DE602006020789D1 - Präzises positionierungssystem für die belichtung mit zwei austauschbaren trägerplatten - Google Patents

Präzises positionierungssystem für die belichtung mit zwei austauschbaren trägerplatten

Info

Publication number
DE602006020789D1
DE602006020789D1 DE602006020789T DE602006020789T DE602006020789D1 DE 602006020789 D1 DE602006020789 D1 DE 602006020789D1 DE 602006020789 T DE602006020789 T DE 602006020789T DE 602006020789 T DE602006020789 T DE 602006020789T DE 602006020789 D1 DE602006020789 D1 DE 602006020789D1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
exposure
positioning system
precise positioning
carrier plates
interchangeable carrier
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Active
Application number
DE602006020789T
Other languages
English (en)
Inventor
Yingsheng Li
Xiaoping Li
Zhiyong Yang
Jun Guan
Shaowen Gao
Wenfeng Sun
Gang Li
Yanmin Cai
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Original Assignee
Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd filed Critical Shanghai Micro Electronics Equipment Co Ltd
Publication of DE602006020789D1 publication Critical patent/DE602006020789D1/de
Active legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
    • G03F7/70691—Handling of masks or workpieces
    • G03F7/70733—Handling masks and workpieces, e.g. exchange of workpiece or mask, transport of workpiece or mask
DE602006020789T 2006-07-18 2006-11-20 Präzises positionierungssystem für die belichtung mit zwei austauschbaren trägerplatten Active DE602006020789D1 (de)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
CNU2006200440002U CN2938172Y (zh) 2006-07-18 2006-07-18 双台轮换曝光精密定位系统
PCT/CN2006/003126 WO2008011766A1 (en) 2006-07-18 2006-11-20 Precise positioning system for dual stage switching exposure

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE602006020789D1 true DE602006020789D1 (de) 2011-04-28

Family

ID=38362202

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE602006020789T Active DE602006020789D1 (de) 2006-07-18 2006-11-20 Präzises positionierungssystem für die belichtung mit zwei austauschbaren trägerplatten

Country Status (6)

Country Link
US (1) US8027028B2 (de)
EP (1) EP2041622B1 (de)
JP (1) JP4832570B2 (de)
CN (1) CN2938172Y (de)
DE (1) DE602006020789D1 (de)
WO (1) WO2008011766A1 (de)

Families Citing this family (33)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100053588A1 (en) * 2008-08-29 2010-03-04 Nikon Corporation Substrate Stage movement patterns for high throughput While Imaging a Reticle to a pair of Imaging Locations
CN101551599B (zh) * 2009-04-03 2011-07-20 清华大学 一种光刻机硅片台双台交换系统
CN101551598B (zh) * 2009-04-03 2010-12-01 清华大学 一种光刻机硅片台双台交换系统
CN102193319B (zh) * 2010-03-05 2013-01-16 上海微电子装备有限公司 一种光刻机硅片台双台交换系统
CN102122120A (zh) * 2011-03-22 2011-07-13 哈尔滨工业大学 步进扫描光刻机双台交换系统
CN102955367B (zh) * 2011-08-22 2015-09-30 上海微电子装备有限公司 一种工件台质量测校方法
CN102393612B (zh) * 2011-11-12 2014-02-19 哈尔滨工业大学 一种基于双导轨双驱的三节拍双工件台交换装置与方法
CN102495530B (zh) * 2011-11-12 2014-11-12 哈尔滨工业大学 一种过梁式步进扫描和三节拍双工件台交换装置与方法
CN102419517B (zh) * 2011-11-12 2014-07-16 哈尔滨工业大学 一种基于双导轨双驱步进扫描的双工件台交换装置与方法
CN102495528B (zh) * 2011-11-12 2014-02-05 哈尔滨工业大学 基于随动防转机构双工件台同相位回转交换方法与装置
CN102393608B (zh) * 2011-11-12 2013-09-18 哈尔滨工业大学 一种基于测量位自转调向的双工件台回转交换方法与装置
CN102495532A (zh) * 2011-11-12 2012-06-13 哈尔滨工业大学 基于单/双驱步进扫描的双工件台外侧交换装置
US9753381B2 (en) 2012-03-27 2017-09-05 Asml Netherlands B.V. Substrate table system, lithographic apparatus and substrate table swapping method
CN103383271B (zh) * 2012-05-04 2016-09-28 上海微电子装备有限公司 双硅片台交换系统的交换位置测量装置及其测量方法
CN104345540B (zh) * 2013-07-29 2016-10-26 深圳市中印印刷制品有限公司 一种用于数码立体照片激光冲印操作的移动曝光平台
CN105487343A (zh) * 2016-01-14 2016-04-13 哈尔滨工业大学 基于平面光栅测量的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105629674A (zh) * 2016-01-14 2016-06-01 哈尔滨工业大学 基于双层水冷的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105549329A (zh) * 2016-01-14 2016-05-04 哈尔滨工业大学 基于电制冷片动线圈磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105549330A (zh) * 2016-01-14 2016-05-04 哈尔滨工业大学 基于主动平衡质量动线圈磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105549331A (zh) * 2016-01-14 2016-05-04 哈尔滨工业大学 基于主动平衡质量动线圈气磁结合气浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105629676A (zh) * 2016-01-14 2016-06-01 哈尔滨工业大学 基于回转平衡质量的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105629675A (zh) * 2016-01-14 2016-06-01 哈尔滨工业大学 基于六边形磁钢布局的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105425550A (zh) * 2016-01-14 2016-03-23 哈尔滨工业大学 基于交错磁钢排布的动线圈气磁结合气浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105527799A (zh) * 2016-01-14 2016-04-27 哈尔滨工业大学 基于平面光栅测量的动线圈磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105425551A (zh) * 2016-01-14 2016-03-23 哈尔滨工业大学 基于双层水冷动磁钢气磁结合气浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105487342A (zh) * 2016-01-14 2016-04-13 哈尔滨工业大学 基于无线通信的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105487344A (zh) * 2016-01-14 2016-04-13 哈尔滨工业大学 基于干涉仪测量的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105425552A (zh) * 2016-01-14 2016-03-23 哈尔滨工业大学 基于平面光栅测量动磁钢气磁结合气浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105511234A (zh) * 2016-01-14 2016-04-20 哈尔滨工业大学 基于无线能量传输的动磁钢磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
CN105425549A (zh) * 2016-01-14 2016-03-23 哈尔滨工业大学 基于干涉仪测量的动线圈磁浮双工件台矢量圆弧换台方法及装置
JP7364323B2 (ja) * 2017-07-14 2023-10-18 エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． 計測装置及び基板ステージ・ハンドラ・システム
CN113804112A (zh) * 2021-08-16 2021-12-17 北京华卓精科科技股份有限公司 位移测量系统及光刻设备
CN114608447B (zh) * 2022-05-16 2022-07-12 深圳桥通物联科技有限公司 一种高效型电梯导轨安装精度校准设备

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3626504B2 (ja) 1997-03-10 2005-03-09 アーエスエム リソグラフィ ベスローテン フェンノートシャップ ２個の物品ホルダを有する位置決め装置
US6252796B1 (en) * 1998-08-14 2001-06-26 U.S. Philips Corporation Device comprising a first and a second ferromagnetic layer separated by a non-magnetic spacer layer
JP3687389B2 (ja) * 1999-02-16 2005-08-24 ウシオ電機株式会社 基板処理装置
US6353271B1 (en) * 1999-10-29 2002-03-05 Euv, Llc Extreme-UV scanning wafer and reticle stages
WO2001040875A1 (en) * 1999-11-30 2001-06-07 Silicon Valley Group, Inc. Dual-stage lithography apparatus and method
DE60032568T2 (de) * 1999-12-01 2007-10-04 Asml Netherlands B.V. Positionierungsapparat und damit versehener lithographischer Apparat
US6628406B1 (en) * 2000-04-20 2003-09-30 Justin L. Kreuzer Self referencing mark independent alignment sensor
US20020117109A1 (en) * 2001-02-27 2002-08-29 Hazelton Andrew J. Multiple stage, stage assembly having independent reaction force transfer
US6788385B2 (en) * 2001-06-21 2004-09-07 Nikon Corporation Stage device, exposure apparatus and method
US6665054B2 (en) * 2001-10-22 2003-12-16 Nikon Corporation Two stage method
US6927505B2 (en) * 2001-12-19 2005-08-09 Nikon Corporation Following stage planar motor
JP4292573B2 (ja) * 2003-05-13 2009-07-08 株式会社ニコン ステージ装置及び露光装置
JP2005038874A (ja) * 2003-07-15 2005-02-10 Nikon Corp ステージ装置及び露光装置
CN1200321C (zh) 2003-08-29 2005-05-04 清华大学 步进投影光刻机双台轮换曝光超精密定位硅片台系统
CN1252542C (zh) * 2004-06-25 2006-04-19 清华大学 带有平衡块消振装置的超精密硅片定位系统
CN100468212C (zh) * 2006-09-22 2009-03-11 上海微电子装备有限公司 双台定位交换系统

Also Published As

Publication number Publication date
EP2041622A4 (de) 2010-03-03
US8027028B2 (en) 2011-09-27
JP2009537969A (ja) 2009-10-29
EP2041622B1 (de) 2011-03-16
WO2008011766A1 (en) 2008-01-31
JP4832570B2 (ja) 2011-12-07
US20090219503A1 (en) 2009-09-03
EP2041622A1 (de) 2009-04-01
CN2938172Y (zh) 2007-08-22

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE602006020789D1 (de) Präzises positionierungssystem für die belichtung mit zwei austauschbaren trägerplatten
DE602007005314D1 (de) Vorrichtung für Panorama Aufnahmen
DE502006004252D1 (de) Andruckvorrichtung für ein spannsystem
DE502007002093D1 (de) Trageinrichtung für ein Fahrrad
DE602005018307D1 (de) Klemmvorrichtung für einen Tragebehälter für dünne Platten
DE112008000055A5 (de) Bezugspunkte für Orthostellung
DE602006002998D1 (de) Stromversorgungsvorrichtung für ein Fahrrad
DE502008003273D1 (de) Trägerplatte für eine kopierfräseinrichtung
NL1036290A1 (nl) Lithographic apparatus.
DE602006011259D1 (de) Nachbearbeitungsverfahren für Photoresistfilm
BRPI0810095A2 (pt) Método para a contagem de células
DE502007004534D1 (de) Wechseleinheit für Beschichtungsmaterial
FI20075550A (fi) Menetelmiä tiedon vaihtamiseksi
DE502007004231D1 (de) Steher für Leiteinrichtung mit Grundplatte
DE602008005079D1 (de) Retuschierverfahren für Metallteile
DE602006018146D1 (de) Markierungsring für Brieftauben
DE502007006576D1 (de) Anbauplatte für Schnellwechselvorrichtung
DE502007003396D1 (de) Sbesondere für rakeldruckverfahren
DE602007010218D1 (de) Filmantennenvorrichtung für Fahrzeuge
DE602005009917D1 (de) Nahfeldmessgerät für Filmdicke
ATE502819T1 (de) Rahmen für eine kennzeichentafel-halterung
FI20050210A (fi) Menetelmä päällystettyjen putkien valmistamiseksi
BRPI0714809A2 (pt) faixa para substratos de clichê litográfico.
DE112007001040A5 (de) Träger mit Verschleißteilen für Schneckenpressen
DE102008042195A8 (de) Transportvorrichtung für Werkstücke