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1 ist
eine Querschnittsdarstellung einer herkömmlichen Flüssigkristallanzeigevorrichtung.
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2 ist
eine Querschnittsdarstellung einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung
eines Beispiels.
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3 ist
eine Draufsicht der Flüssigkristallanzeigevorrichtung,
die in der 2 dargestellt ist.
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4A zeigt
ein erstes Beispiel einer Beziehung zwischen den Anordnungswinkeln
der Phasenverschiebungsplatten in der Flüssigkristallanzeigevorrichtung,
die in der 2 dargestellt ist.
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4B ist
eine Darstellung, die eine Beziehung zwischen der Rate der Transmission
oder der Reflexion und der Spannung zeigt, die an den Flüssigkristall
in der Flüssigkristallanzeigevorrichtung
angelegt werden soll, die in der 4A dargestellt
ist.
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5A zeigt
ein zweites Beispiel einer Beziehung zwischen den Anordnungswinkeln
der Phasenverschiebungsplatten in der Flüssigkristallanzeigevorrichtung,
die in der 2 dargestellt ist.
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5B ist
eine Darstellung, die eine Beziehung zwischen der Rate der Transmission
oder der Reflexion und der Spannung zeigt, die an den Flüssigkristall
in der Flüssigkristallanzeigevorrichtung
angelegt werden soll, die in der 5A dargestellt
ist.
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6A zeigt
ein drittes Beispiel einer Beziehung zwischen den Anordnungswinkeln
der Phasenverschiebungsplatten in der Flüssigkristallanzeigevorrichtung,
die in der 2 dargestellt ist.
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6B ist
eine Darstellung, die eine Beziehung zwischen der Rate der Transmission
oder der Reflexion und der Spannung zeigt, die an den Flüssigkristall
in der Flüssigkristallanzeigevorrichtung
angelegt werden soll, die in der 6A dargestellt
ist.
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7A zeigt
ein vieries Beispiel einer Beziehung zwischen den Anordnungswinkeln
der Phasenverschiebungsplatten in der Flüssigkristallanzeigevorrichtung,
die in der 2 dargestellt ist.
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7B ist
eine Darstellung, die eine Beziehung zwischen der Rate der Transmission
oder der Reflexion und der Spannung zeigt, die an den Flüssigkristall
in der Flüssigkristallanzeigevorrichtung
angelegt werden soll, die in der 7A dargestellt
ist.
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8A und 8B sind
Darstellungen, die die Ergebnisse einer Simulation der Beziehung
zwischen der Zelllücke
und der Transmissionsrate zeigen.
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9A bis 9G sind
Querschnittsdarstellungen der Flüssigkristallanzeigevorrichtung,
die in der 2 dargestellt ist, wobei die
entsprechenden Schritte eines Verfahrens zur Herstellung derselben gezeigt
sind.
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10 ist
ein Blockschaltbild eines ersten Beispiels einer elektronischen
Vorrichtung, für
die die Flüssigkristallanzeigevorrichtung.
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11 ist
ein Blockschaltbild eines zweiten Beispiels einer elektronischen
Vorrichtung, für
die die Flüssigkristallanzeigevorrichtung.
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Bevorzugte
Ausführungsbeispiele
in Übereinstimmung
mit der vorliegenden Erfindung werden nachfolgend unter Bezug auf
die Zeichnungen beschrieben.
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2 ist
eine Querschnittsdarstellung einer Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 eines
Beispiels.
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Die
Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 in Übereinstimmung
mit dem ersten Ausführungsbeispiel
weist ein Substrat 20 der aktiven Matrix, ein gegenüberliegendes
Substrat 40, das dem Substrat 20 der aktiven Matrix
gegenüberliegt,
eine Flüssigkristallschicht 50,
die zwischen dem Substrat 20 der aktiven Matrix und dem
gegenüberliegenden
Substrat 40 angeordnet ist, und eine Rücklichtquelle 30 auf, die
unter dem Substrat 20 der aktiven Matrix angeordnet ist.
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Das
Substrat 20 der aktiven Matrix weist ein erstes transparentes
Substrat 21, eine Gateisolationsschicht 22, die
auf dem ersten transparenten Substrat 21 gebildet ist,
eine erste elektrische Isolationsschicht 23, die auf der
Gateisolationsschicht 22 gebildet ist, eine zweite elektrische
Isolationsschicht 24, die auf der Gateisolationsschicht 22 gebildet
ist, um die erste elektrische Isolationsschicht 23 damit abzudecken,
eine Lichtreflexionselektrode 25, die auf der zweiten elektrischen
Isolationsschicht 24 gebildet ist, eine transparente Elektrode 26,
die auf der zweiten elektrischen Isolationsschicht 24 so
gebildet ist, dass die transparente Elektrode 26 teilweise
die Lichtreflexionselektrode 25 überlappt, einen Dünnschichttransistor 31,
der auf dem ersten transparenten Substrat 21 gebildet ist,
eine erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27, die auf dem
ersten transparenten Substrat 21 auf der gegenüberliegenden
Seite der Flüssigkristallschicht 50 gebildet
ist, eine zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28, die auf
der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 gebildet ist,
und einen ersten Polarisator 29 auf, der auf der zweiten
1. Phasenverschiebungsplatte 28 gebildet ist.
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Die
Rücklichtquelle 30 ist
unmittelbar unter dem ersten Polarisator 29 angeordnet.
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Das
gegenüberliegende
Substrat 40 weist ein zweites transparentes Substrat 41,
eine erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42, die auf dem
zweiten transparenten Substrat 41 gebildet ist, eine zweite
2. Phasenverschiebungsplatte 43, die auf der ersten 2. Phasenverschiebungsplatte 42 gebildet
ist, und einen zweiten Polarisator 44 auf, der auf der
zweiten 2. Phasenverschiebungsplatte 43 gebildet ist.
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Das
gegenüberliegende
Substrat 40 weist weiterhin eine transparente Elektrode
(nicht dargestellt) und eine Ausrichtungsschicht (nicht dargestellt)
auf, die auf dem zweiten transparenten Substrat 41 in Kontakt
mit der Flüssigkristallschicht 50 gebildet
ist.
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Das
Substrat 20 der aktiven Matrix weist weiterhin eine Ausrichtungsschicht
(nicht dargestellt) auf, die sowohl auf der Lichtreflexionselektrode 25 und
der transparenten Elektrode 26 in Kontakt mit der Flüssigkristallschicht 50 gebildet
ist.
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Das
Substrat 20 der aktiven Matrix weist einen ersten Bereich
A, durch den das Licht gehen kann, und einen zweiten Bereich B auf,
bei dem eingehendes Licht reflektiert wird. Die Lichtreflexionselektrode 25 ist
in dem zweiten Bereich B gebildet und die transparente Elektrode 26 ist
in dem ersten Bereich A gebildet.
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Bei
dem zweiten Bereich B ist die erste elektrisch isolierende Schicht 23 bei
Stellen in Form von Vorsprüngen
gebildet, und die zweite elektrisch isolierende Schicht 24,
die die erste elektrisch isolierende Schicht damit abdeckt, ist
ausgebildet, erhobene und abgesenkte Bereiche aufzuweisen. Bei dem
ersten Bereich A ist die erste elektrisch isolierende Schicht 23 eben
ausgestaltet. Somit weist bei dem zweiten Bereich B die Lichtreflexionselektrode 25, die
auf der zweiten elektrisch isolierenden Schicht 24 gebildet
ist, auch erhobene und abgesenkte Bereich auf, und ist in dem ersten
Bereich A die transparente Elektrode 26, die auf der zweiten
elektrisch isolierenden Schicht 24 gebildet ist, auch eben
ausgestaltet.
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Die
Struktur der Flüssigkristallanzeigevorrichtung
des Beispiels ist nicht auf die Struktur beschränkt, die in der 2 dargestellt
ist. Zum Beispiel kann die erste elektrisch isolierende Schicht 23 in
Punkten in der Form eines Vorsprungs ausgebildet sein und kann die
zweite elektrisch isolierende Schicht 24, die die erste
elektrisch isolierende Schicht 23 damit abdeckt, ausgebildet
sein, ähnlich dem
zweiten Bereich B erhobene und vertiefte Bereiche auch in dem ersten
Bereich A aufzuweisen.
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Die
erste elektrisch isolierene Schicht 23 kann eben ausgestaltet
sein und die zweite elektrisch isolierende Schicht 24 kann
auch in dem zweiten Bereich B eben ausgestaltet sein, in diesem
Fall wird das reflektierte Licht von dem gegenüberliegenden Substrat 40.
gestreut.
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Das
Licht, das von der Rücklichtquelle 30 emittiert
wurde, geht durch den ersten Bereich A, um damit bestimmte Bilder
auf dem Flüssigkristallpaneel anzuzeigen.
Ein einfallendes Licht 160, das von außen in die Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 eindringt, wird
bei der Lichtreflexionselektrode 25 reflektiert, um damit
bestimmte Bilder auf dem Flüssigkristallpaneel
anzuzeigen.
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Der
Dünnschichttransistor 31 weist
eine Gateelektrode 32, die auf dem ersten transparenten Substrat 21 gebildet
ist, eine Schicht 33a amorphen Siliciums (a-Si), die auf
der Gateisolationsschicht 22 über der Gateelektrode 32 gebildet
ist, eine n+ Schicht 33b amorphen Siliciums (a-Si), die
teilweise auf der Schicht 33a amorphen Siliciums gebildet
ist, eine Drainelektrode 34, die auf der Gateisolationsschicht 22 gebildet
ist, die die n+ Schicht 33b amorphen Siliciums und die
Schicht 33a amorphen Siliciums damit abdeckt, und eine
Sourceelektrode 35 auf, die auf der Gateisolationsschicht 22 gebildet
ist, die die n+ Schicht 33b amorphen Siliciums und die Schicht 33a amorphen
Siliciums damit abdeckt.
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Die
Lichtreflexionselektrode 25 stellt einen elektrischen Kontakt
mit der Sourceelektrode 35 bei einem Kontakt 36 her.
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Die
erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 weist eine Phasenverschiebung
von 140 nm auf und die zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28 weist eine
Phasenverschiebung von 250 nm auf.
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Die
erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 kann eine Phasenverschiebung
in dem Bereich von 135 nm bis 160 nm aufweisen und die zweite 1.
Phasenverschiebungsplatte 28 kann eine Phasenverschiebung
in dem Bereich von 250 nm bis 300 nm aufweisen.
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3 ist
eine Draufsicht der Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 des
Beispiels. Die 2 entspricht einer Querschnittsdarstellung
entlang der Linie II-II in der 3.
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Wie
in der 3 dargestellt ist, enthält das Substrat 20 der
aktiven Matrix Gateleitungen 1 und Drainleitungen 2,
die sich senkrecht zueinander erstrecken. Als eine Schaltvorrichtung
ist der Dünnschichttransistor 31 in
jedem der Bildelemente angeordnet, die durch die Gateleitungen 1 und
die Drainleitungen 2 bestimmt sind.
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Die
Lichtreflexionselektrode 25 reflektiert das Licht, das
in jedes der Bildelemente eindringt. Eine Spannung wird an die Flüssigkristallschicht 50, die
zwischen dem Substrat 20 der aktiven Matrix und dem gegenüberliegenden
Substrat 40 angeordnet ist, über die Lichtreflexionselektrode 25 angelegt.
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Die
transparente Elektrode 26, die angrenzend zu der Lichtreflexionselektrode 25 gebildet
ist, ermöglicht
dem Licht, das von der Rücklichtquelle 30 emittiert
wurde, da durchzugehen.
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Die
Gateelektrode 32 ist elektrisch mit den Gateleitungen 1 verbunden,
die Drainelektrode 34 ist elektrisch mit den Drainleitungen 2 verbunden
und die Sourceelektrode 35 ist elektrisch mit der Lichtreflexionselektrode 25 verbunden.
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Es
wird angenommen, dass die erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 eine
optische Achse aufweist, die mit einem ersten Winkel in Bezug zu
einer Bezugsrichtung angeordnet ist, dass die erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42 eine
optische Achse aufweist, die mit einem zweiten Winkel in Bezug zu der
Bezugsrichtung angeordnet ist, und dass sich der erste und der zweite
Winkel voneinander um ungefähr
90 Grad unterscheiden. Ähnlich
wird angenommen, dass die zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28 eine
optische Achse aufweist, die mit einem dritten Winkel in Bezug zu
einer Bezugsrichtung angeordnet ist, dass die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 eine
optische Achse aufweist, die mit einem vierten Winkel in Bezug zu
der Bezugsrichtung angeordnet ist, und dass sich der dritte und
der vierte Winkel voneinander um ungefähr 90 Grad unterscheiden.
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Nachfolgend
wird der Winkel, bei dem die optische Achse der Phasenverschiebungsplatte
in Bezug zu der Bezugsrichtung angeordnet ist, als ein Anordnungswinkel
bezeichnet.
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Insbesondere
wird angenommen, dass erste bis N-te 1. Phasenverschiebungsplatten
auf dem ersten transparenten Substrat 21 so gebildet sind,
dass eine K-te 1. Phasenverschiebungsplatte näher dem ersten transparenten
Substrat 21 als eine (K + 1)-te 1. Phasenverschiebungsplatte
angeordnet ist, wobei K eine ganze Zahl ist, die gleich oder größer als
Eins, aber gleich oder kleiner als (N – 1) ist, und dass die ersten
bis N-ten 2. Verzögerungsplatten
auf dem zweiten transparenten Substrat 41 so gebildet sind, dass
eine K-te 1. Phasenverschiebungsplatte näher dem zweiten transparenten
Substrat 41 als eine (K + 1)-te 1. Phasenverschiebungsplatte
angeordnet ist, dass eine K-te 1. Phasenverschiebungsplatte einer K-te
2. Phasenverschiebungsplatte entspricht, und dass die Winkel der
entsprechenden 1. und 2. Phasenverschiebungsplatten, mit denen deren
optische Achsen in Bezug zu einer Bezugsrichtung angeordnet sind,
sich voneinander um ungefähr
90 Grad unterscheiden.
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Bei
den Beispielen, die nachfolgend erklärt werden, wird die Bezugsrichtung
als die Richtung definiert, die senkrecht zu einer Richtung ist,
in der die Flüssigkristallmoleküle, die
bei der Mitte in einer Richtung der Dicke der Flüssigkristallschicht 50 vorliegen,
ausgerichtet sind, und wird die Richtung, in der die Flüssigkristallmoleküle in der
Flüssigkristallschicht 50 startend
von dem gegenüberliegenden Substrat 40 zu
dem Substrat 20 der aktiven Matrix gedreht sind, als positive
Drehrichtung definiert ist.
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Bei
dem ersten Beispiel sind in dem zweiten Bereich B die erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42,
die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 und der zweite
Polarisator 44 ausgestaltet, eine Phasenverschiebung und
einen Anordnungswinkel in Übereinstimmung
mit der japanischen Patentanmeldung Nr. 2001-022485 aufzuweisen,
die eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichtreflexion vorschlägt,
die verhindern kann, dass angezeigte Bilder gefärbt werden, wenn Schwarz angezeigt
wird, und die einen hohen Kontrast der angezeigten Bilder darstellt.
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Dann
sind dort jeweils die Phasenverschiebungsplatten, die dieselbe Phasenverschiebung
wie die ersten 2. Phasenverschiebungsplatte 42, der zweiten
2. Phasenverschiebungsplatte 43 und des zweiten Polarisators 44 aufweisen,
als die erste 1. Phasenver schiebungsplatte 27, die zweite
1. Phasenverschiebungsplatte 28 und der erste Polarisator 29 vorbereitet,
die alle von dem ersten Bereich A beeinflusst sind. Die Anordnungswinkel
zwischen den entsprechenden Phasenverschiebungsplatten und den Polarisatoren
sind ausgestaltet, um sich voneinander um ungefähr 90 Grad zu unterscheiden.
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Die 4A zeigt
das erste Beispiel, das die Beziehung zwischen den Anordnungswinkeln
der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 und der ersten
2. Phasenverschiebungsplatte 42 und weiterhin die Beziehung
zwischen den Anordnungswinkeln der zweiten 1. Phasenverschiebungsplatte 28 und
der zweiten 2. Phasenverschiebungsplatte 43 zeigt.
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Die 4B ist
eine Darstellung, die die Beziehung zwischen der Spannung, die an
den Flüssigkristall
angelegt werden soll, und einer Lichttransmissionsrate (oder einer
Lichtreflexionsrate) in dem ersten Beispiel zeigt.
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Wie
in der 4A dargestellt ist, weist bei dem
ersten Beispiel der erste Polarisator 29 eine Absorptionsachse
auf, die um 0 Grad in Bezug zu der Bezugsrichtung geneigt ist, und
weist der zweite Polarisator 44 eine Absorptionsachse auf,
die um 90 Grad in Bezug zu der Bezugsrichtung geneigt ist.
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Das
Substrat 20 der aktiven Matrix weist einen Reibewinkel
von 126 Grad auf und das gegenüberliegende
Substrat 40 weist einen Reibewinkel von 54 Grad auf.
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Bei
dem ersten Beispiel weisen die erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 und
die erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42 eine Phasenverschiebungsplatte
auf, die eine Phasenverschiebung von ungefähr einer viertel Wellenlänge (λ/4) aufweist,
wohingegen die zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28 und
die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 eine Phasenverschiebungsplatte
aufweisen, die eine Phasenverschiebung von ungefähr einer halben Wellenlänge (λ/2) aufweist.
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Die
erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 weist einen Anordnungswinkel
von 105 Grad auf. Die erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42,
die der ersten 1. Phasenverschiebungs platte 27 entspricht, weist
einen Anordnungswinkel von 15 Grad auf. Somit weichen die Anordnungswinkel
zwischen der ersten 1. Verschiebungsplatte 27 und der ersten
2. Verschiebungsplatte 42 voneinander um 90 Grad ab.
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Die
zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28 weist einen Anordnungswinkel
von 165 Grad auf. Die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43,
die der zweiten 1. Phasenverschiebungsplatte 28 entspricht, weist
einen Anordnungswinkel von 76 Grad auf. Somit weichen die Anordnungswinkel
zwischen der zweiten 1. Phasenverschiebungsplatte 28 und
der zweiten 2. Phasenverschiebungsplatte 43 voneinander
um ungefähr
90 Grad (genauer gesagt 89 Grad) ab.
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Somit
wurde eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung
hergestellt, die die erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27,
die zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28, die erste 2.
Phasenverschiebungsplatte 42 und die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 aufweist,
wobei sie alle diese Beziehungen hinsichtlich der Anordnungswinkel
aufweisen, und wurde ein Kontrastverhältnis gemessen, wenn Bilder
durch Transmissionslicht dargestellt wurden, das durch den ersten
Bereich A gegangen ist.
-
Das
gemessene Kontrastverhältnis
betrug 105.
-
Das
gemessene Kontrastverhältnis
ist verbessert im Vergleich mit einem Kontrastverhältnis einer
herkömmlichen
Flüssigkristallanzeigevorrichtung,
deren Kontrastverhältnis
gleich oder kleiner als 100 ist.
-
Die 5A stellt
das zweite Beispiel dar, das die Beziehung zwischen den Anordnungswinkeln
der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 und der ersten
2. Phasenverschiebungsplatte 42 und weiterhin zwischen
den Anordnungswinkeln der zweiten 1. Phasenverschiebungsplatte 28 und
der zweiten 2. Phasenverschiebungsplatte 43 zeigt.
-
Die 5B ist
eine Darstellung, die die Beziehung zwischen der Spannung, die an
den Flüssigkristall
angelegt werden soll, und der Lichttransmissionsrate (oder der Lichtreflexionsrate)
in dem zweiten Beispiel zeigt.
-
Die
erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42, die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 und
der zweite Polarisator 44 in dem zweiten Beispiel sind ausgestaltet,
die gleichen Phasenverschiebungen und Anordnungswinkel wie bei dem
ersten Beispiel aufzuweisen.
-
Die
erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 ist ausgestaltet,
eine Phasenverschiebung aufzuweisen, die von der des ersten Beispiels
um 3 nm bei deren Mitte abweicht, um die restliche Phasenverschiebung
mit der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 zu kompensieren.
Allerdings kann erachtet werden, dass die erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 im
Wesentlichen dieselbe Phasenverschiebung wie die des ersten Beispiels
aufweist. Wohingegen die erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 und
die zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28 ausgestaltet sind,
Anordnungswinkel aufzuweisen, die sich von denen des ersten Beispiels
unterscheiden, und die Abweichung zwischen den Anordnungswinkeln
der ersten und der zweiten 2. Verzögerungsplatten 42 und 43 ist
auf außerhalb
von 90 Grad bestimmt.
-
Wie
in der 5A dargestellt ist, weist bei dem
zweiten Beispiel der erste Polarisator 29 eine Absorptionsachse
auf, die um –1
Grad in Bezug auf die Bezugsrichtung geneigt ist, und weist der
zweite Polarisator 44 eine Absorptionsachse auf, die um
90 Grad in Bezug auf die Bezugsrichtung geneigt ist.
-
Das
Substrat 20 der aktiven Matrix weist einen Reibewinkel
von 126 Grad auf und das gegenüberliegende
Substrat 40 weist einen Reibewinkel von 54 Grad auf.
-
Ähnlich dem
ersten Beispiel weisen bei dem zweiten Beispiel die erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 und
die erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42 eine Phasenverschiebungsplatte
auf, die eine Phasenverschiebung von ungefähr einer viertel Wellenlänge (λ/4) aufweist,
wohingegen die zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28 und
die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 eine Phasenverschiebungsplatte
aufweisen, die eine Phasenverschiebung von ungefähr einer halben Wellenlänge (λ/2) aufweist.
-
Die
erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 weist einen Anordnungswinkel
von –2,8
Grad auf. Die erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42, die
der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 entspricht, weist
einen Anordnungswinkel von 15 Grad auf. Während sich bei dem ersten Beispiel
die Anordnungswinkel zwischen der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 und
der ersten 2. Phasenverschiebungsplatte 42, die der ersten
1. Phasenverschiebungsplatte 27 entspricht, voneinander
um 90 Grad abweichen, ist bei dem zweiten Beispiel, anders als bei
dem ersten Beispiel, die Abweichung bei den Anordnungswinkeln zwischen
der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 und der ersten
2. Phasenverschiebungsplatte 42 nicht gleich 90 Grad, weil
die restliche Phasenverschiebung mit der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 kompensiert
wird.
-
Die
zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28 weist einen Anordnungswinkel
von 110 Grad auf und die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43,
die der zweiten 1. Phasenverschiebungsplatte 28 entspricht, weist
einen Anordnungswinkel von 76 Grad auf. Somit ist der Unterschied
in den Anordnungswinkeln zwischen der zweiten 1. Phasenverschiebungsplatte 28 und
der zweiten 2. Phasenverschiebungsplatte 43 nicht gleich
90 Grad.
-
Dort
wurde eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung
hergestellt, die die erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27,
die zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28, die erste 2.
Phasenverschiebungsplatte 42 und die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 enthält, wobei
sie alle diese Beziehungen hinsichtlich der Anordnungswinkel aufweisen,
und es wurde ein Kontrastverhältnis
gemessen, wenn Bilder über Transmissionslicht
angezeigt wurden, das durch den ersten Bereich A gegangen ist.
-
Das
gemessene Kontrastverhältnis
betrug 500.
-
Das
gemessene Kontrastverhältnis
ist verbessert im Vergleich mit dem Kontrastverhältnis einer herkömmlichen
Flüssigkristallanzeigevorrichtung, deren
Kontrastverhältnis
gleich oder kleiner als 100 ist.
-
Die 6A stellt
das dritte Beispiel dar, das die Beziehung zwischen den Anordnungswinkeln
der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 und der ersten
2. Phasenverschiebungsplatte 42 und weiterhin zwischen
den Anordnungswinkeln der zweiten 1. Phasenverschiebungsplatte 28 und
der zweiten 2. Phasenverschiebungsplatte 43 zeigt.
-
Die 6B ist
eine Darstellung, die die Beziehung zwischen der Spannung, die an
den Flüssigkristall
angelegt werden soll, und einer Lichttransmissionsrate (oder einer
Lichtreflexionsrate) bei dem dritten Beispiel zeigt.
-
In
einem ersten Schritt bei dem dritten Beispiel sind die erste 2.
Phasenverschiebungsplatte 42, die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 und
der zweite Polarisator 44 ausgestaltet, solche Phasenverschiebungen
und solche Anordnungswinkel aufzuweisen, dass die Veränderungen
in der Phasenverschiebung in der Flüssigkristallschicht 50,
die durch die Veränderungen
im Betrachtungswinkel verursacht werden, und die Veränderungen
in der Phasenverschiebung in den Phasenverschiebungsschichten, die
durch die Veränderungen
im Betrachtungswinkel verursacht werden, sich miteinander in dem
zweiten Bereich B auslöschen.
Bei dem dritten Beispiel, das nachfolgend erklärt wird, weist die Flüssigkristallanzeigevorrichtung
nur den zweiten Bereich B, aber nicht den ersten Bereich A auf.
-
Wie
in der 6A dargestellt ist, weist das gegenüberliegende
Substrat 40 einen Reibewinkel, von 54 Grad auf, und wird
das Produkt Δnd
der Flüssigkristallschicht 50 und
einer Zelllücke
der Flüssigkristallschicht 50 auf
ungefähr
0,27 μm
eingestellt. Der Drehwinkel der Flüssigkristallschicht 50 weist
einen erlaubten Bereich von ungefähr t4 Grad auf und das Produkt Δnd weist
einen erlaubten Bereich von ungefähr +0,04 μm auf. Dementsprechend kann
der Drehwinkel der Flüssigkristallschicht 50 in
dem Be reich von 66 bis 74 Grad bestimmt sein und kann das Produkt Δnd der Flüssigkristallschicht 50 in
dem Bereich von 0,21 bis 0,31 μm
bestimmt sein.
-
Die
erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42, die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 und
der zweite Polarisator 44 sind in dieser Reihenfolge auf dem
zweiten transparenten Substrat 41 auf der gegenüberliegenden
Seite der Flüssigkristallschicht 50 angeordnet.
Die erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42 ist ausgestaltet,
eine Phasenverschiebung in dem Bereich von 145 nm bis 180 nm in
Bezug auf ein monochromatisches Licht aufzuweisen, das eine Wellenlänge von
550 nm aufweist, und die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 ist
ausgestaltet, eine Phasenverschiebung in dem Bereich von 250 nm
bis 300 nm in Bezug auf dasselbe aufzuweisen.
-
Wie
in der 6A dargestellt ist, ist die
Ausrichtung des Flüssigkristalls
in der Flüssigkristallschicht 50 in
Abhängigkeit
von der Richtung bestimmt, in die die Ausrichtungsschichten von
sowohl dem gegenüberliegenden
Substrat 40 als auch dem Substrat 20 der aktiven
Matrix ausgerichtet sind. Insbesondere ist der Flüssigkristall
in der Flüssigkristallschicht 50 auf
solch eine Weise ausgerichtet, dass der Flüssigkristall kontinuierlich
von der Grenzfläche des
gegenüberliegenden
Substrats 40 zu der Grenzfläche des Substrats 20 der
aktiven Matrix gedreht wird.
-
Die
erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42, die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 und
der zweite Polarisator 44 sind ausgestaltet, solche polarisierten
Absorptionsachsen aufzuweisen, dass sie jeweils Anordnungswinkel
von α, β und γ aufweisen, wobei
angenommen wird, dass eine Richtung, die senkrecht zu einer ersten
Richtung ist, in die die Flüssigkristallmoleküle in der
Flüssigkristallschicht 50 bei einer
Mitte in die Richtung der Dicke der Flüssigkristallschicht 50 ausgerichtet
sind, wobei die erste Richtung eine Richtung ist, die eine Richtung,
in die die Flüssigkristallmoleküle in der
Nähe des
gegenüberliegenden
Substrats 40 ausgerichtet sind, und eine Richtung, in die
die Flüssigkristallmoleküle in der Nähe des Substrats 20 der
aktiven Matrix ausgerichtet sind, halbiert, als eine Bezugsrichtung
ausgewählt wird,
und dass eine Richtung, in die der Flüssigkristall von dem gegenüberliegenden
Substrat 40 zu dem Substrat 20 der aktiven Matrix
gedreht wird, eine positive Richtung ist.
-
Bei
dem dritten Beispiel ist der Anordnungswinkel αausgestaltet, in dem Bereich
von –15
bis 15 Grad zu liegen, ist der Anordnungswinkel β ausgestaltet, in dem Bereich
von 45 bis 75 Grad zu liegen, und ist der Anordnungswinkel γ ausgestaltet,
in dem Bereich von 60 bis 90 Grad zu liegen, um zu verhindern, dass
Bilder aufgrund der Schwankungen des Betrachtungswinkels gefärbt werden.
-
Die
Flüssigkristallanzeigevorrichtung
in Übereinstimmung
mit dem dritten Beispiel arbeitet als eine normale weiße Vorrichtung,
die in dem zweiten Bereich B eine helle Bedingung zeigt, wenn keine Spannung
an dem Flüssigkristall
angelegt wird. Das Licht, das in die Flüssigkristallanzeigevorrichtung eindringt,
wird in ein zirkular polarisiertes Licht oder ein nahezu zirkular
polarisiertes Licht umgewandelt, während es durch den zweiten
Polarisator 44, die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 und
die erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42 geht und dann
in die Flüssigkristallschicht 50 eindringt.
Indem ein elektrisches Feld an die Flüssigkristallschicht 50 über eine
gemeinsame transparente Elektrode (nicht dargestellt) der gegenüberliegenden
Elektrode 40 angelegt wird, ist es möglich, die Ausrichtung des
Flüssigkristalls
in der Flüssigkristallschicht 50 zu
variieren, um zu bewirken, dass einfallendes Licht bei der Lichtreflexionselektrode 25 auf
verschiedene Weise reflektiert wird, was bewirkt, dass die Intensität des Lichts,
die den Nutzer erreicht, variiert wird und somit die gewünschten
Bilder auf dem Flüssigkristallpaneel angezeigt
werden.
-
Bei
diesem Beispiel können
die erste 2. Verzögerungsplatte 42 und
die zweite 2. Verzögerungsplatte 43 ein
hochpolymeres Polycarbonat, ein hochpolymeres Polysulfon, ein hochpolymeres
Norbornen oder einen hochpolymeren Polyvinylalkohol aufweisen.
-
Wie
oben dargestellt wurde, ermöglicht
der zweite Bereich B in der Flüssigkristallanzeigevorrichtung,
vollfarbige Bilder ohne Ungleichheiten anzuzeigen, wobei die Bilder
hell sind, ein hohes Kontrastverhältnis aufweisen und keinen
Gelbstich bekommen, selbst wenn der Betrachtungswinkel unter der Bedingung
einer hellen Anzeige variiert wird.
-
Bei
dem zweiten Schritt in dem dritten Beispiel ist die erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 ausgestaltet,
eine Phasenverschiebung in dem Bereich von 125 bis 155 nm aufzuweisen,
um zu bewirken, dass die erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 die
restliche Phasenverschiebung in dem ersten Bereich A kompensiert.
Die zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28 ist ausgestaltet,
die gleiche Phasenverschiebung wie die der zweiten 2. Phasenverschiebungsplatte 43 aufzuweisen.
Die erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27, die zweite 1.
Phasenverschiebungsplatte 28 und der erste Polarisator 29 sind
ausgestaltet, Anordnungswinkel aufzuweisen, die sich jeweils um
90 Grad von den Anordnungswinkeln der entsprechenden ersten 2. Phasenverschiebungsplatte 42,
der zweiten 2. Phasenverschiebungsplatte 43 und des zweiten
Polarisators 44 unterscheiden.
-
Wie
in der 6A dargestellt ist, weist bei dem
dritten Beispiel der erste Polarisator 29 eine Absorptionsachse
auf, die um 163 Grad in Bezug auf die Bezugsrichtung geneigt ist,
und weist der zweite Polarisator 44 eine Absorptionsachse
auf, die um 73 Grad in Bezug auf die Bezugsrichtung geneigt ist.
-
Das
Substrat 20 der aktiven Matrix weist einen Reibewinkel
von 126 Grad auf und das gegenüberliegende
Substrat 40 weist einen Reibewinkel von 54 Grad auf.
-
Ähnlich den
oben erwähnten
ersten und zweiten Beispielen weisen bei dem ersten Beispiel die
erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 und die erste 2.
Phasenverschiebungsplatte 42 eine Phasenverschiebungsplatte
auf, die eine Phasenverschiebung von ungefähr einer viertel Wellenlänge (λ/4) aufweist,
wohingegen die zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28 und
die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 eine Phasenverschiebungsplatte
aufweisen, die eine Phasenverschiebung von ungefähr einer halben Wellenlänge (λ/2) aufweist.
-
Die
erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 weist einen Anordnungswinkel
von 90 Grad auf. Die erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42,
die der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 entspricht, weist
einen Anordnungswinkel von 0 Grad auf. Somit unterscheiden sich
die Anordnungswinkel zwischen der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 und
der ersten 2. Phasenverschiebungsplatte 42 voneinander
um 90 Grad.
-
Die
zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28 weist einen Anordnungswinkel
von 149 Grad auf. Die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43,
die der zweiten 1. Phasenverschiebungsplatte 28 entspricht, weist
einen Anordnungswinkel von 59 Grad auf. Somit unterscheiden sich
die Anordnungswinkel zwischen der zweiten 1. Phasenverschiebungsplatte 28 und
der zweiten 2. Phasenverschiebungsplatte 43 voneinander
um ungefähr
90 Grad.
-
Dort
wurde eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung
hergestellt, die die erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27,
die zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28, die erste 2.
Phasenverschiebungsplatte 42 und die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 aufweist,
wobei sie alle diese Beziehung in Bezug auf den Anordnungswinkel
aufweisen, und es wurde ein Kontrastverhältnis gemessen, wenn Bilder über Transmissionslicht
dargestellt wurden, das durch den ersten Bereich A gegangen ist.
-
Das
gemessene Kontrastverhältnis
betrug 800.
-
Das
gemessene Kontrastverhältnis
ist signifikant verbessert im Vergleich mit einem Kontrastverhältnis bei
einer herkömmlichen
Flüssigkristallanzeigevorrichtung,
deren Kontrastverhältnis
gleich oder kleiner als 100 ist.
-
Bei
dem zweiten Beispiel wird die restliche Phasenverschiebung von der
ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 des Substrats 20 der
aktiven Matrix kompensiert, wohingegen bei dem dritten Beispiel
die restliche Phasenverschiebung von der ersten 2. Phasenverschiebungsplatte 42 von
dem gegenüberliegenden
Substrat 40 kompensiert wird. Somit kann die restliche
Phasenverschiebung entweder von der ersten 1. Phasenver schiebungsplatte 27 oder
von der ersten 2. Phasenverschiebungsplatte 42 kompensiert
werden. Alternativ kann die restliche Phasenverschiebung auch von
sowohl der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 als auch
der ersten 2. Phasenverschiebungsplatte 42 kompensiert
werden.
-
Die 7A stellt
das vierte Beispiel dar, das die Beziehung zwischen den Anordnungswinkeln
der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 und der ersten
2. Phasenverschiebungsplatte 42 und weiterhin zwischen
den Anordnungswinkeln der zweiten 1. Phasenverschiebungsplatte 28 und
der zweiten 2. Phasenverschiebungsplatte 43 zeigt.
-
Die 7B ist
eine Darstellung, die die Beziehung zwischen der Spannung, die an
den Flüssigkristall
angelegt werden soll, und einer Lichttransmissionsrate (oder einer
Lichtreflexionsrate) in dem vierten Beispiel zeigt.
-
Die
zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28 und der erste Polarisator 29 sind
ausgestaltet, dieselben Phasenverschiebungen und Anordnungswinkel wie
die des dritten Beispiels aufzuweisen.
-
Die
erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42 ist ausgestaltet,
eine Phasenverschiebung aufzuweisen, die sich von der des dritten
Beispiels um 6 nm bei deren Mitte unterscheidet, um die restliche
Phasenverschiebung mit der ersten 2. Phasenverschiebungsplatte 42 zu
kompensieren. Es kann allerdings betrachtet werden, dass die erste
2. Phasenverschiebungsplatte 42 im Wesentlichen dieselbe
Phasenverschiebung wie die des dritten Beispiels aufweist. Wohingegen
die erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 ausgestaltet
ist, Anordnungswinkel aufzuweisen, die sich von denen des dritten
Beispiels unterscheiden, und die Abweichungen bei den Anordnungswinkeln zwischen
der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 und der ersten
zweiten Phasenverschiebungsplatte 42, die der ersten 1.
Phasenverschiebungsplatte 27 entspricht, bestimmt ist,
außerhalb
von 90 Grad zu sein.
-
Wie
in der 7A dargestellt ist, weist bei dem
vierten Beispiel der erste Polarisator 29 eine Absorptionsachse
auf, die um 163 Grad in Bezug auf die Bezugsrichtung geneigt ist,
und weist der zweite Polarisator 44 eine Absorptionsachse
auf, die um 73 Grad in Bezug auf die Bezugsrichtung geneigt ist.
-
Das
Substrat 20 der aktiven Matrix weist einen Reibewinkel
von 126 Grad auf und das gegenüberliegende
Substrat 40 weist einen Reibewinkel von 54 Grad auf.
-
Ähnlich den
ersten bis dritten Beispielen weisen bei dem vierten Beispiel die
erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 und die erste 2.
Phasenverschiebungsplatte 42 eine Phasenverschiebungsplatte
auf, die eine Phasenverschiebung von ungefähr einer viertel Wellenlänge (λ/4) aufweist,
wohingegen die zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28 und
die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 eine Phasenverschiebungsplatte
aufweisen, die eine Phasenverschiebung von ungefähr einer halben Wellenlänge (λ/2) aufweist.
-
Die
erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27 weist einen Anordnungswinkel
von 105 Grad auf. Die erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42,
die der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 entspricht, weist
einen Anordnungswinkel von 0 Grad auf. Somit unterscheiden sich
die Anordnungswinkel zwischen der ersten 1. Phasenverschiebungsplatte 27 und
der ersten 2. Phasenverschiebungsplatte 42 voneinander
um 90 Grad.
-
Die
zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28 weist einen Anordnungswinkel
von 149 Grad auf und die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43,
die der zweiten 1. Phasenverschiebungsplatte 28 entspricht, weist
einen Anordnungswinkel von 59 Grad auf. Somit unterscheiden sich
die Anordnungswinkel zwischen der zweiten 1. Phasenverschiebungsplatte 28 und
der zweiten 2. Phasenverschiebungsplatte 43 voneinander
um 90 Grad.
-
Dort
wurde eine Flüssigkristallanzeigevorrichtung
hergestellt, die die erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27,
die zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28, die erste 2.
Pha senverschiebungsplatte 42 und die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 aufweist,
wobei sie alle diese Beziehungen hinsichtlich der Anordnungswinkel
aufweisen, und es wurde ein Kontrastverhältnis gemessen, wenn Bilder über Transmissionslicht
angezeigt wurden, das durch den ersten Bereich A gegangen ist.
-
Das
gemessene Kontrastverhältnis
betrug 330.
-
Das
gemessene Kontrastverhältnis
ist verbessert im Vergleich mit dem Kontrastverhältnis bei einer herkömmlichen
Flüssigkristallanzeigevorrichtung,
deren Kontrastverhältnis
gleich oder kleiner als 100 ist.
-
Während bei
dem zweiten Beispiel die restliche Phasenverschiebung von der ersten
1. Phasenverschiebungsplatte 27 des Substrats 20 der
aktiven Matrix kompensiert wird, wird bei dem vierten Beispiel ähnlich dem
dritten Beispiel die restliche Phasenverschiebung von der ersten
2. Phasenverschiebungsplatte 42 von dem gegenüberliegenden
Substrat 40 kompensiert.
-
Wie
in den ersten bis vierten Beispielen erklärt worden ist, ist es möglich, signifikant
das Kontrastverhältnis,
das erhalten wird, wenn Bilder über Transmissionslicht
angezeigt werden, das durch den ersten Bereich A geht, im Vergleich
mit einer herkömmlichen
Flüssigkristallanzeigevorrichtung
zu verbessern, indem die erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27,
die zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28, die erste 2.
Phasenverschiebungsplatte 42 und die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 ausgestaltet
werden, hinsichtlich der Anordnungswinkel eine Beziehung aufzuweisen,
wie sie in einem der oben erwähnten
ersten bis vierten Beispiele bestimmt ist, nämlich solch eine Beziehung,
dass die Anordnungswinkel zwischen den entsprechenden Phasenverschiebungsplatten
voneinander um 90 Grad abweichen.
-
Obwohl
bei dem ersten bis zum vierten Beispiel sowohl das Substrat 20 der
aktiven Matrix als auch das gegenüberliegende Substrat 40 ausgestaltet
sind, zwei Phasenverschiebungsplatten aufzuweisen, ist die Anzahl
der Phasenverschiebungsplatten nicht auf zwei (2) beschränkt. Das
Substrat 20 der aktiven Matrix und das gegenüberliegende
Substrat 40 können
ausgestaltet sein, eine oder drei oder mehr Phasenverschiebungsplatten
aufzuweisen.
-
Bei
der Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 ist
die Zelllücke
in dem zweiten Bereich 8, das heißt die Dicke Dr der Flüssigkristallschicht 50,
größer als die
Zelllücke
in dem ersten Bereich A ausgestaltet, das heißt die Dicke Df der Flüssigkristallschicht 50.
-
Weil
die Lichtreflexionselektrode 25 angehobene und vertiefte
Bereiche in dem zweiten Bereich B aufweist, wird die Zelllücke Dr in
dem zweiten Bereich B als ein Durchschnitt der optischen Längen in dem
zweiten Bereich B definiert.
-
Indem
die Zelllücke
Dr länger
als die Zelllücke
Df ausgestaltet ist, ist es möglich,
die Weißfarbentemperatur
bei den angezeigten Bildern in der Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 zu
verbessern. Bei der Flüssigkristallanzeigevorrichtung
der Art Lichttransmission und Lichtreflexion ist die Zelllücke Dr so
ausgebildet, dass die Leuchtdichte in dem zweiten Bereich B maximiert
ist. Indem die Zelllücke Df
in dem ersten Bereich A gleich der Zelllücke Dr ausgestaltet ist, kann
somit die Leuchtdichte in dem ersten Bereich A maximiert werden.
-
Die 8A zeigt
die Ergebnisse der Simulation der Beziehung zwischen der Zelllücke und
der Lichttransmissionsrate. Wie aus der 8A einfach ersichtlich
ist, ist die Leuchtdichte maximal, wenn die Zelllücke gleich
3,2 Mikrometer beträgt.
Da dort ein Sprung in den V-T-Charakteristiken (angelegte Spannung
gegen Lichttransmissionsrate) vorliegt, ist es vorzuziehen, dass
die Zelllücke
ausgestaltet ist, gleich 3 Mikrometer zu sein. Somit ist die Zelllücke in dem
ersten Bereich A bei dem ersten Ausführungsbeispiel ausgestaltet,
gleich 3 μm
zu sein.
-
Die 8B zeigt
die Ergebnisse der Simulation der Beziehung zwischen der Zelllücke und
der Lichttransmissionsrate für
Rot, Grün
und Blau. Aus der 8B ist ersichtlich, dass die
Leuchtdichte für Blau
erhöht
ist, wenn die Zelllücke
Df in dem ersten Bereich A ausgestaltet ist, kleiner als 3 Mikrometer
zu sein. Das bedeutet, dass es möglich
ist, die Farbtemperatur für
Weiß anzuheben,
indem die Zelllücke
Df kleiner als eine Zelllücke
ausgestaltet wird, bei der die Leuchtdichte maximal ist.
-
Weil
die Lichtreflexionselektrode 25 angehobene und vertiefte
Bereiche in dem zweiten Bereich B aufweist, wird die Zelllücke Dr in
dem zweiten Bereich B als ein Durchschnitt der optischen Längen in dem
zweiten Bereich B bestimmt. Wenn kugelförmige Mikroperlen in die Flüssigkristallschicht 50 eingeführt sind,
um eine Zelllücke
sicherzustellen, weisen diese Mikroperlen einen Durchmesser auf,
der kleiner als die Höhe
der angehobenen und vertieften Bereiche der Lichtreflexionselektrode 25 ist,
und somit wird es unmöglich,
die Zelllücke
in dem zweiten Bereich B mit diesen Mikroperlen zu steuern. Weil
die transparente Elektrode 26 eine flache Oberfläche aufweist,
ist es dagegen möglich,
die Zelllücke
in dem ersten Bereich A mit diesen Mikroperlen zu steuern.
-
Die
Zelllücke
Dr kann ausgestaltet sein, gleich oder nahezu gleich der Zelllücke Df zu
sein. Wie vorher erwähnt
wurde, wird die Zelllücke
Dr normalerweise so bestimmt, dass die Leuchtdichte in dem zweiten
Bereich B maximal ist. Indem die Zelllücke Df in dem ersten Bereich
A ausgestaltet wird, gleich der Zelllücke Dr zu sein, ist es somit
möglich, die
Leuchtdichte in dem ersten Bereich A zu maximieren, wodurch die
Zelllücke
Df einfach gesteuert wird, weil die transparente Elektrode 26 eben
mit einer Oberfläche
in dem ersten Bereich A ausgestaltet ist.
-
9A bis 9G sind
Querschnittsdarstellungen des Substrates 20 der aktiven
Matrix in der Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 nach
der vorliegenden Erfindung. Ein Verfahren zur Herstellung des Substrates 20 der
aktiven Matrix in der Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 wird
nachfolgend unter Bezug auf die 9A bis 9G erklärt.
-
Zuerst
wird, wie in der 9A dargestellt ist, durch Sputtern
eine Chromschicht (Cr) auf dem ersten transparenten Substrat 21 gebildet,
das aus Glas gebildet ist.
-
Dann
wird die Chromschicht mittels Photolithograpie und Trockenätzen strukturiert,
um somit die Gateleitung 1 (siehe 3) und die
Gateelektrode 32 zu bilden.
-
Anstelle
der Chromschicht kann dort auch eine Schicht ausgebildet sein, die
ein Metall aufweist, das einen niedrigen Widerstand aufweist, und
die einfach mittels Photolithographie und Ätzen strukturiert werden kann,
wie z. B. eine Molybdänschicht, eine
Titanschicht, eine Aluminiumschicht oder eine Schicht aus einer
Aluminiumlegierung. Alternativ kann anstelle der Chromschicht eine
Schicht mit vielen Schichten gebildet sein, wie z. B. eine Schicht,
die eine Aluminiumschicht und ein Grenzmetall aufweist, wie z. B.
eine Titanschicht, die auf der Aluminiumschicht gebildet ist.
-
Dann
wird mittels chemischer Aufdampfung (CVD) eine Schicht aus Siliziumnitrid über das
gesamte erste transparente Substrat 21 und die Gateelektrode 32 gebildet.
-
Dann
werden mittels CVD eine undotierte amorphe Silizumschicht und eine
n+ dotierte amorphe Siliziumschicht auf der Gateisolationsschicht 22 gebildet
und anschliessend in die amorphe Siliziumschicht 33a und
die n+ amorphe Siliziumschicht 33b strukturiert. Die amorphe
Siliziumschicht 33a wirkt als eine aktive Schicht in dem
Dünnfilmtransistor 31,
und die n+ amorphe Siliziumschicht 33b sichert den ohm'schen Kontakt zwischen
der amorphen Siliziumschicht 33a und sowohl der Drainelektrode 34 als auch
der Sourceelektrode 35.
-
Mittels
Sputtern wird über
die amorphe Siliziumschicht 33a und die n+ amorphe Siliziumschicht 33b eine
Chromschicht gebildet und dann in die Drainelektrode 34 und
die Sourceelektrode 35 strukturiert.
-
Dann
wird mit einem Ätzgas
die n+ amorphe Siliziumschicht 33b trockengeätzt, um
dadurch teilweise die n+ amorphe Siliziumschicht 33b nur
in dem Bereich zu entfernen, der sich zwischen der Drainelektrode 34 und
der Sourceelektrode 35 befindet. Dies wird durchgeführt, um
zu verhindern, dass ein Strom direkt von der Drainelektrode 34 und
der Sourceelektrode 35 über
die die n+ amorphe Siliziumschicht 33b geht.
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Dann
wird mittels CVD eine Schicht aus Siliziumnitrid über die
erste tranparente Schicht 21 gebildet, und dann wird sie
in eine (nicht dargestellte) Passivierungsschicht strukturiert.
Die Passivierungsschicht verhindert, dass Verunreinigungen, wie
z. B. Ionen, in die amorphe Siliziumschicht 33 diffundieren, um
somit Fehlfunktionen des Dünnschichttransistors 31 zu
vermeiden.
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Indem
diese Schritte durchgeführt
werden, wird der Dünnschichttransistor 31 auf
dem ersten transparenten Substrat 21 gebildet.
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Wie
in der 9B dargestellt ist, wird dann eine
erste elektrisch isolierende Schicht 23a in dem zweiten
Bereich B gebildet und wird eine erste elektrisch isolierende Schicht 23b,
die höher
als die erste elektrisch isolierende Schicht 23a ist, in
dem ersten Bereich A gebildet, um die Lichtreflexionselektrode mit
erhöhten
und vertieften Bereichen zu bilden.
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Wie
in der 9C dargestellt ist, werden die ersten
elektrisch isolierenden Schichten 23a und 23b an
ihren Ecken gerundet, um dadurch deren oberste Enden zu glätten.
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Wie
in der 9D dargestellt ist, wird dann eine
zweite elektrisch isolierende Schicht 24 gebildet, die
damit die ersten elektrisch isolierenden Schichten 23a und 23b abdeckt,
und wird eine Kontaktöffnung 36 durch
die zweite elektrisch isolierende Schicht 24 gebildet,
um elektrisch die Lichtreflexionselektrode 25 und die Sourceelektrode 35 miteinander
zu verbinden.
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Die
ersten elektrisch isolierenden Schichten 23a und 23b und
die zweite elektrisch isolierende Schicht 24 sind ausgestaltet,
vollständig
den Anzeigebereich abzudecken, und die zweite elektrisch isolierende
Schicht 24 ist ausgestaltet, sich hinter die erste elektrisch
isolierende Schicht 23a in einem Bereich (linker Bereich
in der 9D) ausserhalb eines Bildelementes
zu erstrecken, das an der äussersten Grenze
der Anzeigefläche
angeordnet ist, um zu verhindern, dass die erste elektrisch isolierende
Schicht 23a und die zweite elektrisch isolierende Schicht 24 steile
Stufen bilden.
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Die
ersten elektrisch isolierenden Schichten 23a und 23b können ein
lichtempfindliches Harz oder ein lichtunempfindliches Harz aufweisen.
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Wenn
die ersten elektrisch isolierenden Schichten 23a und 23b ein
lichtunempfindliches Harz aufweisen, werden die ersten elektrisch
isolierenden Schichten 23a und 23b durch die Schritte
gebildet: Bilden einer Schicht aus lichtunempfindlichem Harz, Bilden
eines Photolackes, der verwendet werden soll, um das lichtunempfindliche
Harz zu strukturieren, Belichten des Photolackes mit einem Licht,
Entwickeln des Photolackes, Ätzen
der ersten elektrisch isolierenden Schichten 23a und 23b mit
dem Photolack als einer Maske und Entfernen des Photolackes.
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Wenn
die ersten elektrisch isolierenden Schichten 23a und 23b ein
lichtempfindliches Harz aufweisen, werden die ersten elektrisch
isolierenden Schichten 23a und 23b durch die Schritte
gebildet: Bilden einer Schicht aus lichtempfindlichem Harz, Belichten
der Schicht aus lichtempfindlichen Harz mit einem Licht und Entwickeln
der Schicht aus lichtempfindlichem Harz. Indem die ersten elektrisch
isolierenden Schichten 23a und 23b lichtempfindliches Harz
aufweisen, ist es möglich,
die Schritte Bilden des Photolackes und Entfernen des Photolackes auszulassen.
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In
der 9C werden die strukturierten ersten elektrisch
isolierenden Schichten 23a und 23b bei einer Temperatur
in dem Bereich von 80 bis 300°C ausgeheilt,
um dadurch die Oberflächen
der ersten elektrisch isolierenden Schichten 23a und 23b zu schmelzen,
um deren Ecken abzurunden. Anstatt die ersten elektrisch isolierenden
Schichten 23a und 23b auszuheilen, können die
ersten elektrisch isolierenden Schichten 23a und 23b auch
anderen Verfahren unterworfen werden, wie z. B. chemischen Verfahren,
um deren Ecken abzurunden. Wenn die zweite elektrisch isolierende
Schicht 24 eine genügend
glatte und abgerundete Oberfläche
gewährleistet,
ist es nicht notwendig, ein bestimmtes Verfahren auf die ersten
elektrisch isolierenden Schichten 23a und 23b anzuwenden,
um deren Ecken abzurunden.
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Bei
dem ersten Ausführungsbeispiel
weisen die ersten elektrisch isolierenden Schichten 23a und 23b und
die zweite elektrisch isolierende Schicht 24 eine Polyamidschicht
auf. Allerdings ist es bei dem ersten Ausführungsbeispiel nicht notwendig,
dass die ersten elektrisch isolierenden Schichten 23a und 23b und
die zweite elektrisch isolierende Schicht 24 das selbe
organische Harz aufweisen. Sie können
zueinander unterschiedliche Harze aufweisen.
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Zusätzlich können sie
ein anderes Harz als Polyamid aufweisen. Z. B. können sie eine Anzahl von Harzen
in Kombination aufweisen, wie z. B. eine Kombination von Acrylharz
und Polyamidharz, eine Kombination von einer Siliziumnitridschicht
und Acrylharz oder einer Kombination von einer Siliziumoxydschicht
und Polyamidharz.
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Wie
in der 9E dargestellt ist, wird dann eine
transparente Schicht 26a, die aus einem transparenten Material,
wie z. B. Indiumzinnoxyd (ITO), gebildet ist, über dem gesamten Ergebnis gebildet, das
in der 9D dargestellt ist. Dann wird
eine (nicht gezeigte) Photolackschicht gebildet, mit der die transparente
Schicht 26a bedeckt wird, und anschliessend wird sie so
strukturiert, dass nur der Bereich, in dem die transparente Elektrode 26 gebildet werden
soll, damit bedeckt ist.
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Dann
wird die transparente Schicht 26a mit der strukturierten
Photolackschicht als einer Maske geätzt. Dann wird die strukturierte
Photolackschicht entfernt. Demzufolge wird die transparente Elektrode 26 gebildet,
wie in der 9F dargestellt ist.
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Dann
werden der Reihe nach eine Molybdänschicht 25a und eine
Aluminiumschicht 25b über dem
Ergebnis gebildet, das in der 9F dargestellt ist.
Dann wird eine (nicht gezeigte) Photolackschicht gebildet, mit der
die Aluminiumschicht 25a bedeckt wird, und anschliessend
wird sie so strukturiert, dass nur der Bereich, in dem die Lichtreflexionselektrode 25 gebildet
werden soll, damit bedeckt ist.
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Dann
werden die Molybdänschicht 25a und die
Aluminiumschicht 25b mit der strukturierten Photolackschicht
als einer Maske geätzt.
Dann wird die strukturierte Photolack schicht entfernt. Demzufolge wird
die Lichtreflexionselektrode 25, die die darunterliegende
Molybdänschicht 25a und
die darüberliegende
Aluminiumschicht 25b aufweist, gebildet, wie in der 9G dargestellt
ist.
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Wie
in der 9G dargestellt ist, ist die
Aluminiumschicht 25b elektrisch mit der transparenten Elektrode 26 verbunden,
indem die Molybdänschicht 25a ausgestaltet
ist, teilweise die transparente Elektrode 26 bei einem
Ende davon zu überlappen,
und indem weiterhin die Aluminiumschicht 25b auf der Molybdänschicht 25a gebildet
ist. Der Grund dafür, die
Molybdänschicht 25a zu
bilden, durch die die Aluminiumschicht 25b elektrisch mit
der transparenten Elektrode 26 verbunden ist, liegt darin,
den Batterieeffekt zu verhindern.
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Wie
in der 9G dargestellt ist, ist die
Aluminiumschicht 25b um eine Länge A kleiner als die Molybdänschicht 25a ausgestaltet,
um den Batterieeffekt sicher zu verhindern. Insbesondere ist das
eine Ende der Aluminiumschicht 25b, das über der
transparenten Elektrode 26 angeordnet ist, um die Länge A näher an dem
Dünnschichttransistor 31 als
das Ende der Molybdänschicht 25a angeordnet.
Vorzugsweise ist die Länge
A gleich einem oder länger
als ein Mikrometer.
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Vorzugsweise
weist die darunterliegende Molybdänschicht 25a eine
Dicke in dem Bereich von einschliesslich 100 bis einschliesslich
3000 Angström
auf und weist die Aluminiumschicht 25b eine Dicke in dem
Bereich von einschliesslich 500 bis einschliesslich 5000 Angström auf. Wenn
die Aluminiumschicht 25b eine Dicke aufweist, die kleiner
als 5000 Angström
ist, würde
die Aluminiumschicht eine halb lichtdurchlässige Schicht sein, was bedeutet, dass
die Aluminiumschicht nicht als eine Lichtreflexionsschicht wirken
kann. Wenn andererseits die Aluminiumschicht 25b eine Dicke
aufweist, die größer als
500 Angström
ist, würde
die Aluminiumschicht an ihrer Oberfläche weisslich sein, was bewirkt,
dass die Reflexionsrate der Aluminiumschicht verringert ist und
somit die Aluminiumschicht nicht als eine Lichtreflexionsschicht
wirken kann. Vorzugsweise weist die Molybdänschicht 25a eine
Dicke auf, die gleich oder grösser
als 100 Angström
ist, um sicher den Batterieeffekt zu verhindern.
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Anstelle
der Molybdänschicht 25a kann
eine Chromschicht, eine Titanschicht oder eine Tantalschicht als
die darunterliegende Schicht verwendet werden. Wenn die zweite elektrisch
isolierende Schicht 24 ein organisches Harz aufweist, ist
es möglich,
die Adhäsion
zwischen der ersten elektrisch leitenden Schicht 24 und
der darunterliegenden Schicht 25a zu erhöhen, indem
die darunterliegende Schicht 25a mit Chrom, Titan oder
Tantal gebildet wird.
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Indem
diese Schritte durchgeführt
werden, wird das Substrat 20 der aktiven Matrix in der
Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 in Übereinstimmung
mit dem ersten Ausführungsbeispiel
hergestellt.
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Die
Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 in Übereinstimmung
mit dem ersten Ausführungsbeispiel
kann für
eine elektronische Vorrichtung verwendet werden. Nachfolgend werden
einige Beispiele erklärt.
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10 ist
ein Blockschaltbild einer tragbaren Kommunikationsvorrichtung 250,
für die
die Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 verwendet
wird. Bei der tragbaren Kommunikationsvorrichtung 250 wird die
Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 als
ein Teil eines später
erläuterten
Flüssigkristallpaneels 265 verwendet.
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Das
tragbare Kommunikationsgerät 250 weist
eine Anzeigeeinheit 268, die einen Flüssigkristallpaneel 265,
einen Rücklichtemitter 266 und
einen Bildsignalprozessor 267 aufweist, eine Steuerung 269,
die den Betrieb der Teile steuert, die das tragbare Kommunikationsgerät 250 bilden,
einen Speicher 271, der das Programm, das von der Steuerung 269 ausgeführt werden
soll, und verschiedene Daten speichert, eine Kommunikationseinheit 272,
die die Datenkommunikation durchführt, eine Eingabevorrichtung 273,
die eine Tastatur oder einen Zeiger aufweist, und eine Stromquelle 274 auf,
die Strom den oben erwähnten
Teilen zuführt,
die das tragbare Kommunikationsgerät 250 bilden.
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Das
Flüssigkristallpaneel 265,
das die Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 aufweist,
verbessert das Öffnungsverhältnis in
der Anzeigeeinheit 268 und verbessert weiterhin die Leuchtdichte
in der Anzeigeeinheit 268.
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Das
Flüssigkristallpaneel 265,
das die Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 aufweist,
kann für den
Bildschirm eines tragbaren Personalcomputers, eines Personalcomputers
der Art Notebook oder eines Personalcomputers der Art Tischrechner
verwendet werden.
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Die 11 ist
ein Blockschaltbild eines Mobiltelefons 275, für das die
Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 verwendet
wird.
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Das
Mobiltelefon 275 weist eine Anzeigeeinheit 276,
die einen Flüssigkristallpaneel 265,
einen Rücklichtemitter 266 und
einen Bildsignalprozessor 267 aufweist, eine Steuerung 277,
die den Betrieb der Teile steuert, die das Mobiltelefon 275 bilden,
einen Speicher 278, der ein Programm, das von der Steuerung 277 ausgeführt werden
soll, und verschiedene Daten speichert, einen Funksignalempfänger 279,
einen Funksignalsender 281, eine Eingabevorrichtung 282,
die eine Tastatur oder einen Zeiger aufweist, und eine Stromquelle 283 auf,
die den oben erwähnten
Teilen, die das Mobiltelefon 275 bilden, Strom zuführt.
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Das
Flüssigkristallpaneel 265,
das die Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 aufweist,
verbessert das Öffnungsverhältnis in
der Anzeigeeinheit 276 und verbessert weiterhin die Leuchtdichte
in der Anzeigeeinheit 276.
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Bei
dieser Vorrichtung sind die Teile, durch die die Erfindung gekennzeichnet
ist, im Detail erklärt und
sind die Teile, die dem Fachmann bekannt sind, nicht im Detail erklärt. Allerdings
ist zu beachten, dass die letzteren einfach von dem Fachmann ohne detaillierte
Erklärung
verstanden werden können.
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Obwohl
das erste transparente Substrat 21, die erste 1. Phasenverschiebungsplatte 27,
die zweite 1. Phasenverschiebungsplatte 28, der erste Polarisator 29 und
die Rücklichtquelle 30 dargestellt
sind, um einen Kontakt mit den angrenzenden Teilen in diesem Beispiel
herzustellen, ist es nicht notwendig, dass sie Kontakt mit den angrenzenden
Teilen herstellen. Eines oder mehrere von ihnen können unabhängig von
den anderen oder einem anderen angeordnet sein.
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Dasselbe
gilt für
das zweite transparente Substrat 41, die erste 2. Phasenverschiebungsplatte 42,
die zweite 2. Phasenverschiebungsplatte 43 und den zweiten
Polarisator 44.
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Die
Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 ist ausgestaltet,
jeweils zwei Phasenverschiebungsplatten über und unter der Flüssigkristallschicht 50 aufzuweisen.
Allerdings ist die Anzahl der Phasenverschiebungsplatten nicht auf
zwei (2) beschränkt.
Die Flüssigkristallanzeigevorrichtung 10 kann
ausgestaltet sein, jeweils N Phasenverschiebungsplatten über und
unter der Flüssigkristallschicht 50 aufzuweisen, wobei
N eine ganze Zahl ist, die gleich oder größer als Eins (1) ist.