DE4431995A1 - Verfahren zur Herstellung von wasserstoffhaltigen Methylchlorsilanen - Google Patents
Verfahren zur Herstellung von wasserstoffhaltigen MethylchlorsilanenInfo
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- YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N chloro(methyl)silane Chemical class C[SiH2]Cl YGZSVWMBUCGDCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 14
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims description 14
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 title claims description 13
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 title claims description 13
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 title claims description 13
- -1 quaternary ammonium halides Chemical group 0.000 claims description 34
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 22
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 claims description 22
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 claims description 17
- 125000005843 halogen group Chemical group 0.000 claims description 15
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N Hydrochloric acid Chemical compound Cl VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N hydrogen chloride Substances Cl.Cl IXCSERBJSXMMFS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 13
- 229910000041 hydrogen chloride Inorganic materials 0.000 claims description 13
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 11
- 239000000203 mixture Substances 0.000 claims description 8
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims description 8
- 150000003512 tertiary amines Chemical class 0.000 claims description 8
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000003857 carboxamides Chemical class 0.000 claims description 7
- 150000003003 phosphines Chemical group 0.000 claims description 7
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 claims description 6
- 150000003012 phosphoric acid amides Chemical group 0.000 claims description 6
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 claims description 5
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 claims description 5
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 claims description 4
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims description 4
- 150000001408 amides Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000005840 aryl radicals Chemical class 0.000 claims description 3
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 claims description 3
- 230000003647 oxidation Effects 0.000 claims description 3
- 238000007254 oxidation reaction Methods 0.000 claims description 3
- 125000006413 ring segment Chemical group 0.000 claims description 3
- QUPDWYMUPZLYJZ-UHFFFAOYSA-N ethyl Chemical compound C[CH2] QUPDWYMUPZLYJZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 claims description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 claims description 2
- 150000002894 organic compounds Chemical class 0.000 claims description 2
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 claims description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 claims 1
- 150000001721 carbon Chemical class 0.000 claims 1
- 108090000623 proteins and genes Proteins 0.000 claims 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 claims 1
- NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N palladium;triphenylphosphane Chemical compound [Pd].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 NFHFRUOZVGFOOS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 15
- RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N triphenylphosphine Chemical class C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 RIOQSEWOXXDEQQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 7
- 239000000460 chlorine Substances 0.000 description 6
- PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N disilane Chemical compound [SiH3][SiH3] PZPGRFITIJYNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000000969 carrier Substances 0.000 description 5
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical class [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 4
- SFAZXBAPWCPIER-UHFFFAOYSA-N chloro-[chloro(dimethyl)silyl]-dimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)[Si](C)(C)Cl SFAZXBAPWCPIER-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 4
- 239000000047 product Substances 0.000 description 4
- ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N Chlorine atom Chemical compound [Cl] ZAMOUSCENKQFHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 3
- 238000003776 cleavage reaction Methods 0.000 description 3
- KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N dichloro(methyl)silicon Chemical compound C[Si](Cl)Cl KTQYJQFGNYHXMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 3
- 239000005048 methyldichlorosilane Substances 0.000 description 3
- 230000007017 scission Effects 0.000 description 3
- IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N tributylamine Chemical compound CCCCN(CCCC)CCCC IMFACGCPASFAPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 125000000008 (C1-C10) alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylpyridine Chemical compound CC1=CC=C(C)N=C1 XWKFPIODWVPXLX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N Quinoline Chemical compound N1=CC=CC2=CC=CC=C21 SMWDFEZZVXVKRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000002877 alkyl aryl group Chemical group 0.000 description 2
- 230000015572 biosynthetic process Effects 0.000 description 2
- GJCAUTWJWBFMFU-UHFFFAOYSA-N chloro-dimethyl-trimethylsilylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)Cl GJCAUTWJWBFMFU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N chloromethane Chemical compound ClC NEHMKBQYUWJMIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N chlorotrimethylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)Cl IJOOHPMOJXWVHK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 2
- KTPJDYNQZVAFBU-UHFFFAOYSA-N dichloro-[chloro(dimethyl)silyl]-methylsilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)[Si](C)(Cl)Cl KTPJDYNQZVAFBU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JTBAMRDUGCDKMS-UHFFFAOYSA-N dichloro-[dichloro(methyl)silyl]-methylsilane Chemical group C[Si](Cl)(Cl)[Si](C)(Cl)Cl JTBAMRDUGCDKMS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N dimethyldichlorosilane Chemical compound C[Si](C)(Cl)Cl LIKFHECYJZWXFJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N dmpu Chemical compound CN1CCCN(C)C1=O GUVUOGQBMYCBQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 150000002367 halogens Chemical group 0.000 description 2
- GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N hexamethylphosphoric triamide Chemical compound CN(C)P(=O)(N(C)C)N(C)C GNOIPBMMFNIUFM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 2
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 2
- 239000005055 methyl trichlorosilane Substances 0.000 description 2
- JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N methyltrichlorosilane Chemical compound C[Si](Cl)(Cl)Cl JLUFWMXJHAVVNN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SYKXNRFLNZUGAJ-UHFFFAOYSA-N platinum;triphenylphosphane Chemical compound [Pt].C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1.C1=CC=CC=C1P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 SYKXNRFLNZUGAJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 2
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 2
- 238000003786 synthesis reaction Methods 0.000 description 2
- NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M tetrabutylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[N+](CCCC)(CCCC)CCCC NHGXDBSUJJNIRV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- QFMZQPDHXULLKC-UHFFFAOYSA-N 1,2-bis(diphenylphosphino)ethane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)CCP(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 QFMZQPDHXULLKC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAXNXOMKCGKNCI-UHFFFAOYSA-N 1-diphenylphosphanylethyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C=1C=CC=CC=1)C(C)P(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 UAXNXOMKCGKNCI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QAIGYXWRIHZZAA-UHFFFAOYSA-M 1-methylpyridin-1-ium;chloride Chemical group [Cl-].C[N+]1=CC=CC=C1 QAIGYXWRIHZZAA-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- OFUFXTHGZWIDDB-UHFFFAOYSA-N 2-chloroquinoline Chemical compound C1=CC=CC2=NC(Cl)=CC=C21 OFUFXTHGZWIDDB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YGLJGOMFUHQSBN-UHFFFAOYSA-N 7-methyl-n,n-bis(7-methyloctyl)octan-1-amine Chemical compound CC(C)CCCCCCN(CCCCCCC(C)C)CCCCCCC(C)C YGLJGOMFUHQSBN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N Alumina Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N Bromine atom Chemical compound [Br] WKBOTKDWSSQWDR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000005046 Chlorosilane Substances 0.000 description 1
- RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N Copper Chemical compound [Cu] RYGMFSIKBFXOCR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N Fluorine Chemical compound FF PXGOKWXKJXAPGV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N N,N‐diethylformamide Chemical compound CCN(CC)C=O SUAKHGWARZSWIH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N N-Methylpyrrolidone Chemical compound CN1CCCC1=O SECXISVLQFMRJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N Pyrazole Chemical compound C=1C=NNC=1 WTKZEGDFNFYCGP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910008045 Si-Si Inorganic materials 0.000 description 1
- 229910006411 Si—Si Inorganic materials 0.000 description 1
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N ZrO2 Inorganic materials O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M benzyl(trimethyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].C[N+](C)(C)CC1=CC=CC=C1 KXHPPCXNWTUNSB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 238000009835 boiling Methods 0.000 description 1
- GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N bromine Substances BrBr GDTBXPJZTBHREO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- 235000013877 carbamide Nutrition 0.000 description 1
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 1
- 239000012876 carrier material Substances 0.000 description 1
- 239000000919 ceramic Substances 0.000 description 1
- 150000008280 chlorinated hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N chloro(dimethyl)silicon Chemical compound C[Si](C)Cl QABCGOSYZHCPGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KQHIGRPLCKIXNJ-UHFFFAOYSA-N chloro-methyl-silylsilane Chemical class C[SiH]([SiH3])Cl KQHIGRPLCKIXNJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N chlorosilane Chemical compound Cl[SiH3] KOPOQZFJUQMUML-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052802 copper Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010949 copper Substances 0.000 description 1
- NLUNLVTVUDIHFE-UHFFFAOYSA-N cyclooctylcyclooctane Chemical compound C1CCCCCCC1C1CCCCCCC1 NLUNLVTVUDIHFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 1
- JZALIDSFNICAQX-UHFFFAOYSA-N dichloro-methyl-trimethylsilylsilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(Cl)Cl JZALIDSFNICAQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PFKRTWCFCOUBHS-UHFFFAOYSA-N dimethyl(octadecyl)azanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCCCCCCCCCCCC[NH+](C)C PFKRTWCFCOUBHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000008030 elimination Effects 0.000 description 1
- 238000003379 elimination reaction Methods 0.000 description 1
- 229910052731 fluorine Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011737 fluorine Substances 0.000 description 1
- 150000004820 halides Chemical class 0.000 description 1
- NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N hexamethyldisilane Chemical compound C[Si](C)(C)[Si](C)(C)C NEXSMEBSBIABKL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052809 inorganic oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 150000001247 metal acetylides Chemical class 0.000 description 1
- UJNZOIKQAUQOCN-UHFFFAOYSA-N methyl(diphenyl)phosphane Chemical compound C=1C=CC=CC=1P(C)C1=CC=CC=C1 UJNZOIKQAUQOCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QRPRIOOKPZSVFN-UHFFFAOYSA-M methyl(triphenyl)phosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].C=1C=CC=CC=1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C)C1=CC=CC=C1 QRPRIOOKPZSVFN-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M methyltrioctylammonium chloride Chemical compound [Cl-].CCCCCCCC[N+](C)(CCCCCCCC)CCCCCCCC XKBGEWXEAPTVCK-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- IMNDHOCGZLYMRO-UHFFFAOYSA-N n,n-dimethylbenzamide Chemical compound CN(C)C(=O)C1=CC=CC=C1 IMNDHOCGZLYMRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N n,n-dioctyloctan-1-amine Chemical compound CCCCCCCCN(CCCCCCCC)CCCCCCCC XTAZYLNFDRKIHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ROZPNEGZBIUWBX-UHFFFAOYSA-N n-[bis(diethylamino)phosphoryl]-n-ethylethanamine Chemical compound CCN(CC)P(=O)(N(CC)CC)N(CC)CC ROZPNEGZBIUWBX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);zirconium(4+) Chemical compound [O-2].[O-2].[Zr+4] RVTZCBVAJQQJTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 description 1
- 150000004760 silicates Chemical class 0.000 description 1
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N silicon carbide Chemical compound [Si+]#[C-] HBMJWWWQQXIZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910010271 silicon carbide Inorganic materials 0.000 description 1
- FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N silicon tetrachloride Chemical compound Cl[Si](Cl)(Cl)Cl FDNAPBUWERUEDA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 1
- IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M tetrabutylphosphanium;chloride Chemical compound [Cl-].CCCC[P+](CCCC)(CCCC)CCCC IBWGNZVCJVLSHB-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M tetraphenylphosphonium chloride Chemical compound [Cl-].C1=CC=CC=C1[P+](C=1C=CC=CC=1)(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 WAGFXJQAIZNSEQ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000004408 titanium dioxide Substances 0.000 description 1
- 239000005051 trimethylchlorosilane Substances 0.000 description 1
- PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N trimethylsilane Chemical compound C[SiH](C)C PQDJYEQOELDLCP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N triphenylamine Chemical compound C1=CC=CC=C1N(C=1C=CC=CC=1)C1=CC=CC=C1 ODHXBMXNKOYIBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C07—ORGANIC CHEMISTRY
- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
- C07F7/08—Compounds having one or more C—Si linkages
- C07F7/12—Organo silicon halides
- C07F7/121—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20
- C07F7/128—Preparation or treatment not provided for in C07F7/14, C07F7/16 or C07F7/20 by reactions covered by more than one of the groups C07F7/122 - C07F7/127 and of which the starting material is unknown or insufficiently determined
-
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- C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
- C07F7/00—Compounds containing elements of Groups 4 or 14 of the Periodic Table
- C07F7/02—Silicon compounds
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- C07F7/12—Organo silicon halides
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Landscapes
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Description
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von
wasserstoffhaltigen Methylchlorsilanen durch Spaltung von
Disilanen mit Chlorwasserstoff in Gegenwart von Katalysator
bestehend aus A) Palladium(0) und Platin(0) und B) organi
scher Verbindung, die ausgewählt wird aus tertiären Aminen,
Carbonsäureamiden, Alkylharnstoffen tertiären Phosphinen
und Phosphorsäureamiden quartären Ammoniumhalogeniden
quartären Phosphoniumhalogeniden oder deren Gemischen.
Bei der Direktsynthese von Methylchlorsilanen nach
Müller-Rochow aus Silicium und Chlormethan bei 250 bis 300°C mit
Kupferkatalysatoren fallen als Nebenprodukte Disilane an.
Hauptsächlich entstehen 1,1,2,2-Tetrachlordimethyldisilan
und 1,1,2-Trichlortrimethyldisilan. Zusammen mit dem
1,1-Dichlortetramethyldisilan lassen sie sich durch katalysierte
Umsetzung mit Chlorwasserstoff zu Monosilanen spalten. Als
Katalysatoren werden bei R. Calas et al. J. Organometall.
Chem., 225, 117, 1982 tertiäre Amine oder Amide sowie bei
DD-A 2 74 227 Alkylharnstoffe oder Phosphorsäureamide verwen
det. Als Hauptprodukte entstehen Methyltrichlorsilan, Dime
thyldichlorsilan und Methyldichlorsilan. Die theoretische
Ausbeute an Methyldichlorsilan wird nicht erreicht, da in
einer Nebenreaktion das wasserstoffhaltige Silan mit Chlor
wasserstoff unter Wasserstoffabspaltung zu einem Chlorsilan
abreagiert.
1,2-Dichlortetramethyldisilan, Chlorpentamethyldisilan und
Hexamethyldisilan können mit den oben genannten Katalysato
ren und Chlorwasserstoff nicht gespalten werden. In der
JP-A 54-9228 wird Tetrakis(triphenylphosphin)palladium(0) als Ka
talysator zur Spaltung von Methylchlordisilanen, auch
1,2-Dichlortetramethyldisilan eingesetzt. Es werden wasserstoff
haltige Monosilane erhalten. Die Raum-Zeit-Leistung ist al
lerdings recht gering.
Es bestand die Aufgabe, einen Katalysator zur Spaltung sämt
licher bei der Methylchlorsilansynthese anfallender Disilane
bereitzustellen, der die Disilane mit hoher Raum-Zeit-Lei
stung spaltet und die wasserstoffhaltigen Methylchlorsilane
in besserer Ausbeute liefert.
Die Erfindung betrifft ein Verfahren zur Herstellung von
wasserstoffhaltigen Methylchlorsilanen der allgemeinen For
mel I
RxCl3-xSiH (I)
bei dem Disilane der allgemeinen Formel II
RxCl3-xSi-SiRxCl3-x (II)
wobei in den allgemeinen Formeln I und II
R ein Wasserstoffatom, einen Methyl- Phenyl- oder Ethyl rest bedeutet und
x die Werte 0, 1, 2 oder 3 hat,
mit Chlorwasserstoff in Gegenwart von Katalysator bestehend aus
R ein Wasserstoffatom, einen Methyl- Phenyl- oder Ethyl rest bedeutet und
x die Werte 0, 1, 2 oder 3 hat,
mit Chlorwasserstoff in Gegenwart von Katalysator bestehend aus
- A) Palladium(0) und Platin(0) und
- B) organischer Verbindung, die ausgewählt wird aus tertiären Aminen, Carbonsäureamiden, Alkylharnstoffen, tertiären Phosphinen, Phosphorsäureamiden, quartären Am moniumhalogeniden, quartären Phosphoniumhalogeniden oder deren Gemischen,
umgesetzt werden.
Das Verfahren spaltet sämtliche Disilane mit hoher Raum-Zeit-Leistung.
Gleichzeitig wirkt Katalysatorbestandteil A mode
rierend auf den Katalysatorbestandteil B, so daß die Ausbeu
te an wasserstoffhaltigen Methylchlorsilanen hoch ist.
Die eingesetzten Disilane können noch Methylchlorsilane,
Kohlenwasserstoffe, Chlorkohlenwasserstoffe, Carbosilane und
Siloxane enthalten. Vorzugsweise beträgt der Gehalt an Disi
lanen mindestens 50 Gew.-%.
Der Chlorwasserstoff wird vorzugsweise gasförmig zugegeben.
Vorzugsweise werden 1 bis 4 Mol Chlorwasserstoff, insbeson
dere 1 bis 1,5 Mol Chlorwasserstoff pro Mol Si-Si Bindungen
verwendet. Da Chlorwasserstoff bei den in Frage kommenden
Temperaturen und Drücken als Gas vorliegt, ist er nach der
Umsetzung sehr leicht aus den Methylchlorsilanen abtrennbar.
Es kann handelsüblicher Chlorwasserstoff eingesetzt werden.
Als Katalysatorbestandteil A können Palladium oder Platin
der Oxidationsstufe 0 entweder in metallischer Form oder als
Komplexverbindungen eingesetzt werden.
Als Komplexverbindungen sind im Disilangemisch und in den
hergestellten Methylchlorsilanen lösliche Verbindungen be
vorzugt. Beispiele für bevorzugte Komplexverbindungen sind
Tetrakis(triphenylphosphin)palladium(0), Tetra
kis(triphenylphosphin)platin(0),
Bis[bis(1,2-diphenylphosphino)ethan]palladium(0) und Tetra
kis(methyldiphenylphosphin)palladium(0). Besonders bevorzugt
sind Tetrakis(triphenylphosphin)palladium(0) und Tetra
kis(triphenylphosphin)platin(0).
Wenn Palladium oder Platin in metallischer Form eingesetzt
werden, können sie in beliebiger Form, beispielsweise als
Netz oder Blech oder in feinverteilter Form eingesetzt wer
den. Vorzugsweise werden die Metalle auf Träger aufgebracht,
um sie beispielsweise in einem durchströmten Festbettreak
tor, wie einer Destillationskolonne oder einem Durchflußre
aktor, einsetzen zu können. Die Träger sind dann vorzugswei
se stückig, um den Druckabfall beim Durchströmen mit Disila
nen der allgemeinen Formel II möglichst gering zu halten.
Besonders bevorzugt werden Metalle auf pulvrigen Trägern, um
sie beispielsweise in Umlaufverdampfern von Destillationsko
lonnen oder Reaktoren einzusetzen.
Bei den Trägermaterialien kommen alle gängigen Materialien,
wie Kohlen und Keramikträger, in Frage. Beispiele für Träger
sind Aktivkohle und anorganische Oxide, wie Siliciumdioxid,
Aluminium(III)oxid, Silikate, Titandioxid, Zirkondioxid;
Carbide, wie Siliciumcarbid; wobei Aktivkohle und Silicium
dioxid bevorzugte Beispiele sind. Besonders bevorzugt als
Katalysator A ist Palladium auf Aktivkohle.
Derartige Katalysatoren A, bei denen sich die feinverteilten
Metalle auf Trägern befinden, können durch Reduktion von Me
tallverbindungen in Gegenwart des Trägers hergestellt wer
den.
Die Konzentration der Metalle auf den Trägern beträgt vor
zugsweise 0,5 bis 5 Gew.-%, bezogen auf das Gesamtgewicht
des Trägers und des Metalls; es können aber auch höhere oder
niedrigere Konzentrationen verwendet werden.
Vorzugsweise beträgt der Anteil an Palladium oder Platin der
Oxidationsstufe 0 des Katalysatorbestandteils A mindestens
3 mol-%, vorzugsweise höchstens 25 mol-%, bezogen auf alle
Katalysatorbestandteile.
Die tertiären Amine B weisen vorzugsweise Alkylreste oder
Arylreste mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen auf, welche mit Ha
logenatomen substituiert sein können. Beispiele für bevor
zugte tertiäre Amine sind Tributylamin, Trioctylamin, Tri
isononylamin und Triphenylamin.
Eingesetzt werden können auch verbrückte Di- oder Triamine,
wie Tetramethylethylendiamin, und Diaza[2,2,2]bicyclooctan.
Zu den tertiären Aminen zählen auch 3-7-Ring-Heterocyclen,
auch anneliert, mit mindestens einem basischen Stickstoff
atom und 2-10 Kohlenstoffatomen. Die Ringe können
C₁-C₁₀-Alkyl- und/oder Halogensubstituenten aufweisen.
Beispiele sind Pyrazol, Pyridin, Chinolin, 2,5-Dimethylpyridin und
2-Chlorchinolin.
Die Carbonsäureamide B sind vorzugsweise mit 2 Alkylresten
oder Arylresten von jeweils 1 bis 10 Kohlenstoffatomen sub
stituierte Amide von Alkylcarbonsäuren oder Arylcarbonsäuren
mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen. Die Aryl- oder Alkylreste
der Carbonsäuren und am Stickstoffatom können mit Halogen
atomen substituiert sein. Ebenfalls bevorzugt sind cyclische
Carbonsäureamide, deren einer Alkylrest am Stickstoffatom
mit dem Alkylrest an der Carbonsäure zu einem heterocycli
schen Ring aus 5 oder 6 Ringatomen verbunden ist. Beispiele
für bevorzugte Carbonsäureamide sind N,N,-Dimethylformamid,
1-Methyl-2-pyrrolidon, N,N-Diethylformamid und N,N-Dimethyl
benzoesäureamid.
Die Alkylharnstoffe B weisen vorzugsweise Alkylreste mit 1
bis 10 Kohlenstoffatomen auf, welche mit Halogenatomen sub
stituiert sein können. Ebenfalls bevorzugt sind cyclische
Alkylharnstoffe, bei denen zwei Alkylreste miteinander zu
einem heterocyclischen Ring aus 5 oder 6 Ringatomen verbun
den sind- Beispiele für bevorzugte Alkylharnstoffe sind Te
tramethylharnstoff, 1,3-Dimethyl-3,4,5,6-tetrahydro-2(1H)-pyrimidon
(DMPU).
Die tertiären Phosphine B weisen vorzugsweise 2 oder 3 Aryl
reste von jeweils 6 bis 20 Kohlenstoffatomen auf. Die Aryl
reste sind gegebenenfalls mit Alkylresten mit 1 bis 10 Koh
lenstoffatomen und Halogenatomen substituiert. Beispiele für
bevorzugte tertiäre Phosphine und ggf. mit einem Halogenatom
oder höchstens drei Alkylresten mit 1 bis 10 Kohlenstoffato
men substituierte Triphenylphosphine sind Triphenylphosphin
und Bis(diphenylphosphino)ethan.
Die Phosphorsäureamide B sind vorzugsweise mit 6 Alkylresten
von jeweils 1 bis 10 Kohlenstoffatomen substituiert. Die Al
kylreste können mit Halogenatomen substituiert sein. Bei
spiele für bevorzugte Phosphorsäureamide sind Hexamethyl
phosphorsäuretriamid (HMPT), und Hexaethylphosphorsäuretri
amid.
Die quartären Ammoniumhalogenide weisen vorzugsweise Alkyl-,
Alkaryl- oder Arylgruppen mit 1-20 C-Atomen auf und sind
ggf. mit Halogenatomen substituiert. Beispiele sind Tetrame
thylammoniumchlorid, Tetrabutylammoniumchlorid, Methyltrioc
tylammoniumchlorid, Benzyltrimethylammoniumchlorid und Di
stearyldimethylammoniumchlorid.
Zu den quartären Ammoniumhalogeniden zählen auch N-alkylier
te 3-7-Ring-Heterocyclen, auch anneliert, mit 2-10 Koh
lenstoffatomen. Die Ringe können C₁-C₁₀-Alkyl- und/oder
Halogensubstituenten aufweisen. Ein bevorzugtes Beispiel ist
N-Methyl-pyridiniumchlorid.
Die quartären Phosphoniumhalogenide weisen vorzugsweise Al
kyl-, Alkaryl- oder Arylgruppen mit 1-20 C-Atomen auf und
sind ggf. mit Halogenatomen substituiert. Beispiele sind das
Methyltriphenylphosphoniumchlorid, Tetrabutylphosphonium
chlorid und das Tetraphenylphosphoniumchlorid.
Besonders bevorzugt wird die Kombination von Palladiummetall
auf Träger mit tertiären Phosphinen eingesetzt.
Als Halogenatome, die als Substituenten oder als Gegenion
des Katalysatorbestandteils B fungieren, sind Fluor, Chlor
und Brom bevorzugt. Besonders bevorzugt ist Chlor.
Bezogen auf die im Reaktor befindliche Menge an Disilanen
werden vorzugsweise 0,5 bis 20 Gew.-%, insbesondere 1 bis 5 Gew.-%
eingesetzt.
Das Verfahren kann absatzweise, halbkontinuierlich oder
vollkontinuierlich durchgeführt werden, wobei bevorzugt die
vollkontinuierliche Fahrweise zum Einsatz kommt. Insbesonde
re wird das Verfahren kontinuierlich bei Siedetemperatur in
einem Reaktor mit aufgesetzter Destillationseinrichtung
durchgeführt. Dabei werden die Disilane der allgemeinen For
mel II und Chlorwasserstoff in dem Maße zudosiert, wie ent
standene wasserstoffhaltige Methylchlorsilane der allgemei
nen Formel I zusammen mit wasserstofffreien Methylchlorsila
nen abdestillieren.
Die Reaktionstemperatur beträgt vorzugsweise mindestens
100°C. Die Umsetzung findet vorzugsweise bei 0,08 bis 0,8 MPa
statt.
Beispiele für wasserstoffhaltige Methylchlorsilane der all
gemeinen Formel I sind Methyldichlorsilan, Dimethylchlorsi
lan und Trimethylsilan. Die ebenfalls im Verfahren entste
henden Methylchlorsilane, wie Methyltrichlorsilan, Dimethyl
dichlorsilan, Trimethylchlorsilan und Tetrachlorsilan sind
ebenfalls, wertvolle Produkte.
In den nachfolgenden Beispielen sind, falls jeweils nicht
anders angegeben,
- a) alle Mengenangaben auf das Gewicht bezogen;
- b) alle Drücke 0,10 MPa (abs.);
- c) alle Temperaturen 20°C.
In einem 4 l Kolben mit aufgesetzter Destillationseinrich
tung und Gaseinleitrohr für Chlorwasserstoff wurden der Ka
talysator und 2 l Disilangemisch vorgelegt. Chlorwasserstoff
wurde eingeleitet und die Mischung bei Normaldruck zum Sie
den (Reaktortemperatur 140°C) erhitzt. Über eine Dosierein
richtung wurde das Disilangemisch so zugegeben, daß sich der
Füllstand nicht veränderte. Die abdestillierten Produkte
wurden kondensiert und analysiert. Das Disilangemisch be
stand hauptsächlich aus 1,1,2,2-Tetrachlordimethyldisilan
und 1,1,2-Trichlortrimethyldisilan und daneben 1,2-Dichlor
tetramethyldisilan, Chlorpentamethyldisilan, Hexamethyldisi
lan und Resten von Monosilanen und Kohlenwasserstoffen. Die
Ergebnisse sind in Tabelle I zusammengestellt.
Katalysator Tributylamin
Katalysator Tetrakis(triphenylphosphin)palladium(0)
Tributylamin (95 mol-%) und
Tetrakis(triphenylphosphin)palladium(0) (5 mol-%)
Beispiel 3 zeigt, daß durch die Kombination von Katalysato renbestandteilen A und B der Anteil wasserstoffhaltiger Si lane gegenüber den einzelnen Katalysatorbestandteilen deut lich gesteigert werden kann. Wird Tetrakis(triphenylphosphin)palladium(0) eingesetzt, entsteht Di methylchlorsilan, das aus der Spaltung von 1,2-Dichlorte tramethyldisilan und Chlorpentamethylsilan stammt. Die Raum-Zeitleistung bei reinem Pd(0)-Komplex ist aber deutlich ge ringer.
Beispiel 3 zeigt, daß durch die Kombination von Katalysato renbestandteilen A und B der Anteil wasserstoffhaltiger Si lane gegenüber den einzelnen Katalysatorbestandteilen deut lich gesteigert werden kann. Wird Tetrakis(triphenylphosphin)palladium(0) eingesetzt, entsteht Di methylchlorsilan, das aus der Spaltung von 1,2-Dichlorte tramethyldisilan und Chlorpentamethylsilan stammt. Die Raum-Zeitleistung bei reinem Pd(0)-Komplex ist aber deutlich ge ringer.
Die Beispiele wurden analog den Beispielen 1 bis 3 durchge
führt. Die Ergebnisse sind in Tabelle II zusammengestellt.
Triphenylphosphin
Triphenylphosphin (97 mol-%) und
Tetrakis(triphenylphosphin)palladium(0) (3 mol-%)
Die Beispiele wurden analog den Beispielen 1 bis 3 durchge
führt. Die Ergebnisse sind in Tabelle 111 zusammengestellt.
Katalysator: 3% Palladium auf Aktivkohle (Typ K 0224 von
W.C. Heraeus GmbH, Hanau)
Katalysator: 3% Palladium auf Aktivkohle (wie Beispiel 6)
und Triphenylphosphin
Claims (9)
1. Verfahren zur Herstellung von wasserstoffhaltigen Me
thylchlorsilanen der allgemeinen Formel I
RxCl3-xSiH (I)bei dem Disilane der allgemeinen Formel IIRxCl3-xSi-SiRxCl3-x (II)wobei in den allgemeinen Formeln I und II
R ein Wasserstoffatom, einen Methyl- Phenyl- oder Ethylrest bedeutet und
x die Werte 0, 1, 2 oder 3 hat,
mit Chlorwasserstoff in Gegenwart von Katalysator beste hend aus
R ein Wasserstoffatom, einen Methyl- Phenyl- oder Ethylrest bedeutet und
x die Werte 0, 1, 2 oder 3 hat,
mit Chlorwasserstoff in Gegenwart von Katalysator beste hend aus
- A) Palladium(0) und Platin(0) und
- B) organischer Verbindung, die ausgewählt wird aus tertiären Aminen, Carbonsäureamiden, Alkylharnstof fen, tertiären Phosphinen, Phosphorsäureamiden, quar tären Ammoniumhalogeniden, quartären Phosphoniumha logeniden oder deren Gemischen umgesetzt werden.
2. Verfahren nach Anspruch 1, bei dem als Katalysatorbe
standteil A Palladium oder Platin der Oxidationsstufe 0
entweder in metallischer Form oder als Komplexverbindun
gen eingesetzt werden.
3. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem als Katalysa
torbestandteil B tertiäre Amine eingesetzt werden, die
Alkylreste mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen aufweisen,
welche mit Halogenatomen substituiert sein können.
4. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem als Katalysa
torbestandteil B Carbonsäureamide eingesetzt werden, die
mit 2 Alkylresten von jeweils 1 bis 10 Kohlenstoffatomen
substituierte Amide von Alkylcarbonsäuren mit 1 bis 10
Kohlenstoffatomen sind, wobei die Alkylreste der Carbon
säuren und am Stickstoffatom mit Halogenatomen substi
tuiert sein können und wobei bei den Carbonsäureamiden
ein Alkylrest am Stickstoffatom mit dem Alkylrest an der
Carbonsäure zu einem heterocyclischen Ring aus 5 oder 6
Ringatomen verbunden sein kann.
5. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem als Katalysa
torbestandteil B Alkylharnstoffe eingesetzt werden, die
Alkylreste mit 1 bis 10 Kohlenstoffatomen aufweisen,
welche mit Halogenatomen substituiert sein können und
wobei bei den Alkylharnstoffen, zwei Alkylreste mitein
ander zu einem heterocyclischen Ring aus 5 oder 6 Ring
atomen verbunden sein können.
6. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem als Katalysa
torbestandteil B tertiäre Phosphine eingesetzt werden,
die 3 Arylreste von jeweils 6 bis 20 Kohlenstoffatomen
aufweisen, welche mit Alkylresten mit 1 bis 10 Kohlen
stoffatomen und Halogenatomen substituiert sein können.
7. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem als Katalysa
torbestandteil B Phosphorsäureamide eingesetzt werden,
die mit 6 Alkylresten von jeweils 1 bis 10 Kohlenstoff
atomen substituiert sind, welche mit Halogenatomen sub
stituiert sein können.
8. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem als Katalysa
torbestandteil B quartäre Ammoniumhalogenide eingesetzt
werden, die 3 Aryl- oder Alkylreste von jeweils 1 bis 20
Kohlenstoffatomen aufweisen, welche mit Halogenatomen
substituiert sein können.
9. Verfahren nach Anspruch 1 oder 2, bei dem als Katalysa
torbestandteil B quartäre Phosphoniumhalogenide einge
setzt werden, die 3 Aryl- oder Alkylreste von jeweils 1
bis 20 Kohlenstoffatomen aufweisen, welche mit Halogen
atomen substituiert sein können.
Priority Applications (5)
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| DE4431995A DE4431995A1 (de) | 1994-09-08 | 1994-09-08 | Verfahren zur Herstellung von wasserstoffhaltigen Methylchlorsilanen |
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| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| DE4431995A1 true DE4431995A1 (de) | 1996-03-14 |
Family
ID=6527716
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| DE4431995A Withdrawn DE4431995A1 (de) | 1994-09-08 | 1994-09-08 | Verfahren zur Herstellung von wasserstoffhaltigen Methylchlorsilanen |
Country Status (5)
| Country | Link |
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| US (1) | US5502230A (de) |
| EP (1) | EP0700920A1 (de) |
| JP (1) | JP2815558B2 (de) |
| CN (1) | CN1126724A (de) |
| DE (1) | DE4431995A1 (de) |
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-
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- 1995-08-14 US US08/514,529 patent/US5502230A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-09-05 JP JP7228299A patent/JP2815558B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 1995-09-07 EP EP95114015A patent/EP0700920A1/de not_active Ceased
- 1995-09-08 CN CN95116953.XA patent/CN1126724A/zh active Pending
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP2455384A1 (de) | 2010-11-23 | 2012-05-23 | Wacker Chemie AG | Verfahren zum Aufarbeiten von flüssigen Rückständen der Direktsynthese von Organochlorsilanen |
| DE102010061814A1 (de) | 2010-11-23 | 2012-05-24 | Wacker Chemie Ag | Verfahren zum Aufarbeiten von flüssigen Rückständen der Direktsynthese von Organochlorsilanen |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| CN1126724A (zh) | 1996-07-17 |
| JPH0881477A (ja) | 1996-03-26 |
| EP0700920A1 (de) | 1996-03-13 |
| JP2815558B2 (ja) | 1998-10-27 |
| US5502230A (en) | 1996-03-26 |
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