DE602006016356D1 - Form zur Elektroformung, Verfahren zu deren Herstellung und Verfahren zur Herstellung einer elektrogeformten Komponente - Google Patents

Form zur Elektroformung, Verfahren zu deren Herstellung und Verfahren zur Herstellung einer elektrogeformten Komponente

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Koichiro Ichihara
Hiroyuki Hoshina
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Families Citing this family (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7459386B2 (en) * 2004-11-16 2008-12-02 Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. Method for forming solder bumps of increased height
WO2007100125A1 (ja) * 2006-02-28 2007-09-07 Advanced Interconnect Materials, Llc 半導体装置、その製造方法およびその製造方法に用いるスパッタリング用ターゲット材
US8518632B2 (en) 2006-08-07 2013-08-27 Seiko Instruments Inc. Method of manufacturing electroforming mold, electroforming mold, and method of manufacturing electroformed component
US8098419B2 (en) * 2006-12-21 2012-01-17 Hitachi Chemical Co., Ltd. Light control film and light control glass
JP5231769B2 (ja) * 2007-02-27 2013-07-10 セイコーインスツル株式会社 電鋳型、電鋳型の製造方法、時計用部品、および時計
JP5030618B2 (ja) * 2007-02-27 2012-09-19 セイコーインスツル株式会社 電鋳型とその製造方法
KR100897509B1 (ko) 2007-04-24 2009-05-15 박태흠 음각부, 양각부와 관통부를 갖는 금속박판체를 제조하기위한 미세금속몰드, 그 제조방법 및 위의 미세금속몰드로제조된 금속박판체
EP2157476A1 (de) * 2008-08-20 2010-02-24 Nivarox-FAR S.A. Herstellungsverfahren von mehrstufigen Metallteilen durch UV-LIGA-Technik
US8499611B2 (en) * 2008-10-06 2013-08-06 Teradyne, Inc. Disk drive emulator and method of use thereof
KR101003678B1 (ko) * 2008-12-03 2010-12-23 삼성전기주식회사 웨이퍼 레벨 패키지와 그 제조방법 및 칩 재활용방법
EP2230207A1 (de) * 2009-03-13 2010-09-22 Nivarox-FAR S.A. Form für Galvanoplastik und ihr Herstellungsverfahren
EP2230206B1 (de) * 2009-03-13 2013-07-17 Nivarox-FAR S.A. Form für Galvanoplastik und ihr Herstellungsverfahren
EP2263971A1 (de) * 2009-06-09 2010-12-22 Nivarox-FAR S.A. Mikromechanisches Verbundbauteil und sein Herstellungsverfahren
EP2309342A1 (de) * 2009-10-07 2011-04-13 Nivarox-FAR S.A. Freilauf-Triebfeder aus mikro-bearbeitbarem Material und ihr Herstellungsverfahren
EP2781626A4 (de) * 2011-11-15 2015-06-24 Leap Co Ltd Herstellungsverfahren für eine pressspritzform, in diesem verfahren hergestellte pressspritzform sowie unter verwendung dieser pressspritzform hergestellte komponente
WO2013072955A1 (ja) * 2011-11-15 2013-05-23 株式会社Leap 多段転写金型の製造方法、その多段転写金型、及びそれによる部品
EP2767869A1 (de) * 2013-02-13 2014-08-20 Nivarox-FAR S.A. Verfahren zur Herstellung eines mikromechanischen Monoblock-Bauteils, das mindestens zwei verschiedene Ebenen umfasst
CN103436923B (zh) * 2013-05-28 2015-12-23 大连理工大学 超声提高su-8光刻胶与金属基底界面结合强度的方法
CN103488046B (zh) * 2013-09-26 2019-10-22 上海集成电路研发中心有限公司 一种纳米压印光刻装置及其方法
US9217926B2 (en) 2013-11-19 2015-12-22 Orthogonal, Inc. Method of patterning a base layer
EP3168057A1 (de) * 2015-11-11 2017-05-17 Nivarox-FAR S.A. Herstellungsverfahren eines werkstücks aus metall mit mindestens einem motiv, das eine optische täuschung hervorruft
EP3839627B1 (de) 2019-12-18 2023-07-26 Mimotec S.A. Herstellungsmethode einer mikroform für die galvanoformung von mikromechanischen komponenten

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0243380A (ja) * 1988-08-02 1990-02-13 Toshiba Corp 光ディスク基板成形用金型及びその製造方法
DE4329728A1 (de) * 1993-09-03 1995-03-09 Microparts Gmbh Düsenplatte für Fluidstrahl-Druckkopf und Verfahren zu deren Herstellung
JPH07135210A (ja) * 1993-11-10 1995-05-23 Mitsubishi Electric Corp 半導体装置及びその製造方法
US5783371A (en) * 1994-07-29 1998-07-21 Trustees Of Boston University Process for manufacturing optical data storage disk stamper
US5944974A (en) * 1995-07-01 1999-08-31 Fahrenberg; Jens Process for manufacturing mold inserts
US6036832A (en) * 1996-04-19 2000-03-14 Stork Veco B.V. Electroforming method, electroforming mandrel and electroformed product
JPH10245692A (ja) * 1997-03-07 1998-09-14 Citizen Watch Co Ltd フォトリソグラフィー法を用いた電鋳元型及びその形成方法
JPH11293486A (ja) * 1998-04-16 1999-10-26 Canon Inc マイクロ構造体の作製方法
US6586112B1 (en) 2000-08-01 2003-07-01 Hewlett-Packard Company Mandrel and orifice plates electroformed using the same
JP3990307B2 (ja) * 2003-03-24 2007-10-10 株式会社クラレ 樹脂成形品の製造方法、金属構造体の製造方法、チップ
TWI297045B (en) 2003-05-07 2008-05-21 Microfabrica Inc Methods and apparatus for forming multi-layer structures using adhered masks

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US8021534B2 (en) 2011-09-20
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