DE60212564T2 - Blasenstabilität in einem optischen Schalter - Google Patents

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Description

  • TECHNISCHES GEBIET
  • Die Erfindung betrifft allgemein optische Schalter und insbesondere Verfahren zur Förderung der Stabilität der Geometrie und der Anordnung einer Blase innerhalb eines optischen Schalters.
  • STAND DER TECHNIK
  • Signalübertragungen innerhalb eines Kommunikationsnetzes werden in zunehmendem Maße unter Verwendung von optischer Signalisierung durchgeführt, wobei Informationen als Modulationen von mittels Laser erzeugtem Licht ausgetauscht werden. Die Ausrüstung zum Erzeugen und Modulieren von Licht für optische Übertragungen ist leicht verfügbar, ebenso die Kabel zum Übertragen der optischen Signale über große Entfernungen. Jedoch treten Probleme im Hinblick auf die Vermittlung der optischen Signale ohne einen erheblichen Verlust an Signalstärke auf.
  • Ein Verfahren zum Schalten optischer Signale ist in dem an Fouquet et al. erteilten US-Patent Nr. 5,699,462 beschrieben, welches an den Abtretungsempfänger der vorliegenden Erfindung abgetreten wurde. Ein isolierter optischer Schalter, welcher auf der Beschreibung in Fouquet et al. beruht, ist in 1 dargestellt. Der optische Schalter 10 wird aus Schichten gebildet, welche auf einem Substrat strukturiert werden. Die Wellenleiterschichten auf dem Substrat umfassen eine optionale untere Mantelschicht 14, einen optischen Kern 16 und eine nicht dargestellte obere Mantelschicht. Der optische Kern kann primär aus Siliziumdioxid bestehen, mit Dotierungssstoffen, durch welche ein gewünschter Brechungsindex erzielt wird. Die Mantelschichten werden aus einem Material mit einem Brechungsindex hergestellt, welcher sich wesentlich von dem des Kernmaterials unterscheidet, so daß die optischen Signale entlang des Kerns geleitet werden. Der effektive Phasenindex des Wellenleiters wird durch die Brechungsindizes des Kernmaterials und des Materials der Mantelschichten bestimmt. Die Schicht des Kernmaterials wird in Form von Wellenleiterabschnitten strukturiert, welche ein Paar von Eingangswellenleitern 20 und 24 und ein Paar von Ausgangswellenleitern 22 und 26 definieren. Nachdem das Kernmaterial auf der unteren Mantelschicht ausgebildet worden ist, wird die obere Mantelschicht durch Blanket-Abscheidung (Blanket Deposition) hergestellt. Ein Graben 28 wird in die Mantelschichten und das Kernmaterial geätzt. Eine Flüssigkeit mit einem Brechungsindex, welcher im Wesentlichen mit dem effektiven Phasenindex der Wellenleiter übereinstimmt, wird dem Graben zugeführt. Wenn die Flüssigkeit bezüglich der Wellenleiter ausgerichtet ist, breiten sich Signale effizient durch den Graben aus. Somit treten Signale vom Eingangswellenleiter 20 aus dem zu diesem ausgerichteten Ausgangswellenleiter 26 aus, während Signale vom Eingangswellenleiter 24 über den zu diesem ausgerichteten Ausgangswellenleiter 22 austreten.
  • Der erste Eingangswellenleiter 20 und der zweite Ausgangswellenleiter 22 haben Achsen, welche sich an oder in der Nähe (vorzugsweise in der Nähe) einer Seitenwand des Grabens 28 unter einem Einfallswinkel schneiden, welcher eine totale innere Reflexion (TIR) zur Folge hat. Wenn sich eine Blase 30 an dem Schnittpunkt der zwei Achsen befindet, erzeugt die Nichtübereinstimmung zwischen den Brechungsindizes die TIR-Bedingung, in welcher ein Eingangssignal entlang des Eingangswellenleiters 20 in den zweiten Ausgangswellenleiter 22 reflektiert wird. Es muß jedoch darauf hingewiesen werden, daß der zweite Eingangswellenleiter 24 mit keinem der Ausgangswellenleiter 22 und 26 optisch gekoppelt ist, da der Versatz der optischen Achsen der Wellenleiter eine optische Kopplung verhindert.
  • Das an Fouquet et al. erteilte Patent beschreibt eine Anzahl von alternativen Ausführungsformen zum Umschalten des optischen Schalters 10 zwischen einem transmissiven Zustand und einem reflektiven Zustand. In dem transmissiven Zustand füllt die Flüssigkeit innerhalb des Grabens die gesamte Fläche aus, die zu den Wellenleitern 20, 22, 24 und 26 ausgerichtet ist. Eine Herangehensweise an das Umschalten zwischen den zwei Zuständen besteht darin, eine Mikroheizvorrichtung 38 einzubauen, welche die Bildung einer Blase 30 innerhalb des die Flüssigkeit enthaltenden Grabens 28 steuert. Wenn die Mikroheizvorrichtung auf eine Temperatur gebracht wird, welche ausreichend hoch ist, um die Blase in der Immersionsflüssigkeit zu bilden, ist die Blase im Idealfall quer über die gesamte Grenzfläche zwischen dem jeweiligen Wellenleiter und der Seitenwand des Grabens positioniert. In dieser idealen Situation tritt nur eine kleine Menge des Lichtes in den Graben aus.
  • Das Problem beim Erzielen des idealen Zustands entlang der Grenzfläche zwischen Wellenleiter und Graben besteht darin, daß eine Blase vielen destabilisierenden Einflüssen ausgesetzt ist. Wenn die Oberfläche, die von einer Blase bedeckt ist, die gegen eine Grabenseitenwand abgeflacht ist, ausreichend ist, um die seitliche Ausdehnung der optischen Felder der sich kreuzenden Wellenleiter, wie etwa der Wellenleiter 20 und 22 in 1, vollständig einzuschließen, so hat die Reflexion ein stabiles Maximum erreicht. Jede Verkleinerung unter die volle seitliche Ausdehnung der optischen Felder bewirkt dann jedoch einen optischen Verlust. Vielleicht noch wichtiger ist, daß jede Änderung der verringerten Fläche zur Folge hat, daß sich das reflektierte optische Signal entsprechend ändert. Daher verbessert jede erfolgreiche Methode, um eine Blase innerhalb des Grabens 28 einzuschließen und eine ausreichende Größe der Blase aufrechtzuerhalten, die Stabilität optischer Reflexionen und verbessert so einen wichtigen Aspekt der Funktionsstabilität des optischen Schalters 10.
  • Als eine Vorgehensweise, um für eine solche Stabilität der Funktion zu sorgen, kann die elektrische Leistung, die den Mikroheizvorrichtungen optischer Schalter zugeführt wird, erhöht werden, so daß sie eine reichlich bemessene thermische Leistung liefern, um die Blasen quer über die gesamte Grenzfläche zu erzeugen und aufrechtzuerhalten. Die Attraktivität einer solchen Lösung ist jedoch begrenzt aufgrund der Einschränkungen beim Power Handling eines großen Feldes von optischen Schaltern, und da es wünschenswert ist, ein solches Feld mit einem möglichst niedrigen Energieverbrauchsniveau zu betreiben. Eine andere Vorgehensweise besteht darin, die Form und Größe der Gräben, welche die Blasen halten, in der Relation zu den Formen und Größen der Mikroheizvorrichtungen, welche die Blasen erzeugen, auf geeignete Weise zu konstruieren. Gemäß dem oben genannten, an Fouquet et al. erteilten Patent wird ein Graben auf gegenüberliegenden Seiten der Mikroheizvorrichtung nach unten verlängert. Somit werden V-förmige Einschnitte in ein Mikroheizvorrichtungs-Substrat geätzt, die zu dem Graben ausgerichtet sind. Die Verlängerung des Grabens nach unten soll dazu dienen, die Blasenstabilität zu erhöhen, indem ein dynamisches Gleichgewicht gefördert wird, wobei Flüssigkeit an den Heizvorrichtungen siedet und an der Oberseite der Blasen kondensiert. Diese Vorgehensweise verbessert sie Stabilität, jedoch sind alternative oder zusätzliche Verfahren wünschenswert.
  • KURZDARSTELLUNG DER ERFINDUNG
  • Die vorliegende Erfindung ist so beschaffen, wie in den beigefügten Ansprüchen definiert ist. Die erhöhten Barrieren versperren teilweise die Bewegung oder Ausdehnung der Blase in den benachbarten Abstand hinein. Zum Beispiel können die erhöhten Barrieren Teil-Barrieren sein, welche vorgesehen werden, indem ein Material, wie normalerweise ein dielektrisches Material, auf dem Heizvorrichtungssubstrat abgeschieden oder aufgewachsen wird. Bei einer Anwendung werden die Barrieren innerhalb des benachbarten Abstands auf zwei gegenüberliegenden Seiten der Mikroheizvorrichtung positioniert, können jedoch Abschnitte enthalten, welche sich innerhalb des Grabens an den anderen zwei Seiten der Mikroheizvorrichtung befinden. Somit kann das Barrierenmaterial zusätzlich dazu, daß es für eine seitliche Steuerung der Blasenposition sorgt, eine Steuerung in Längsrichtung entlang der Länge des Grabens gewährleisten. Während des Herstellungsprozesses eines optischen Schalters ist das Einfügen von Schritten des Vorsehens und Strukturierens des Barrierematerials ein relativ niedriger Preis, der für eine langfristige Verringerung (über Änderungen der Oberflächenenergie) oder sogar vollständige Verhinderung (durch physisches Blockieren) der seitlichen Ausdehnung einer Blase in den Abstand hinein, welcher einem Graben benachbart ist, gezahlt wird.
  • Ein Vorteil der Erfindung ist, daß die Blasenstabilität verbessert wird. Infolgedessen werden die optischen Betriebseigenschaften des optischen Schalters verbessert. Ein anderer Vorteil ist, daß eine verbesserte Stabilität erzielt wird, ohne daß sich die Betriebsleistungs-Anforderungen des optischen Schalters oder des Schaltfeldes, in welchem der optische Schalter ein Element ist, erhöhen. Obwohl zusätzliche Verarbeitungsschritte erforderlich sind, sind die zusätzlichen Schritte weder kompliziert noch kostenaufwendig.
  • KURZBESCHREIBUNG DER ZEICHNUNGEN
  • 1 ist eine Draufsicht eines optischen Schalters, welcher das totale innere Reflexionsvermögen ausnutzt, nach dem Stand der Technik.
  • 2 ist eine Draufsicht eines optischen Schalters mit Blasen positionierenden Oberflächenmerkmalen gemäß der Erfindung.
  • 3 ist eine seitliche Schnittansicht des optischen Schalters von 2 entlang der Linien 3-3.
  • 4 ist eine Draufsicht einer anderen Anwendung der Blasen positionierenden Oberflächenmerkmale von 2 und 3.
  • 5 ist eine seitliche Schnittansicht des Grabenbereiches des optischen Schalters gemäß einer Anwendung eines Beispiels.
  • 6 ist eine seitliche Schnittansicht des Grabenbereiches des optischen Schalters gemäß einer anderen Ausführungsform.
  • 7 ist eine Draufsicht des Grabenbereiches des optischen Schalters gemäß einem anderen Beispiel.
  • 8 ist eine seitliche Schnittansicht des Grabenbereiches des optischen Schalters gemäß einem weiteren Beispiel.
  • 9 ist eine seitliche Schnittansicht des Grabenbereiches des optischen Schalters gemäß noch einem weiteren Beispiel.
  • 10 ist eine seitliche Schnittansicht des Grabenbereiches des optischen Schalters mit einem wasserabweisenden Film auf den Wänden des Grabens.
  • 11 ist eine seitliche Schnittansicht des Grabenbereiches des optischen Schalters gemäß noch einem weiteren Beispiel.
  • 12 ist eine Draufsicht des Beispiels von 11.
  • AUSFÜHRLICHE BESCHREIBUNG
  • Es wird auf 2 und 3 Bezug genommen. Sie zeigen einen optischen Schalter 40, der viele der Merkmale aufweist, die unter Bezugnahme auf 1 beschrieben wurden. Der optische Schalter weist vier Wellenleiterabschnitte auf, welche im Weiteren als erster und zweiter Eingangswellenleiter 42 und 44 und erster und zweiter Ausgangswellenleiter 46 und 48 bezeichnet werden. Obwohl es aus den vereinfachten Zeichnungen nicht offensichtlich ist, sind die Wellenleiter auf die herkömmliche Weise durch Einschließen von Kernmaterial in einer oberen und einer unteren Mantelschicht ausgebildet, so daß Licht entlang des Kernmaterials geleitet wird.
  • Jeder der Wellenleiter 42, 44, 46 und 48 hat ein Ende, welches einen Flüssigkeit enthaltenden Graben 50 kreuzt. Der optische Schalter 40 ist in einem reflektiven Zustand dargestellt, da sich eine Blase 52 in dem Bereich des Grabens befindet, an welchen die Wellenleiter anstoßen. Die optische Kopplung zwischen den Wellenleitern ist von den an diesem Kreuzungspunkt lokalisierten optischen Merkmalen abhängig. Wenn sich die Blase 52 in der in 2 dargestellten Position befindet, trifft ein entlang des Wellenleiters 42 übertragenes Eingangssignal an der Seitenwand des Grabens auf eine Nichtübereinstimmung der Brechungsindizes. Infolgedessen wird das optische Signal in den zweiten Ausgangswellenleiter 48 reflektiert. Um ein bestmögliches Betriebsverhalten des optischen Schalters 40 zu erzielen, wenn sich der Schalter im reflektiven Zustand befindet, sollte der Einfallswinkel der Wellenleiter 42, 44, 46 und 48 an den Seitenwänden des Grabens 50 größer als der kritische Winkel sein, der für die totale innere Reflexion (TIR) erforderlich ist. Die Flüssigkeit innerhalb des Grabens 50 weist jedoch einen Brechungsindex auf, welcher genügend nahe beim Brechungsindex des bei der Herstellung der Wellenleiter verwendeten Kernmaterials liegt, so daß sich optische Signale frei zwischen den Wellenleitern und der Flüssigkeit innerhalb des Grabens ausbreiten. Somit wird, wenn der Blase 52 ermöglicht wird zu kondensieren und die Flüssigkeit innerhalb des Kreuzungsbereiches fließt, der erste Eingangsleiter 42 mit dem ersten Ausgangswellenleiter 46 gekoppelt, während der zweite Eingangswellenleiter 44 mit dem zweiten Ausgangswellenleiter 48 gekoppelt wird.
  • Wie zuvor beschrieben, wird das Betriebsverhalten des optischen Schalters 40 von der Position der Blase 52 relativ zu den Graben-Wellenleiter-Grenzflächen beeinflusst. Wenn die Oberfläche der Blase 52 an der Seitenwand des Grabens die seitlichen Ausdehnungen der optischen Felder der sich kreuzenden Wellenleiter vollständig einschließt, so hat die Reflexion ein stabiles Maximum erreicht. Jede Verkleinerung unter diese volle seitliche Ausdehnung der optischen Felder bewirkt dann jedoch eine gewisse optische Dämpfung. Außerdem werden, wenn die Blase in ihrer Position instabil ist, die Reflexionseigenschaften des Schalters ebenfalls instabil. In 2 und 3 wurden Oberflächenmerkmale in den Schalter integriert, um die Blase und das Schaltverhalten des Schalters zu stabilisieren. Andere Typen von Oberflächenmerkmalen werden unter Bezugnahme auf die nachfolgenden Figuren beschrieben.
  • Wie in 3 am besten zu erkennen ist, ist der optische Schalter 40 aus einem Wellenleitersubstrat 54 und einem Heizvorrichtungssubstrat 56 hergestellt. Die zwei Substrate sind miteinander verbunden, sind jedoch entlang des dem Graben 50 benachbarten Bereiches in einem Abstand voneinander angeordnet. Infolgedessen ist ein Abstand 58 zwischen den zwei Substraten 54 und 56 ausgebildet. Ein Vorteil dieses Abstands ist, daß er eine Anpassung an eventuelle Volumenausdehnungen ermöglicht, die durch die Bildung einer Blase und das Kollabieren einer Blase verursacht werden. Obwohl es wünschenswert ist, eine Anpassung an Volumenänderungen zu ermöglichen, sollte sich die Anpassung jedoch nicht nachteilig auf die Stabilität der Blase auswirken. Bei der Ausführungsform von 2 und 3 sind erhöhte Barrieren 60, 62, 64 und 66 an den verschiedenen Seiten einer Mikroheizvorrichtung 68 zum Ausbilden der Blase 52 ausgebildet. Die seitlichen Barrieren 60 und 62 sind innerhalb des Abstands 58 neben dem Graben 50 angeordnet. Somit steuern die längeren zwei Barrieren die seitliche Ausdehnung der Blase 52 in den benachbarten Abstand 58 hinein. Eine "longitudinale Steuerung" der Blase wird durch die Endbarrieren 64 und 66 gewährleistet. Obwohl diese Barrieren als innerhalb des Grabens 50 enthalten dargestellt sind, können sich, wenn der Graben so ausgebildet ist, daß er nur geringfügig größer als die Länge der Blase ist, die Endbarrieren 64 und 66 auch innerhalb des benachbarten Abstands befinden.
  • Die Barrieren 60, 62, 64 und 66 können gebildet werden, indem eine dielektrische Schicht auf dem Heizvorrichtungssubstrat 56 abgeschieden oder gezogen wird. Es können fotolithografische Verfahren angewendet werden, jedoch können auch andere herkömmliche Methoden benutzt werden. Da die Abmessungen der Barrieren nicht kritisch sind, sind großzügige Fertigungstoleranzen akzeptabel. Ein mögliches Material für die Herstellung der Barrieren ist Siliziumdioxid, dieses kann jedoch durch andere Materialien ersetzt werden.
  • Es existiert eine Anzahl von möglichen Alternativen zu den dargestellten Barrieren 60, 62, 64 und 66 von 2 und 3. Zum Beispiel können die Barrieren, anstatt daß sie auf dem Heizvorrichtungssubstrat 56 ausgebildet werden, auf dem Wellenleitersubstrat 54 ausgebildet werden. Als eine andere Alternative kann die Dicke der Barrieren erhöht werden, so daß sie beide Substrate 54 und 56 berühren, derart, daß die Barrieren (durch physisches Blockieren) die seitliche Ausdehnung der Blase 52 verhindern, anstatt daß sie lediglich (durch Änderungen der Oberflächenenergie) die seitliche Ausdehnung der Blase in den benachbarten Abstand 58 hinein verringern. Als eine weitere Variante können die Barrieren in Abschnitte aufgeteilt werden. Dies ist in 4 dargestellt, welche drei Abschnitte 70, 72 und 74 auf jeder der einander gegenüberliegenden langen Seiten der Mikroheizvorrichtung vorsieht, um die seitliche Ausdehnung der Blase zu steuern, und zwei Abschnitte 76 und 78 auf den kürzeren Seiten der Heizvorrichtung vorsieht, um die Ausdehnung der Blase in Längsrichtung zu steuern.
  • 5 zeigt ein anderes Beispiel, wie die Blasenstabilität, das Betriebsverhalten und die Temperaturbeständigkeit innerhalb eines optischen Schalters gewährleistet werden können. Bei dieser Vorgehensweise werden die absichtlichen Veränderungen der Oberflächentopographie als Oberflächenänderungen entlang einer Ziel-Grenzlinie des Kontakts zwischen der Blase 52 und der Struktur des optischen Schalters implementiert. Es wird als vorteilhaft angesehen, die Oberflächenänderungen an den Rändern der Mikroheizvorrichtung 68 oder wenigstens in der Nähe der Ränder der Mikroheizvorrichtung auszubilden. Die Oberflächenänderungen können jedoch entlang der Ziel-Grenzlinie des Kontakts der Blase mit den Wänden vorhanden sein, welche die Enden der Wellenleiter enthalten, oder entlang der Ziel-Grenzlinie des Kontakts der Blase mit der oberen Wand des Wellenleitersubstrats. Die Änderung der Oberflächentopographie "heftet" die Blase entlang der Ziel-Grenzlinie an. In 5 sind die Oberflächenmerkmale als lokale Vertiefungen 80 und 82 innerhalb einer dielektrischen Schicht 84 dargestellt. Die dielektrische Schicht kann von einem Typ sein, der oft verwendet wird, um die metallische Mikroheizvorrichtung vor Chemikalien der Immersionsflüssigkeit zu schützen. Die lokal begrenzten Vertiefungen können isotrope oder anisotrope Grübchen sein, die unter Anwendung herkömmlicher fotolithografischer Verfahren gebildet wurden, da die Geometrie der Vertiefungen keine große Bedeutung hat.
  • In 6 sind die Vertiefungen durch erhöhte Bereiche 86 und 88 ersetzt. Die erhöhten Bereiche haben dieselbe Funktionsweise wie die lokal begrenzten Vertiefungen 80 und 82 von 5. Um eine seitliche Ausbreitung der Blase 52 zu verhindern, sollte das zur Bildung der erhöhten Bereiche verwendete Material eine niedrige Wärmeleitfähigkeit aufweisen. Die fotolithografische Strukturierung eines dielektrischen Materials erhöht die Kosten und die Komplexität des Prozesses zur Herstellung eines optischen Schalters nur sehr geringfügig.
  • Selbst wenn sich die Blase 52 seitlich in den Abstand 58 zwischen den zwei Substraten 54 und 56 hinein "ausbeult", befindet sich die Blase in einer geeigneten Position an der Seitenwand des Grabens 50 an der Grenzfläche zwischen dem Graben und den Wellenleitern (welche in 5 oder 6 nicht dargestellt sind). Die Vertiefungen 80 und 82 oder die erhöhten Bereiche 86 und 88 können sich um die gesamte Mikroheizvorrichtung 68 herum erstrecken, wodurch sie für Stabilität in Längsrichtung ebenso wie für Querstabilität sorgen.
  • Es wird nun auf 7 Bezug genommen; sie zeigt ein anderes Beispiel in einer Draufsicht, es sind jedoch nur der erste Eingangswellenleiter 42 und der zweite Eingangswellenleiter 48 dargestellt. In diesem Beispiel sind die absichtlich veränderten Oberflächenmerkmale mit einem Dielektrikum gefüllte Hohlräume 90 und 92 innerhalb der Oberfläche des Heizvor richtungssubstrats. Die mit einem Dielektrikum gefüllten Hohlräume gewährleisten eine zusätzliche Wärmeisolation, wodurch sie die Abgabe von Wärme in das Heizvorrichtungssubstrat verringern. Infolgedessen wird die Zufuhr von Wärme zu der Blase wesentlich verbessert. Ein abrupter Übergang bei den Wärmeleitungsbedingungen liefert die gewünschten Ergebnisse, so daß die Ausbildung von im Wesentlichen senkrechten Hohlraumwänden vorteilhaft ist. Eine mögliche Vorgehensweise zur Ausbildung von Hohlräumen mit im Wesentlichen senkrechten Wänden wird als der Bosch-Prozess bezeichnet, bei welchem Vakuum- und Plasmaätzverfahren (Trockenätzverfahren) angewendet werden. Aufgrund der abrupten Übergänge bei der Thermodynamik, die durch die vertikalen Wände der Hohlräume gewährleistet werden, wird die Zugabe des dielektrischen Füllmaterials weniger wichtig. Demzufolge können die Bereiche 90 und 92 bei manchen Ausführungsformen leere Hollräume sein.
  • In der Draufsicht von 7 sind die mit einem Dielektrikum gefüllten Hohlräume als zwei dielektrische Bereiche 90 und 92 dargestellt, welche der Krümmung eines leitfähigen Pfades 94 entlang des Heizvorrichtungssubstrats folgen. Der leitfähige Pfad 94 ist eine Trasse, über welche die Mikroheizvorrichtung 68 mit Aktorstrom versorgt wird. Der leitfähige Pfad ist eine herkömmliche Komponente eines Heizvorrichtungssubstrats eines optischen Schalters. Die Mikroheizvorrichtung 68 ist mit dem darunter befindlichen leitfähigen Pfad 94 verbunden, so daß die Heizvorrichtung auf der Basis der Zuführung von Strom über den leitfähigen Pfad ein- und ausgeschaltet werden kann.
  • Das Heizvorrichtungssubstrat kann aus Silizium hergestellt sein, welches durch Ätzen strukturiert wird, um die mit Dielektrikum gefüllten (oder manchmal hohlen) Bereiche 90 und 92 aufzunehmen. Das dielektrische Material weist im Vergleich zum Material des Substrats eine niedrige Wärmeleitfähigkeit auf. Demzufolge ist es weniger wahrscheinlich, daß die Wärme von der Mikroheizvorrichtung in einem Muster ausgestrahlt wird, welches bewirkt, daß sich die Blase seitlich in den Abstand von Substrat zu Substrat hinein ausdehnt. Das dielektrische Material kann Siliziumdioxid sein, oder irgendein anderes Material, welches nichtleitend ist und welches eine wesentlich geringere Wärmeleitfähigkeit aufweist als das Material des Substrats.
  • Ein anderes Beispiel ist in 8 dargestellt. In diesem Beispiel sind neben dem Hauptgraben 50 Hilfsgräben 96 und 98 ausgebildet. Die Ränder der Hilfsgräben verändern das Oberflächen-Energiegleichgewicht, so daß die seitliche Ausdehnung der Blase 52 verhindert wird. Außerdem stellen die Hilfsgräben, da die Hilfsgräben 96 und 98 mit der Immersionsflüssigkeit gefüllt sind, wenn sich der Schalter in seinem transmissiven Zustand befindet, und da die Immersionsflüssigkeit eine niedrigere Wärmeleitfähigkeit aufweist als das Material des Substrats (z.B. Siliziumdioxid oder Silizium), eine Barriere für Wärmeverluste aus dem geheizten Wellenleiter-Kreuzungspunkt des optischen Schalters dar. Daher können die Hilfsgräben helfen, die Größe und Position der thermisch erzeugten und aufrechterhaltenen Blase 52 beizubehalten.
  • Die Hilfsgräben 96 und 98 sind als innerhalb einer dielektrischen Schicht 100 auf der Oberfläche des Wellenleitersubstrats 54 ausgebildet dargestellt. Die Hilfsgräben können jedoch auch im Substratmaterial selbst ausgebildet sein. Als Ersatz für die Hilfsgräben 96 und 98 im Wellenleitersubstrat 54 oder zusätzlich zu ihnen können Hilfsgräben im Heizvorrichtungssubstrat 56 ausgebildet sein. Ein Vorteil der Ausbildung der Hilfsgräben innerhalb des Heizvorrichtungssubstrats ist, daß die Gräben näher zu den seitlichen Rändern des Hauptgrabens 50 ausgerichtet ausgebildet werden können.
  • In dem Beispiel von 9 liefern hinzugefügte Schichten 102 und 104 auf den Oberflächen des Wellenleitersubstrats 54 und des Heizvorrichtungssubstrats 56 die gewünschten Oberflächenmerkmale innerhalb des Abstands Substrat-Substrat 58. Die Schichten 102 und 104 sind dazu bestimmt, eine Ziel-Oberflächenbenetzbarkeit innerhalb des Abstands zu gewährleisten. Die Benetzbarkeit beeinflusst die Kapillarkräfte an der Grenzfläche der Blase mit der Flüssigkeit innerhalb des Abstands. Somit ist der Einfallswinkel zwischen der Blase und jeder Schicht besser vorhersagbar und stabil. Wie in 9 dargestellt, weisen die Ausbauchungen in den Abstand 58 hinein einen Einfallswinkel 58 auf, welcher sich wesentlich von der Ausbauchung der restlichen Immersionsflüssigkeit innerhalb der Oberseite des Grabens 50 unterscheidet. Die Kapillarwirkung induziert Kräfte, die auf die Flüssigkeit innerhalb des Abstands 58 einwirken, so daß diese entlang der Oberflächen der hinzugefügten Schichten 102 und 104 zu den Enden der Schichten "kriecht".
  • In einem Beispiel sind die hinzugefügten Schichten 102 und 104 auf den zwei Substraten 54 und 56 so strukturiert, daß sie sich nur in dem Bereich in der Nähe des Grabens 50 befinden. Die Auswahl der Schicht sollte so erfolgen, daß sie von Natur aus eine andere Benetzbarkeit durch die Flüssigkeit gewährleistet als die darunter liegende Schicht. In 9 können die darunter liegenden Schichten Siliziumdioxidschichten 106 und 108 sein, und die hinzugefügte Schicht kann Gold sein. Andererseits können die "hinzugefügten" Schichten auch Behandlungen des Siliziumdioxidmaterials sein. Zum Beispiel können, wenn die Substrate 54 und 56 Silica-Substrate sind, die Siliziumoxid-Filme aufweisen, Unterschiede in der Benetzbarkeit durch den selektiven Selbstaufbau von organischen funktionalisierten Orthosilikaten oder Chlorosilanen auf der Siliziumoxid-Oberfläche hervorgerufen werden. Eine spezielle Untergruppe, mit welcher angestrebte Benetzbarkeitseigenschaften erreicht werden können, ist fluoriertes langkettiges Kohlenwasserstoff-Chlorosilan. Für die Ausführungsform, in welcher die hinzugefügte Schicht Gold ist, kann ein selektiver Selbstaufbau von Alkanthiolen auf der Goldoberfläche die angestrebten Benetzbarkeitseigenschaften gewährleisten. Eine spezifische akzeptable Untergruppe ist fluoriertes langkettiges Alkanthiol. Optional enthält die Immersionsflüssigkeit einen Zusatz, welcher den Brechungsindex des Fluids nicht wesentlich beeinflusst, jedoch die Wahrscheinlichkeit verringert, daß das Fluid die Schichten angreift. Als ein anderes mögliches Schichtmaterial kann die hinzugefügte Schicht ein Polymer sein, wie etwa ein fluoriertes Polymer.
  • Es wird nun auf 10 Bezug genommen; zusätzlich zu den hinzugefügten Schichten 102 und 104 oder anstelle derselben kann der Graben 50 mit einem wasserabweisenden Film 110 beschichtet werden, um die Wahrscheinlichkeit zu verringern, daß ein Flüssigkeitsrückstand entlang des optischen Fensters verbleibt, das von der Grenzfläche des Grabens 50 und einem der Wellenleiter gebildet wird. Der Flüssigkeitsrückstand könnte das Betriebsverhalten des optischen Schalters nachteilig beeinflussen, da dessen Indexanpassungs-Eigenschaften ermöglichen, daß ein Eingangssignal ein kurzes Stück in den die Blase enthaltenden Graben eintritt, welcher dazu bestimmt ist, eine totale innere Reflexion zu gewährleisten. Die Form des Rückstandes beeinflusst dann die hervorgerufene Reflexion an der Grenzfläche des Rückstandes und der Blase. Der wasserabweisende Film 110 verringert die Wahrscheinlichkeit eines Rückstandes entlang des optischen Fensters. Der Film kann von einem Polymer gebildet werden, wie etwa einem fluorierten Polymer (z.B. PTFE). Ein Zusatz kann der Immersionsflüssigkeit zugegeben werden, um die weitere Entnetzung zu fördern.
  • Obwohl der wasserabweisende Film 110 von 10 als ohne irgendeines der zuvor beschriebenen Verfahren zur Steuerung der Ausdehnung der Blase innerhalb des Abstandes Substrat-Substrat 58 verwendet dargestellt ist, wird der Film vorzugsweise zusammen mit wenigstens einer der anderen Verfahrensweisen angewendet. Zum Beispiel können die hinzugefügten Schichten 102 und 104 aus demselben Material hergestellt werden wie der wasserabweisende Film 110. Jedoch werden die Schichten 102 und 104 vorzugsweise separat hergestellt, so daß die Schichten und der Film einzeln maßgeschneidert werden können, um die jeweiligen Ziele zu erreichen. In ähnlicher Weise können die verschiedenen Vorgehensweisen zum "Anheften" der Blase kombiniert werden. Beispielsweise kann die Verwendung der Schichten 102 und 104, um die Kapillarkräfte zu verstärken, mit der Vorgehensweise von 5 kombiniert werden, bei der lokale Vertiefungen 80 und 82 an den oder in der Nähe der Ränder der Mikroheizvorrichtung 68 ausgebildet werden, um die Steuerung der Blase zu gewährleisten.
  • Eine andere beispielhafte Vorgehensweise, um eine Stabilität der Blase zu gewährleisten, ist in 11 und 12 dargestellt. Es wird eine dünne Schicht 114 gebildet, die Kapillaröffnungen 118 und Kühlrippen 116 enthält. Diese Schicht ist als durch eine dielektrische Schicht 112 von der Mikroheizvorrichtung 68 getrennt dargestellt, doch es sind auch andere Anordnungen möglich. Die dünne Schicht kann ein Drahtgeflecht, Sintermetall oder eine andere poröse dünne Schicht sein, welche so gestaltet ist, daß sie Fluid durch Kapillarkräfte zur Mikroheizvorrichtung hin anzieht. Damit wird beabsichtigt, den Teil des Heizvorrichtungsbereiches zu vergrößern, welcher feucht ist, um dadurch die Fähigkeit der Mikroheizvorrichtung zu erhöhen, für die erforderliche Verdampfung zu sorgen. Bei der herkömmlichen Struktur ist die Verdampfung auf die Ränder des Heizvorrichtungsbereiches begrenzt, nachdem sich die Blase zu bilden beginnt. Die Stabilität der Blase wird erhöht, indem die Flüssigkeit zu dem Heizvorrichtungsbereich hin gesogen wird, um eine Verdampfung auf einer größeren Fläche zu bewirken. Die Kühlrippen 116 fördern die Wärmeableitung, wenn die Mikroheizvorrichtung ausgeschaltet ist.
  • Als eine Option kann die dünne Schicht 114, welche so gestaltet ist, daß sie Kapillarkräfte hervorruft, aus Gold hergestellt werden. Die Goldschicht kann durch Galvanisieren auf die dielektrische Schicht 112 aufgebracht und danach unter Anwendung herkömmlicher fotolithografischer Verfahren geätzt werden. Es können jedoch auch andere Materialien und andere Vorgehensweisen zur Abscheidung und Strukturierung angewendet werden.

Claims (6)

  1. Verfahren zur Herstellung eines optischen Schalters mit einer Mikroheizvorrichtung (68) in einer Wärmetransferbeziehung mit einem eine Flüssigkeit enthaltenden Graben (50), der von zumindest zwei optischen Wellenleiterabschnitten (42, 44, 46, 48) gekreuzt wird, wobei der optische Schalter einen transmissiven Zustand aufweist, in dem sich eine Flüssigkeit an einer Grenzfläche zwischen dem Graben und den optischen Wellenleiterabschnitten befindet, und der optische Schalter einen reflektiven Zustand aufweist, in dem sich eine Blase (52) an der Grenzfläche befindet, wobei das Verfahren die Schritte umfaßt: Bereitstellen eines Wellenleitersubstrats (54) und eines Heizvorrichtungssubstrats (56); Ausbilden des Grabens (50) und der optischen Wellenleiterabschnitte (42, 44, 46, 48) im Wellenleitersubstrat (54); Ausbilden der Mikroheizvorrichtung auf dem Heizvorrichtungssubstrat (56); und Verbinden des Wellenleitersubstrats mit dem Heizvorrichtungssubstrat, so daß zwischen dem Wellenleitersubstrat und dem Heizvorrichtungssubstrat neben dem Graben ein Abstand (58) vorhanden ist, gekennzeichnet durch Ausbilden erhöhter Barrieren (60, 62, 64, 66; 70, 72, 74, 76, 78; 86, 88) auf zumindest entweder dem Wellenleitersubstrat oder dem Heizvorrichtungssubstrat, um ein Entweichen der Blase aus dem Graben, wenn sich der optische Schalter im reflektiven Zustand befindet, durch Steuern von zumindest der Position oder der Geometrie der Blase im Verhältnis zum Graben und dem Abstand zu steuern.
  2. Verfahren nach Anspruch 1, wobei das Ausbilden der erhöhten Barrieren (60 und 62) ein Bereitstellen von Material an Positionen neben dem Graben umfaßt, wenn das Wellenleitersubstrat und das Heizvorrichtungssubstrat (54 und 56) zueinander ausgerichtet sind.
  3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, wobei die Mikroheizvorrichtung (68) auf dem Heizvorrichtungssubstrat (56) ausgebildet wird und die erhöhten Barrieren als topolo gische Merkmale (86 und 88) an Zielpositionen für eine Kontaktgrenzlinie mit der Blase (52) ausgebildet werden.
  4. Verfahren nach Anspruch 3, wobei die Erzeugung der topologischen Merkmale ein Strukturieren einer dielektrischen Schicht (84) auf dem Heizvorrichtungssubstrat (56) umfaßt.
  5. Verfahren nach Anspruch 3 oder 4, wobei die Erzeugung der topologischen Merkmale ein Ausbilden von erhöhten Bereichen (86 und 88) mit Positionen umfaßt, die auf Orten der Kontaktgrenzelinie basieren, wobei die erhöhten Bereiche aus einem Material ausgebildet sind, das eine deutlich geringere thermische Leitfähigkeit aufweist als die Mikroheizvorrichtung (68).
  6. Optischer Schalter, umfassend: ein Wellenleitersubstrat (54) mit zumindest zwei Wellenleiterabschnitten (42, 44, 46, 48) auf einer ersten Oberfläche, umfassend einen ersten Wellenleiterabschnitt, der einen Graben (50) im Wellenleitersubstrat kreuzt, wobei der Graben eine Flüssigkeit mit einem Brechungsindex aufweist, so daß sich Licht vom ersten Wellenleiterabschnitt ausbreitet, wenn sich die Flüssigkeit an einer Grenzfläche zwischen dem ersten Wellenleiterabschnitt und dem Graben befindet; ein Heizvorrichtungssubstrat (56), auf dem eine so angeordnete Heizvorrichtung (68) ausgebildet ist, daß die Flüssigkeit im Graben zur Ausbildung einer Blase (52) ausreichend erwärmt wird, wobei die Blase Raum hat, um sich longitudinal im Graben auszudehnen; einen Abstand (58) zwischen dem Wellenleitersubstrat und dem Heizvorrichtungssubstrat neben dem Graben, in dem die Blase Raum zur seitlichen Ausdehnung vom Graben hat, dadurch gekennzeichnet, daß erhöhte Barrieren (60, 62, 64, 66; 70, 72, 74, 76, 78; 86, 88) für die seitliche Ausdehnung oder Bewegung der Blase (52) in den Abstand zumindest entweder auf dem Wellenleitersubstrat oder dem Heizvorrichtungssubstrat vorgesehen sind, wobei die erhöhten Barrieren eine seitliche Ausdehnung oder Bewegung der Blase vom Graben zulassen, während damit die seitliche Ausdehnung oder Bewegung über die erhöhten Barrieren hinaus kontrolliert wird, wodurch eine Stabilität bezüglich des Haltens der Blase an der Grenzfläche bei einer Aktivierung der Heizvorrichtung gewährleistet ist.
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