DE445273T1

DE445273T1 - Verfahren und vorrichtung zur kontrolle des einbrennens bei funkenregistriertem flachdruck.

Info

Publication number: DE445273T1
Application number: DE1990914611
Authority: DE
Inventors: E. Thomas E. Hampstead Nh 03826 Lewis; T. Michael Gardner Ma 01440 Nowak
Original assignee: Presstek, Inc., Hudson, N.H.
Priority date: 1989-09-21
Filing date: 1990-09-21
Publication date: 1992-01-16

Claims

October &Pgr;, 1991 &Egr;/&Agr;&KHgr; Anmeldenr. 90 914 611.0 WO 91/04154 &eegr;/, / C Presstek,Inc. UH H Unsere Akte: Pr-5731/E

1. Verfahren zum Modifizieren der Struktur einer lithographischen Platte mit mindestens einer Oberfläche mit höhere elektrischer Leitfähigkeit, auf der durch eine Aufzeichnungsvorrichtung
durch eine Funkenentladung eine Abbildung erfolgen soll, um
eine dadurch verursachte zu starke Verbrennung zu steuern, wobei eine elektrisch leitende Schicht unter der zumindestens einen Oberfläche eingeführt wird, auf der abgebildet werden soll, und wobei ein spezifischer Widerstand der leitenden Schicht von
mindestens 0,5 Ohm · cm ausgewählt wird.

2. Lithographische Platte mit mindestens einer Oberfläche, die
durch Funkenentladungen auf die Platte änderbar ist, um dadurch die Affinität der mindestens einen Oberfläche für mindestens ein Element der Gruppe bestehend aus Wasser und Druckfarbe zu ändern, wobei die Platte eine dünne Metallschicht mit hoher elektrischer Leitfähigkeit und darunter eine elektrisch leitfähige Schicht aufweist, deren spezifischer Widerstand mindestens 0,5 Ohm · cm beträgt.

3. Platte nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß der spezifische Widerstand der leitenden Schicht nicht größer als 1000 Ohm· cm ist.

4. Platte nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Metallschicht aus der Gruppe ausgewählt ist, die Aluminium und Kupfer enthält.

5. Platte nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß der spezifische Widerstand der leitenden Schicht nicht größer als 1000 Ohm · cm ist.

6. Platte nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche durch Entfernen der dünnen metallischen Schicht durch die Funkenentladung an jedem Abbildungspunkt geändert wird.

7. Platte nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß die Oberfläche durch Entfernen der dünnen metallischen Schicht durch die Funkenentladungen geändert wird.

8. Platte nach Anspruch 6, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schicht aus Silicon oder einem Fluorpolymeren über der dünnen metallischen Schicht vorgesehen ist.

9. Platte nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß eine Schicht aus Silicon oder einem Fluorpolymeren über der dünnen metallischen Schicht vorgesehen ist.

10. Verfahren zum Abbilden auf einer lithographischen Platte mit einer Druckoberfläche und einer dünnen metallischen Schicht und einem Substrat, wobei

a. die Druckoberfläche Funkenentladungen zwischen der Platte und einer Elektrode ausgesetzt wird, die einen kleinen Abstand von der Druckoberfläche aufweist, um eine Abbildung in Abhängigkeit von Bildsignalen zu erzeugen, welche Funkenentladungen eine ausreichende Wärmemenge erzeugen, um die dünne metallische Schicht von dem Substrat an denjenigen Stellen zu entfernen, die den Funkenentladungen ausgesetzt werden,

b. die Elektrode und die Platte relativ bewegt werden, um eine Abtastung der Druckoberfläche zu bewirken,

c. die Funkenentladungen zu der Platte in Abhängigkeit von Bildsignalen gesteuert werden, so daß diese zu ausgewählten Zeitpunkten bei der Abtastung auftreten, und wobei

d. Funkenenergie vernichtet wird, die größer als diejenige ist, die zur Erzeugung von Abbildungspunkten mit gewünschten Durchmessern benötigt wird, um dadurch eine Anordnung von Bildpunkten auf der Oberfläche zu bilden, welche dem durch die Bildsignale repräsentierten Bild entspricht.

11. Vorrichtung zur Herstellung einer lithographischen Platte, mit

a. einem lithographischen Plattenrohling mit einer Druck-Oberfläche, die eine dünne metallische Schicht und ein Substrat aufweist,

b. einer in der Nähe der Druckoberfläche angeordneten Elektrode zur Erzeugung von Funkenentladungen in Abhängigkeit von ein Bild repräsentierenden Bildsignalen, welche Funkenentladungen

eine ausreichende Wärmemenge erzeugen, um die dünne metallische Schicht von dem Substrat an den Stellen zu entfernen, die den Funkenentladungen ausgesetzt werden,

c. einer Einrichtung, um die Elektrode und den Plattenrohling relativ zu bewegen, um dadurch ein Abtasten der Druckoberfläche zu bewirken,

d. einer Einrichtung zur Steuerung der Funkenentladungen auf dem Plattenrohling in Abhängigkeit von Bildsignalen, so daß diese zu ausgewählten Zeitpunkten bei der Abtastung auftreten, sowie mit

e. einer Einrichtung zum Vernichten von Funkenenergie, die größer als diejenige ist, die zum Erzeugen von Bildpunkten benötigt wird, die gewünschte Durchmesser aufweisen, um dadurch eine Anordnung der Bildpunkte auf der Druckoberfläche herzustellen, die dem durch die Bildsignale repräsentierten Bild entspricht.

12. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der spezifische Widerstand der leitenden Schicht nicht größer als 1000 Ohm · cm ist.

13. Verfahren zum Abbilden auf einer lithographischen Platte mit einer Druckoberfläche, die eine dünne Metallschicht und ein Substrat aufweist, wobei

a. die Platte auf dem Plattenzylinder einer lithographischen Presse angeordnet wird, die mindestens einen Plattenzylinder, eine entsprechende Anzahl von Drucktuch-Zylindern und einen Andruckzylinder aufweist,

b. die Druckoberfläche Funkenentladungen zwischen der Platte und einer in der Nähe der Oberfläche angeordneten Elektrode ausgesetzt wird, die in Abhängigkeit von Bildsignalen erzeugt werden, die ein Bild repräsentieren, welche Funkenentladungen eine ausreichende Wärmemenge erzeugen, um die dünne metallische Schicht von dem Substrat an denjenigen Stellen zu entfernen, die den Funkenentladungen ausgesetzt werden,

c. die Elektrode und die Platte relativ bewegt werden, um ein Abtasten der Druckoberfläche zu erzielen,

d. die Funkenentladungen zu der Platte in Abhängigkeit von Bildsignalen gesteuert werden, so daß sie zu ausgewählten Zeitpunkten bei der Abtastung auftreten, und wobei

e. Funkenenergie vernichtet wird, die größer als diejenige ist, die zur Erzeugung von Bildpunkten mit gewünschten Durchmessern benötigt wird, wodurch eine Anordnung von Bildpunkten auf der Druckoberfläche ausgebildet wird, die dem durch die Bildsignale repräsentierten Bild entsprechen.

14. Vorrichtung zur Herstellung einer lithographischen Platte, mit

a. einem lithographischen Plattenrohling mit einer Druckoberfläche, die eine dünne metallische Schicht und ein Substrat aufweist,

b. einer lithographischen Presse mit mindestens einem Plattenzylinder, an dem der Plattenrohling angeordnet wird, einer entsprechenden Anzahl von Drucktuch-Zylindern und einem Andruckzylinder,

c. einer in der Nähe der Druckoberfläche vorgesehenen Elektrode zur Erzeugung von Funkenentladungen in Abhängigkeit von ein Bild repräsentierenden Bildsignalen, welche Funkenentladungen ausreichend Wärme erzeugen, um die dünne metallische Schicht von dem Substrat an denjenigen Stellen davon zu entfernen, die den Funkenentladungen ausgesetzt werden,

d. einer Einrichtung zur relativen Bewegung der Elektrode und des Plattenrohlings, um ein Abtasten der Druckoberfläche zu bewirken,

e. einer Einrichtung zur Steuerung von Funkenentladungen zu dem Plattenrohling in Abhängigkeit von Bildsignalen, derart daß diese zu ausgewählten Zeitpunkten bei der Abtastung auftreten, sowie mit

f. einer Einrichtung zum Vernichten von Funkenenergie, welche diejenige übersteigt, die zur Erzeugung von Bildpunkten mit gewünschten Durchmessern benötigt wird, um dadurch eine Anordnung der Bildpunkte auf der Druckoberfläche auszubilden, die dem durch die Bildsignale repräsentierten Bild entsprechen.