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Die vorliegende Erfindung bezieht
sich auf ein Verfahren und eine Vorrichtung zum Feststellen, dass
zwei bewegliche Elemente genau bezüglich einander positioniert
sind (unabhängige
Ansprüche 1,
10, 11).
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Die Erfindung hat eine spezielle
Anwendung bei einer Ionenimplantationsvorrichtung, bei welcher ein
einzelner Wafer in einer Vakuumkammer von einem Lademechanismus,
beispielsweise einer Ladeschleuse, zu einem elektrostatischen Halter
(im Folgenden E-Halter) an einem Greifarm überführt wird. Der Greifarm nimmt
auch den Wafer von dem E-Halter auf und führt ihn zur Ladeschleuse zurück.
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Ein Robot, der den Greifarm antreibt,
hat typischerweise zwischen zwei und vier Bewegungsachsen. Beispielsweise
offenbart die
EP 604066 einen
Greifarm, der axial längs
einer vertikalen Achse bewegbar und um die gleiche Achse drehbar
ist.
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Der E-Halter hat gewöhnlich mehrere
Bewegungsachsen, wie dies beispielsweise in der WO 99/13488 offenbart
ist. In diesem Fall erstreckt sich der Arm, der den E-Halter trägt, aus
der Vakuumkammer heraus und wird von einem linearen Bewegungsmechanismus
für eine
vertikale Hin- und Herbewegung des E-Halters gehalten, so dass die
gesamte Oberfläche
eines Wafers an dem E-Halter von einem horizontal überstreichenden
Ionenstrahl überstrichen wird.
Der lineare Bewegungsmechanismus ist so angebracht, dass er um eine
horizontale Kippachse drehbar ist, die eine Variierung des Winkels
zwischen dem Wafer und dem Ionenstrahl erlaubt. Der E-Halter ist
weiterhin mit einem Mechanismus zum Drehen des Wafers um eine Achse
versehen, die durch eine Mitte des Wafers geht und senkrecht zur
Ebene des Wafers ist.
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Obwohl der den Greifarm antreibende
Mechanismus und der E-Halter mit Codierern versehen sind, die es
ihnen ermöglichen,
in eine äußerst präzise Position
bewegt zu werden, bedeutet die Tatsache, dass so viele Freiheitsachsen
vorhanden sind, dass mit der Zeit der Mechanusmus Abweichungen aufweisen
kann, insbesondere, da die Komponenten des Mechanismus zu verschleißen beginnen.
Dies führt
zu einer ungenauen Übergabe
zwischen Greifarm und E-Halter, so dass die Wafer über die
Oberfläche
des E-Halters geschoben werden müssen, was
zu Teilchenverunreinigungen an der Unterseite des Wafers führt. Da die
Codierer auch keine absolute Positionsablesung bereitstellen können, müssen sie
vor dem Einsatz kalibriert werden. Eine solche Kalibrierung wird
normalerweise von Hand ausgeführt,
was besonders zeitraubend sein kann und eine geübte Bedienungsperson erfordert.
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Nach der vorliegenden Erfindung wird
eine Vorrichtung zum Feststellen, dass zwei bewegliche Teile bezüglich einander
in einer vorher festgelegten Position genau positioniert sind, bereitgestellt,
wobei die Vorrichtung eine Lichtquelle, einen Lichtsensor, auf den
Licht von der Lichtquelle projiziert wird, und jeweils einen Lichtabdeckschirm
an jedem Element aufweist, der jeweils einen charakteristischen
Schatten auf dem Lichtsensor erzeugt, wenn er sich in der vorgegebenen
Position befindet, wobei die charakteristischen Schatten der beiden
Lichtabdeckschirme voneinander verschieden sind.
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Diese Vorrichtung überwacht
die relative Position der beiden Elemente genau, wenn beide Elemente
bezüglich
der gleichen Lichtquelle positioniert sind. Da optische Sensoren
verwendet werden, geben sie eine Anzeige der Absolutposition der
beiden Elemente und sind unabhängig
von dem Mechanismus, der die beiden Elemente bewegt.
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Vorzugsweise ist der Lichtabdeckschirm
an jedem Element ein durchgehendes Loch, wobei das durchgehende
Loch an dem einen Element größer ist als
das durchgehende Loch an dem anderen Element und die Mitten der
durchgehenden Löcher
in der Richtung fluchtend ausgerichtet sind, in der sich das Licht
von der Lichtquelle vom Sensor bewegt, wenn sich die Elemente in
der gegebenen Position befinden. Der Sensor ist vorzugsweise eine
zweidimensionale lageempfindliche Diode. Die Lichtquelle kann jede
kollimierte Lichtquelle sein, ist jedoch vorzugsweise ein modulierter
Infrarotlaser der Klasse 1, damit der Sensor zwischen diesem Licht
und Umgebungslicht unterscheiden kann und auch den erforderlichen
Sicherheitsanforderungen genügt.
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Die vorliegende Erfindung ist insbesondere bei
einer Ionenimplantationsvorrichtung einsetzbar, bei welcher das
erste Element ein Greifarm ist, der einen Wafer in einer Vakuumkammer
aus einer Beladeposition in eine Behandlungsposition und zurück überführt, während das
zweite Element ein E-Halter ist, an dem der Wafer gehalten ist,
während
er von einem Ionenstrahl überstrichen
wird. In diesem Fall sollten die Lichtabdeckschirme an dem E-Halter
und an dem Greifarm so vorgesehen sein, dass sie eine festgelegte
Beziehung zu der Waferposition haben, damit die Position des Wafers
leicht aus den Sensorablesungen bestimmt werden kann. Allgemein
gesagt, wird der E-Halter vor dem Greifarm in die Übergabeposition
gebracht. Wenn deshalb die Lichtabdeckschirme an den beiden Elementen
von durchgehenden Löchern
gebildet werden, ist der Durchmesser des dem E-Halter zugeordne ten
durchgehenden Lochs größer als
der Durchmesser des dem Greifarm zugeordneten durchgehenden Lochs.
Wenn die Lichtquelle und der Lichtsensor außerhalb der Vakuumkammer hinter
geeignet positionierten Fenstern angebracht sind, können sie
für Wartung
und Austausch leicht entfernt werden, ohne dass ein Zugang zu der
Vakuumkammer erforderlich ist.
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Wenn ein Greifarm verwendet wird,
der ein Paar von Haltebacken hat, die zwischen offenen und geschlossenen
Stellungen bewegbar sind, kann der Greifarm mit einem dritten Lichtabdeckschirm
versehen werden, der an dem Lichtsensor ein drittes charakteristisches
Signal erzeugt, wenn der Greifarm sich in der gegebenen Position
befindet und seine Haltebacken offen sind, so dass die Vorrichtung
die Stellung der Greifer-Haltebacken bestimmen kann.
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Gemäß einem zweiten Aspekt der
Erfindung wird ein Verfahren zum Feststellen, dass zwei bewegliche
Elemente bezüglich
einander in einer gegebenen Stellung genau positioniert sind, bereitgestellt, wobei
bei dem Verfahren ein Lichtstrahl von einer Lichtquelle zu einem
Lichtsensor hin emittiert wird, wobei jedes Element so bewegt wird,
dass ein Lichtabdeckschirm an jedem Element jeweils einen charakteristischen
Schatten auf dem Lichtsensor erzeugt, wenn es sich in der gegebenen
Position befindet, und sich die charakteristischen Schatten voneinander
unterscheiden, und erfasst wird, dass sich zwei Elemente in der
genau fluchtenden Ausrichtung befinden, wenn beide charakteristische
Schatten gleichzeitig auf dem Lichtsensor erkannt werden.
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Die vorliegende Erfindung erstreckt
sich auf ein Verfahren zum Eichen einer Vorrichtung, die ein Paar
von beweglichen Armen, die zwangsweise in eine Übergabeposition bewegbar sind,
um ein Teil von einem Arm zum anderen zu überführen, einen lageempfindlichen
Lichtsensor und eine Lichtquelle aufweist, die Licht zu dem Lichtsensor
hin emittiert, wobei jeder Arm einen Lichtabdeckschirm hat, der ein
eigenes charakteristisches Signal an dem Lichtsensor erzeugt, wenn
er zwischen der Lichtquelle und dem Lichtsensor angeordnet ist,
wobei die charakteristischen Signale voneinander verschieden sind,
und wobei das Verfahren die Schritte aufweist, dass der erste Arm
den Sensor überstreicht,
dass die Messwerte aufgezeichnet werden, die von dem ersten Lichtabdeckschirm
quer über
den Sensor erzeugt werden, dass der zweite Arm den Sensor überstreicht,
dass die Messwerte aufgezeichnet werden, die von dem zweiten Lichtabdeckschirm
quer über den
Sensor erzeugt werden, und dass aus den beiden Sätzen von Messwerten die Position
errechnet wird, bei der die beiden Lichtabdeckschirme koinzidieren,
was die Übergabeposition
darstellt.
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Dieses Verfahren ermöglicht die
automatische Kalibrierung der Übergabeposition,
was in einer Software ausgeführt
werden kann. Ferner ist eine genaue Positionierung der Lichtquelle
und des Sensors unnötig,
da alle Ungenauigkeiten bei ihrer Positionierung durch Verwendung
dieses Verfahrens kalibriert werden.
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Vorzugsweise sind die beiden beweglichen Arme
Robotarme, die von einem oder mehreren Servomotoren angetrieben
werden, von denen jeder eine Codiereinrichtung hat, wobei bei dem
Verfahren weiterhin die Codiereinrichtungsmesswerte an der Übergabeposition
aufgezeichnet und darauf folgend die Robotarme zwangsweise in die
Positionen bewegt werden, die aus den Codiereinrichtungsmesswerten
an der Übergabeposition
abgeleitet werden, und das Signal gemessen wird, das von dem Sensor in
dieser Position erzeugt wird. Dieses Verfahren ermöglicht die Überwachung
der Position der Arme derart, dass jede Abweichung in der Position
dieser Arme festgestellt werden kann.
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Zur vorliegenden Erfindung gehört ferner eine
Vorrichtung mit einer Messvorrichtung nach der Erfindung zum Eichen
und Steuern der Übergabe zwischen
einem beweglichen Element in Form eines Greifarms und einem beweglichen
Element in Form eines elektrostatischen Halters in einer Ionenimplantationsvorrichtung,
wobei der Greifarm und der elektrostatische Halter von einem oder
mehreren Servomotoren angetrieben werden, und die Einrichtung zum
Eichen und Steuern weiterhin einen Rechner, eine Codiereinrichtung
an diesem Servomotor zum Erzeugen eines Signals, das sich auf die
Position des Servomotors bezieht, und zur Bereitstellung dieser Information
für den
Rechner, sowie eine Verbindung zwischen dem Rechner und einem Antriebsmechanismus
eines jeden Servomotors aufweist, um die Bewegung eines jeden Servomotors
zu steuern, der Rechner einen Prozessor hat, der so angeordnet ist, dass
er Werte empfängt
und speichert, die für
Signale aus den Codiereinrichtungen und dem Sensor stehen, die aufgezeichnet
werden, wenn sich der Greifarm und der elektrostatische Halter in
einer gegebenen Übergabeposition
befinden, bei der die an dem Greifarm und dem elektrostatischen
Halter angebrachten Lichtabdeckschirme einen Anteil des Lichts auffangen,
das zu dem Sensor gerichtet ist, und jeweils ein charakteristisches
Signal an dem Sensor erzeugen, das dafür steht, dass sich der Greifarm
und der elektrostatische Halter in der Übergabeposition befinden, wobei
die charakteristischen Signale voneinander verschieden sind, wonach
ein Signal an den Antriebsmechanismus eines jeden Servomotors abgegeben
wird, um jeden Servomotor in eine Position zu bewegen, in der der
Messwert aus der Codiereinrichtung dem gespeicherten Wert entspricht,
und das Signal aus dem Sensor in dieser Position aufgezeichnet und
dieser Wert mit dem gespeicherten Wert verglichen wird.
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Vorzugsweise ist der Prozessor weiterhin
angeordnet, um die Abweichung des Greifarms und des elektrostatischen
Halters zu bestimmen, indem der gespeicherte Wert des Sensors mit
jedem gemessenen Wert verglichen wird. Vorzugsweise ist der Prozessor
weiterhin angeordnet, um eine Bedienungsperson zu warnen, wenn die
Größe der festgestellten Abweichung
eine vorher festgelegte Schwelle überschreitet.
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Ein Beispiel einer Ionenimplantationsvorrichtung
mit dem Verfahren und mit der Vorrichtung der vorliegenden Erfindung
wird nun unter Bezug auf die beiliegenden Zeichnungen beschrieben,
in denen
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1 eine
schematische perspektivische Ansicht der Ionenimplantationsvorrichtung
ist, bei der die vorliegende Erfindung zur Anwendung gelangt,
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1A eine
schematische Ansicht ist, die die verschiedenen Bewegungen des elektrostatischen
Halters während
des Betriebs der Ionenimplantationsvorrichtung zeigt,
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2 eine
schematische perspektivische Ansicht ist, die die Prinzipien der
vorliegenden Erfindung veranschaulicht,
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3 eine
Draufsicht ist, die den Greifer und den E-Halter zeigt,
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4 eine
schematische Darstellung des Eichprozesses ist,
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4A eine
schematische Ansicht ist, die das Signal zeigt, das an dem Sensor
während
des Kalibrierprozesses erzeugt wird, und
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5 eine
schematische Darstellung ist, die den Steuermechanismus der Vorrichtung
zeigt.
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Die Vakuumkammer und der E-Halter,
die bei der vorliegenden Erfindung zum Einsatz kommen, sind zu denen ähnlich,
die in der WO 99/13488 im Hinblick auf die Überstreichbewegung des E-Halters offenbart
sind.
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1 zeigt
die Vakuumkammer und den E-Halter und entspricht in vieler Hinsicht 1 der WO 99/13488. Das Karussell
zum Laden der Wafer in die Vakuumkammer ist jetzt durch eine Ladeschleuse 2 bekannter
Bauweise ersetzt. Natürlich
kann jedoch das Karussell der WO 99/13488 noch bei der vorliegenden
Erfindung verwendet werden.
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Bei dieser Ionenimplantationsvorrichtung wird
ein Wafer 3 auf einem E-Halter 6 in Position gehalten,
der an dem Ende eines Abtastarms 7 gehalten und von einem
horizontal überstreichenden
Ionenstrahl 8 überstrichen
wird, der durch ein Fenster in der Vakuumkammer 1 projiziert
wird.
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Der Abtastarm 7 erstreckt
sich durch eine Vakuumabdichtung in der Vakuumkammer 1 und
ist an einer Platte 9 angebracht, die in der Richtung der in 1 gezeigten Pfeile 10 durch
einen Linearmotor 9A linear hin- und herbewegbar ist. Die
Platte wird so angetrieben, dass der E-Halter 6 vertikal
zwischen den in 1A gezeigten
Positionen A und B bewegt wird. Die Platte 9 und der Motor 9A sind
durch ein Drehlager 11 erhalten, das es ermöglicht,
dass der E-Halter 6 um eine horizontale Achse gekippt wird, was
bei C in 1A gezeigt
ist, wodurch der Winkel verändert
wird, mit dem der Ionenstrahl 8 auf den Wafer 3 während des Überstreichungsvorgangs
auftrifft. Der E-Halter 6 ist auch so angebracht, dass
er um eine Achse drehbar ist, die durch seine Mitte geht und senkrecht
zur Ebene des Wafers 3 ist, was als Pfeil 6A in 1 gezeigt ist.
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Als Weiterentwicklung der Vorrichtung
der WO 99/13488 ist der Abtastarm 7 drehbar an der Platte 9 so
angebracht, dass er um seine Längsachse 12 unabhängig von
der Platte 9 und dem Drehlager 11 drehbar ist,
was durch den Pfeil 7A in 1 gezeigt
ist. Der Arm wird durch einen Motor 7B gedreht, der an
der Platte 9 über
Zahnräder 7C angebracht
ist. Dieser Extra-Freiheitsgrad ermöglicht es der Platte 9,
zu einem Ende des Bewegungsbereichs, ideal dem oberen Ende, wie
es als A in 1A gezeigt
ist, bewegt zu werden, worauf der Arm 7 um 90% um die Achse 12 gedreht
werden kann, so dass der E-Halter 6 sich nun in einer horizontalen
Ladestellung außerhalb
der Ebene des Strahls 8 befindet, was bei D in 1A gezeigt ist.
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Dieses horizontale Beladen bildet
den Gegenstand unserer anhängigen
US-Anmeldung Nr. 09/293,940,
eingereicht am gleichen Tag wie die vorliegende Anmeldung (US-B1-6
207 959, veröffentlicht
am 27.3.01).
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Ein alternativer Mechanismus, bei
welchem Wafer auf einen E-Halter in einer horizontalen Ausgestaltung
geladen werden, ist Gegenstand der weiterhin anhängigen UK-Anmeldung Nr. 9908953.4, eingereicht
am gleichen Tag wie die vorliegende Anmeldung (GB-A-2 349 269, veröffentlicht
am 25.10.00). In diesem Fall ist ein Abtastarm mit einem E-Halter an einem Ende
drehbar an seinem anderen Ende an der Außenseite einer Nabe angebracht,
so dass er um eine erste Achse parallel zu einer Linie drehbar ist,
die senkrecht zu der Waferauflagefläche des E-Halters ist. Eine
hin- und hergehende Drehung über
einen begrenzten Winkel um die erste Achse überstreicht einen Wafer auf
dem E-Halter durch die Ionenstrahlüberstreichung. Die Nabe ist
um eine zur ersten Achse senkrechte, horizontale zweite Achse derart
drehbar, dass die Drehung der Nabe um diese zweite Achse den E-Halter aus seiner
vertikalen Überstreichstellung
in eine horizontale Ladestellung außerhalb der Ebene des Ionenstrahls
bringt. Die vorliegende Erfindung ist in gleicher Weise für das Laden
eines Wafers auf den E-Halter dieser Vorrichtung einsetzbar.
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Es wird nun unter Bezug auf 2 und 3 eine Vorrichtung zum Fördern des
Wafers 3 aus der Ladeschleuse 2 zum E-Halter 6 in
seine horizontale Ladestellung beschrieben.
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Die folgende Beschreibung bezieht
sich auf den E-Halter nur in der horizontalen Ladestellung, aber
gilt natürlich
auch für
den Überstreichvorgang des
Wafers, wie er in der WO 99/13488 beschrieben ist.
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Wie in 2 und 3 gezeigt ist, ist ein Greifarm 13 vorgesehen,
der um eine vertikale Achse 14 so schwenkbar ist, dass
er einen Wafer 3 zwischen dem Lademechanismus und einer Übergabeposition transportiert.
Der Greifarm 13 hat ein Paar von Haltebacken 13A, 13B,
die pneumatisch betätigbar
sind, da sie öffnen
und schließen,
um Wafer 3 aufzunehmen und abzusetzen (wie dies im Umriss
in 2 gezeigt ist). Um
den inneren Umfang des Greifers sind drei Finger 15 vorgesehen,
um den Rand des Wafers 3 zu umgreifen. Der Greifarm 13 ist
mit einem durchgehenden Loch 16 versehen, das einen Durchmesser
von 2 mm hat, wie in 3 gezeigt
und schematisch in 2 dargestellt
ist.
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Der E-Halter 6 hat einen
Flansch 17, der über
den Waferaufnahmeteil des E-Halters vorsteht und mit einem durchgehenden
Loch 18 versehen ist, das typischerweise einen Durchmesser
von 3 mm hat. Das durchgehende Loch 18 ist in 2 schematisch, nicht jedoch
in 3 gezeigt, da es
hinter dem durchgehenden Loch 16 und dem Greifarm 13A verdeckt
ist.
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In der Außenwand der Vakuumkammer ist eine
kollimierte Lichtquelle 19, beispielsweise ein modulierter
Infrarotlaser, vorgesehen, der den kollimierten Strahl des Lichts 20 in
die Vakuumkammer durch ein Fenster 21 projiziert. In einer
Wand der Kammer ist gegenüber
der Lichtquelle 19 eine lageempfindliche, zweidimensionale
Photodiode 22 angeordnet, die Licht von der Lichtquelle 19 durch
ein Fenster 23 empfängt.
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Wie aus 2 zu sehen ist, wobei der Greifarm 13 aus
dem Weg ist, stellt der Flansch 17, wenn der E-Halter 6 in
die vorgegebene Position bewegt ist, einen Lichtabdeck schirm bereit,
der einiges Licht aus der Lichtquelle 19 abfangen wird,
wodurch ein charakteristischer Schatten an dem Lichtsensor 22 gebildet
und an dem Lichtdetektor 22 ein sich ergebendes Signal
gemessen wird, das eine charakteristische Position und Intensität hat. Da
das durchgehende Loch 18 eine feste Beziehung zu dem E-Halter 6 hat,
ist die absolute Position des E-Halters 6 genau bekannt.
Dieser Mechanismus kann auch dazu verwendet werden, zu gewährleisten,
dass sich der E-Halter 6 in einer horizontalen Ebene befindet,
da jede Abweichung des E-Halters aus der Horizontalebene ein Signal
ergibt, das von dem Sensor 22 erfasst wird, der anstatt
einer perfekt kreisförmigen Form
eine ovale Form hat. Der den Abtastarm 7 antreibende Mechanismus
kann dann so eingestellt werden, dass er den Halter 6 in
die genaue horizontale Ausrichtung zurückführt, in der der Sensor einen perfekten
Kreispunkt des Lichts aufzeichnet.
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Wenn der E-Halter 6 an Ort
und Stelle bleibt, wird der Greifarm 13 in eine Position
gebracht, wie sie in 2 gezeigt
ist. Der Teil des Greifarms 13, der das Loch 16 bildet,
ist ein Lichtabdeckschirm, der mehr von dem Licht als der Flansch 17,
der das Loch 18 begrenzt, abfängt, wodurch ein charakteristischer Schatten
an dem Lichtsensor erzeugt wird, so dass der Sensor 22 ein
Signal erfasst, das die gleiche Position wie vorher, jedoch bei
reduzierter Stärke
anzeigt. Wenn der Wafer 3 von den drei Fingern 15 gegriffen
wird, wird er in einer festen Beziehung bezüglich des durchgehenden Lochs 16 positioniert.
Es ist deshalb möglich,
die exakte Position des Wafers 3 zu bestimmen und dadurch
zu überwachen,
dass diese Position nun direkt über
dem E-Halter 6 liegt.
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Die relative Höhentrennung zwischen dem Wafer 3 und
dem E-Halter kann durch Verwendung eines weiteren Sensor bestimmt
werden. Der Greifarm 13 kann dann vertikal längs der
Achse 14 bewegt werden, um den Wafer auf Position abzusenken,
wo der Greifarm 13 öffnet
und den Wafer 3 freigibt. Der Greifarm 13A ist
mit einem zweiten durchgehenden Loch (nicht gezeigt) versehen, das
einen Durchmesser (gewöhnlich
1,5 mm) hat, der kleiner als der des ersten durchgehenden Lochs
ist. Dieses zweite durchgehende Loch wird in fluchtende Ausrichtung zu
dem durchgehenden Loch 18 in dem E-Halter gebracht, wenn
der Greifarm öffnet.
Als Folge davon misst der Sensor 22 ein Signal mit noch
geringerer Stärke
als das, das er bei geschlossenem Greifarm misst, so dass er überwachen
kann, dass der Greifarm korrekt geöffnet worden ist.
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Wenn der Greifarm 13 und
der E-Halter 6 von Robotern angetrieben werden, die eine
Anzahl von Bewegungsachsen haben, von denen jede durch einen Servomotor
getrieben wird, der eine Rotationscodiereinrichtung hat, ist es
erforderlich, die Vorrichtung vor dem Einsatz zu kalibrieren. Der
Kalibrierungsprozess wird nun unter speziellem Bezug auf 4 und 4A beschrieben.
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Wenn der Greifarm 13 aus
dem Weg ist, wird der Abtastarm 7 über die Vakuumkammer in Richtung
des Pfeils 24 bewegt. Gleichzeitig wird der E-Halter 6 in
seiner horizontalen Stellung gehalten. Dies wird dadurch erreicht,
dass das Drehlager 11 um seine Achse gedreht wird, während die
Platte 9 bewegt wird, um den E-Halter auf der genauen Höhe zu halten,
während
der Abtastarm 7 um die Achse 12 gedreht wird,
um den E-Halter 6 in seiner horizontalen Ausrichtung zu
halten. Diese Bewegung erzeugt die horizontale Spur quer über den
Sensor 22, was schematisch durch die Linie 25 in 4A veranschaulicht ist.
Diese Information wird in dem Speicher eines Rechners 30,
wie er in 5 gezeigt
ist, gespeichert. Der E-Halter 6 wird aus dem Weg bewegt und
ein ähnlicher
Prozess für
den Greifarm 13 wiederholt, der um die Achse 14 längs des
in 4 des Pfeils 26 gezeigten
Bogens bewegt wird. Diese Bewegung erzeugt eine Bogenspur auf dem
Sensor 22, die als Linie 27 in 4A gezeigt ist. Diese Daten werden ebenfalls
in dem Speicher des Rechners 30 gespeichert.
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Der Rechner 30 berechnet
dann aus diesen Daten den Punkt 28, an dem sich die beiden
Spuren 25, 27 schneiden. Die Werte aus den Codiereinrichtungen 31,
die den Greifarm 13 antreiben, und aus den Codiereinrichtungen 32,
die den Abtastarm 7 antreiben, werden dann in dieser Position
ebenfalls aufgezeichnet.
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Während
des Betriebs werden die den Greifarm 13 antreibenden Motoren 33 und
die den Abtastarm 7 antreibenden Motoren 34 auf
die aufgezeichneten Werte der Codiereinrichtungen 31, 32 gebracht,
die erforderlich sind, um die beiden Arme in eine Position zu bringen,
in denen die durchgehenden Löcher 16, 18 sich über der Übergabeposition 28 befinden.
In dieser Position befindet sich, da es eine festgelegte Beziehung
zwischen dem durchgehenden Loch 16 des Wafers 3 und
zwischen dem durchgehenden Loch 18 und dem E-Halter 6 gibt,
der Wafer 3 immer direkt über dem E-Halter 6.
Jedes Mal, wenn die Arme in die Übergabeposition
angetrieben werden, prüft
der Rechner 30 die Aufzeichnung aus dem Sensor 22,
um festzustellen, dass sich die beiden Arme tatsächlich in der korrekten Position
befinden. Dies ermöglicht
die Erfassung jeder Fehlausrichtung des Arms durch den Rechner unabhängig von
den die beiden Arme antreibenden Mechanismus. Noch innerhalb der
Toleranz, die für
die Übergabeposition
zulässig
ist, kann ein Abweichungsgrad auftreten. Die Abweichung wird von
dem Rechner 30 überwacht,
da er eine nützliche
diagnostische Information bereitstellt.