DE4427618A1 - Drahtzuführungseinrichtung - Google Patents
DrahtzuführungseinrichtungInfo
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- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C23—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
- C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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- C23C14/246—Replenishment of source material
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Description
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zur Zufüh
rung eines Drahtes in ein Schmelzbad gemäß den
kennzeichnenden Merkmalen des Patentanspruchs 1.
Die Beschichtung von Substraten mittels der Be
dampfungstechnik ist bekannt. Hierbei wird das
aufzutragende Material zum Beispiel in einem Tie
gel, vorzugsweise einem Schiffchenverdampfer er
wärmt, in die Gasphase überführt und auf einem dem
Schiffchenverdampfer gegenüber angeordneten Sub
strat abgeschieden. Zur Beschichtung von an dem
Schiffchenverdampfer vorbeigeführten Substraten,
z. B. mit einer Metallschicht zu bedampfender Fo
lien, ist es erforderlich, das zu verdampfende Ma
terial dem Schiffchenverdampfer kontinuierlich zu
zuführen, um eine gleichmäßige Beschichtung zu er
zielen. Als zweckmäßig hat sich erwiesen, das zu
verdampfende Gut in Drahtform dem Schiffchenver
dampfer kontinuierlich zuzuführen. Entsprechend
der gewünschten Bedampfungsrate, wird die Vor
schubgeschwindigkeit des von einer Rolle abgewic
kelten Drahtes eingestellt.
Dabei hat sich als nachteilig herausgestellt, daß
infolge der Wärmeeinwirkung auf den freigehalter
ten Drahtabschnitt, dieser aufgrund thermischer
Belastung nicht raumfest ist, und insbesondere
keine stabile Zuführungslage in Bezug zum Schiff
chenverdampfer beibehält. Hierdurch "wandert" der
Draht mit seiner in die Schmelze eintauchenden
Spitze über die Schmelzoberfläche. Aufgrund der
nicht homogenen Temperaturverteilung über die ge
samte Schiffchenverdampferlänge, führt dies zu
über die Schiffchenverdampferlänge zeitlich sich
ändernden, ortsabhängigen Verdampfungsraten und
damit nachteilig zu einem ungleichmäßigen Schicht
auftrag auf dem Substrat.
Aufgabe der vorliegenden Erfindung ist es, diese
durch die ungleichmäßigen Beschichtungsraten auf
tretenden Nachteile zu vermeiden und eine einfache
und damit kostengünstige Vorrichtung zu schaffen,
mit der eine wesentlich verbesserte Beschichtungs
qualität erzielbar ist.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst,
daß der dem Schiffchenverdampfer zugeführte Draht
abschnitt mittels einer in unmittelbarer Nähe des
Verdampfers vorgesehene und ohne die Verdampfungs
wolke, störende Drahtführungseinrichtung in seinen
Auslenkungen senkrecht zur Vorschubrichtung
mittels mechanischer Mittel eingeschränkt wird,
mittels welcher eine raumfeste Stabilisierung des
in die Schmelze eintauchenden Drahtabschnittes er
zielbar ist. Eine erfindungsgemäße Drahtführungs
einrichtung besteht im wesentlichen aus Leitflä
chen, die den Draht in Richtung auf einen eng be
grenzten Oberflächenbereich der Schmelze lenken.
Da die Drahtführungseinrichtung in unmittelbarer
Nähe, d. h. auf dem Verdampferschiffchen selbst
angeordnet ist, tritt vorteilhaft keine Schatten
wirkung für die auf dem Substrat auftreffende Ver
dampferwolke ein. Weiterhin wird vorteilhaft ver
mieden, daß infolge einer sich in Bezug zum
Schiffchenverdampfer ändernden Eintauchposition
des Drahtes in die Schmelze, ortsabhängig unter
schiedliche Verdampfungsraten auftreten, so daß
über die gesamte Verdampfungszeit eine gleichmäßig
hohe Verdampfungsrate erzielbar ist.
Die Drahtführungseinrichtung besteht, wie in den
Ansprüchen 5 und 7 vorgeschlagen, aus einem ther
misch widerstandsfähigen Keramikmaterial, wodurch
hohe Standzeiten erzielbar sind. Zur Vermeidung
einer horizontalen Wanderungsbewegung der Draht
spitze in Längsausdehnung des Schiffchenverdamp
fers hat sich als vorteilhaft herausgestellt, als
Drahtführungseinrichtung eine senkrecht auf dem
Tiegelrand stehende Leitfläche zu verwenden. Der
vorzugsweise unter einem flachen Winkel auf diese
Fläche auftreffende Draht, wird durch diese Leit
fläche innerhalb eines eng begrenzten Bereiches in
die Schmelze geleitet. Zur Vermeidung einer auch
horizontalen Drift der eintauchenden Drahtspitze,
sind zusätzliche Schrägflächen vorgesehen, welche
im wesentlichen symmetrisch auf der Leitfläche an
geordnet sind und den Drahtabschnitt auch in sei
ner horizontalen Eintauchposition fixieren.
Nach einer weiteren vorteilhaften Ausführungsform
besteht die Drahtzuführungseinrichtung aus einem
Trichter, der in einem auf dem Schiffchenverdamp
fer aufzusetzenden Schiffchenaufsatz ausgebildet
ist. Die Spitze des Drahtabschnittes trifft dabei
auf die Trichterflächen und wird durch diese hin
durch in das unterhalb der Trichteröffnung befind
liche Schmelzbad geführt. Die aus dem Schmelzbad
aufsteigende Verdampfungswolke kann dabei durch
eine in den Trichteraufsatz benachbart zum Trich
ter angeordnete Verdampfungsöffnung austreten. Ge
mäß einem weiteren Ausführungsbespiel ist vorgese
hen, daß der Trichter in einem auf dem Schiffchen
verdampfer aufliegenden Leitflächenträger ausge
bildet ist. Der Leitflächenträger überdeckt das
Schmelzbad im wesentlichen in einem Längsmittenbe
reich. In den beiden längsseitigen Endzonenberei
chen bleibt die Schmelze dadurch vorteilhaft nicht
abgedeckt, wodurch sich zwei Verdampfungswolken
ausbilden können. Ein derartiger den Schiffchen
verdampfer nur teilweise überdeckender Gleitflä
chenträger kann vorteilhaft einstückig, unter Ver
wendung von nur geringem Keramikmaterialeinsatz
geschaffen werden.
Weitere, die Erfindung vorteilhaft weiterbildende
Ausführungsbeispiele sind in den Unteransprüchen 2
bis 8 angegeben.
Erfindungsgemäße, besonders vorteilhafte Ausfüh
rungsformen der Drahtzuführungseinrichtung werden
in den anliegenden Zeichnungen nachfolgend näher
dargestellt. Es zeigen:
Fig. 1 Ein, mittels zwei Einspannstücken fix
ierter Schiffchenverdampfer mit einer
Drahtführungseinrichtung in perspektivi
scher Ansicht,
Fig. 2a Aufsicht auf eine Leitflächeneinrichtung
mit zugeführtem Draht,
Fig. 2b Eine Seitenansicht der in Fig. 2a dar
gestellten Leitflächeneinrichtung,
Fig. 3 Eine perspektivische Ansicht eines ober
halb eines Schiffchenverdampfers ange
ordneten Schiffchenaufsatzes
Fig. 4 Eine perspektivische Ansicht einer als
Trichter in einem Leitflächenträger aus
gebildeten Drahtführungsvorrichtung.
Die Drahtführungseinrichtung nach Fig. 1 zeigt
ein rechteckförmiges Verdampferschiffchen 2, das
an seinen Stirnseiten von zwei Einspannstücken 4a,
4b gehalten wird. Der Schiffchenverdampfer 2 be
steht aus einer elektrisch leitenden Keramik und
wird durch direkten Stromdurchgang beheizt. Der zu
verdampfende Draht 6 wird parallel zur Längsrich
tung des Schiffchenverdampfers 2 in das im wesent
lichen sich über die gesamte Länge des Schiffchen
verdampfers 2 erstreckende Schmelzbad 8 unter ei
nem Winkel von ca. 30 Grad zugeführt. Der von ei
ner in der Fig. 1 nicht dargestellten Abwickel
rolle zugeführte Draht 6 besitzt vorzugsweise einen
Durchmesser von ca. 1,5-2,5 min und eine freitra
gende Länge von ca. 130 mm. Der unter der Vorschu
brichtung V dem Schiffchenverdampfer 2 zugeführte
Draht 6 trifft mit seiner Spitze 7 auf eine im we
sentlichen senkrecht stehende Auftrittfläche 12
und wird durch diese in einen eng begrenzten Ein
tauchbereich der Schmelze 8 gelenkt. Vertikale
Auslenkbewegungen des Drahtes 6, die zu in Längs
richtung des Schiffchenverdampfers 2 sich ändern
den Eintauchstellen führen, werden dadurch unter
bunden. Zum Auswechseln der Leitfläche 12, zum
Beispiel nach Verschleiß eines Schiffchenverdamp
fers 2 sind in dem Tiegelrand 3 des Schiffchenver
dampfers 2 quer zur Längsrichtung verlaufende Ein
schnitte vorgesehen, in die die Leitfläche 12 mit
ihren Stützträgern 17a, 17b einsteckbar ist. Auf
grund seiner nur geringen Oberflächenbedeckung des
Schmelzbades 8 wird die Ausbreitung der Verdamp
fungswolke aus dem Schmelzbad 8 in die Bedamp
fungsrichtung B nicht merklich behindert, so daß
auf dem Substrat 10 keine Bedampfungslücke entste
hen kann.
Ein weiterentwickeltes Ausgangsbeispiel ist in
Fig. 2a bzw. Fig. 2b dargestellt. Hierbei weist
die Leitflächeneinrichtung 14 mehrere Leitflächen
16, 18a, 18b auf. Der auf die Leitflächeneinrich
tung 14 treffende Draht 6 (siehe Fig. 2b) wird
durch die obere Leitfläche 16 in eine abwärts ge
richtete Vorschubbewegung gelenkt und durch die
abgewinkelten, flügelartig angeordneten Leitflä
chen 18a bzw. 18b horizontal auf die Symmetrieach
se S geführt. Durch die die Vertikal - bzw. die
Horizotalauslenkung des Drahtabschnittes 6 steu
ernden Leitflächen 16 bzw. 18a, 18b wird der Draht
6 in eine im Bezug zum Schiffchenverdampfer 2
raumfeste Eintauchposition auf der Schmelzbad
oberfläche gelenkt. Sowohl die Leitfläche 12
(siehe Fig. 1) wie auch die Leitflächeneinrich
tung 14 in Fig. 2a und Fig. 2b sind zum Beispiel
einstückig aus einer leitfähigen Keramikverbindung
hergestellt.
Nach einem weiteren in Fig. 3 dargestellten Aus
führungsbeispiel besteht die Drahtzuführungsein
richtung aus einer trichterförmigen Leitfläche 26,
die in einem quarderförmig ausgebildeten Schiff
chenaufsatz 20 ausgebildet ist. Ein, mit seiner
Spitze 7 auf die Leitfläche 26 auftreffender Draht
6 wird auf eine in der Trichtermitte vorhandene
Durchgangsöffnung 24 gelenkt. Mit dem auf dem
Schiffchenverdampfer 2 fest positionierten Schiff
chenaufsatz 20 wird der zugeführte Drahtabschnitt
6 somit in einen sowohl in Längs- wie auch in
Querrichtung zum Schiffchenverdampfer 2 eng um
grenzten Bereich des Schmelzbades 8 geführt. Die
aus dem Schmelzbad 8 aufsteigenden Metalldämpfe
treten durch die im Schiffchenaufsatz 20 zur
Trichterleitfläche 26 benachbart gelegene Ver
dampfungsöffnung 22 aus und werden auf einem ober
halb des Schiffchenaufsatzes 20 eine auf ein die
sem gegenüber positioniertem Substrat abgeschie
den.
Ein besonders einfach ausgebildetes Ausführungsbe
spiel ist in der Fig. 4 dargestellt. Diese Draht
führungseinrichtung besteht aus einem Leitflächen
trichter 26 mit einer Trichteröffnung 24, durch
die der Draht 6 in das Schmelzbad 8 des Schiff
chenverdampfers 2 geleitet wird. Der Leitflächen
trichter 26 ist in einem Träger 28 ausgebildet,
der auf dem Schiffchenverdampfer 2 zu dessen Quer
richtung aufgelegt ist. Da der Träger 28 das
Schmelzbad 8 lediglich mit dem Leitflächentrichter
26 bedeckt, können Metalldämpfe aus der Schmelze 8
beidseitig des Trägers 28 über einen Großteil der
Schmelzenbadoberfläche austreten, wodurch großflä
chige Substrate mit hohen Beschichtungsraten
gleichmäßig bedampfbar sind. Aufgrund der im un
mittelbaren Bereich des Schiffchenverdampfers 2
auftretenden hohen Heiztemperaturen, ist der Leit
flächenträger 28 einstückig aus einem Keramikmate
rial oder einer Keramikverbindung gefertigt.
Bezugszeichenliste
2 Schiffchenverdampfer
3 Tiegelrand
4a, 4b Einspannstück
6 Drahtabschnitt
7 Drahtspitze
8 Schmelzbad, Schmelze
10 Substrat
12 Leitfläche
14 Leitflächeneinrichtung
16 Leitfläche
17a, 17b Stützträger
18a, 18b Leitfläche
20 Schiffchenaufsatz
22 Verdampfungsöffnung
24 Durchgangsöffnung
26 Leitfläche, Trichterleitfläche
28 Leitflächenträger, Träger
V Vorschubrichtung.
3 Tiegelrand
4a, 4b Einspannstück
6 Drahtabschnitt
7 Drahtspitze
8 Schmelzbad, Schmelze
10 Substrat
12 Leitfläche
14 Leitflächeneinrichtung
16 Leitfläche
17a, 17b Stützträger
18a, 18b Leitfläche
20 Schiffchenaufsatz
22 Verdampfungsöffnung
24 Durchgangsöffnung
26 Leitfläche, Trichterleitfläche
28 Leitflächenträger, Träger
V Vorschubrichtung.
Claims (8)
1. Vorrichtung zur bedampfenden Beschichtung von
Substraten mit mindestens einem beheizbaren
Verdampferschiffchen und dem Verdampfer
schiffchen zuzuführenden und mittels diesem
zu verdampfenden Draht, gekennzeichnet durch
eine in unmittelbarer Nähe des Verdampfer
schiffchens (2) angeordnete Drahtzuführungs
einrichtung (12, 14, 20, 28), mittels welcher
in unterstützungsfreie, insbesondere infolge
thermischer Belastung auslenkbare dem Ver
dampferschiffchen (2) zugewandte Drahtab
schnitt (6) mit seiner Spitze (7) in eine
Vorzugsvorschubrichtung (V) lenkbar ist, wo
durch der Draht in die Schmelze (8) innerhalb
eines eng begrenzten Oberflächenbereichs des
Schmelzbades eintauchbar ist.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Drahtzuführungseinrichtung
(12) eine im wesentlichen senkrecht auf der
Tiegelwand (3) des Schiffchenverdampfers (2)
stehende Leitfläche (16) ist, mittels welcher
der unterstützungsfreie Drahtabschnitt (6) in
Richtung der Schmelzbadoberfläche (8) inner
halb eines in Längsrichtung des Schiffchen
verdampfers (2) eng begrenzten Bereichs ab
lenkbar ist.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 und/oder 2, da
durch gekennzeichnet, daß die Drahtzufüh
rungseinrichtung aus einer auf der Tiegelwand
(3) aufgesetzten Leitflächeneinrichtung (14)
besteht, die mindestens drei zueinander
abgewinkelte Leitflächen (16, 18a, 18b) auf
weist, mittels welcher der mit seiner Spitze
(7) auf die Leitflächen (16, 18a, 18b) auf
treffende Drahtabschnitt (6) in einen eng be
grenzten Bereich des Schmelzbades lenkbar
ist, wodurch eine unkontrollierte horizontale
und vertikale Auslenkung der Spitze (7) des
Drahtabschnittes (6) unterdrückbar ist.
4. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekenn
zeichnet, daß die Drahtzuführungseinrichtung
aus ein im wesentlichen kreisförmig und
trichterartig angeordneten, eine Durchgangs
öffnung (24) einschließende Leitfläche (26)
besteht, welche in einem vorzugsweise quader
förmig ausgebildeten Schiffchenverdampferauf
satz (20) in zentraler Position zum Schmelz
bad (8) und benachbart zu einer im Schiff
chenaufsatz (20) eingelassenen Verdampfungs
öffnung (22) ausgeformt ist, wodurch der
insbesondere unter einem flachen Winkel auf
die Leitfläche (26) auftreffende Drahtab
schnitt (6) in die Durchgangsöffnung (24) ge
lenkt wird und in die unterhalb des Schiff
chenverdampferaufsatzes (20) befindliche
Schmelze (8) innerhalb eines eng begrenzten
Oberflächenbereichs des Schmelzbades ein
tauchbar ist.
5. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprü
che 1 bis 4, dadurch gekennzeichnet, daß der
Schiffchenaufsatz (20) aus einer Keramikver
bindung hergestellt ist.
6. Vorrichtung nach Anspruch 1, 4 oder 5, da
durch gekennzeichnet, daß die einen Trichter
bildenden Leitflächen (26) in einen den zen
tralen Bereich des Schmelzbades (8) abdecken
den Leitflächenträger (28) ausgeformt sind.
7. Vorrichtung nach Anspruch 1 und/oder 6, da
durch gekennzeichnet, daß der Leitflächenträ
ger (28) aus einer Keramikverbindung herge
stellt ist.
8. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprü
che 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß der
Drahtabschnitt (6) aus einem Metall, vorzugs
weise aus Aluminium oder Kupfer oder Silber
oder aus einer aus den vorgenannten Elementen
bestehenden Legierung besteht.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944427618 DE4427618A1 (de) | 1994-08-04 | 1994-08-04 | Drahtzuführungseinrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19944427618 DE4427618A1 (de) | 1994-08-04 | 1994-08-04 | Drahtzuführungseinrichtung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4427618A1 true DE4427618A1 (de) | 1996-02-08 |
Family
ID=6524931
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19944427618 Withdrawn DE4427618A1 (de) | 1994-08-04 | 1994-08-04 | Drahtzuführungseinrichtung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4427618A1 (de) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1327699A1 (de) * | 2002-01-12 | 2003-07-16 | Applied Films GmbH & Co. KG | Verdampferschiffchen für eine Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten |
Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE9203169U1 (de) * | 1992-03-10 | 1992-04-23 | Balzers und Leybold Deutschland Holding AG, 63450 Hanau | Vorrichtung zur laufenden Beschichtung von bandförmigen Substraten |
-
1994
- 1994-08-04 DE DE19944427618 patent/DE4427618A1/de not_active Withdrawn
Patent Citations (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE9203169U1 (de) * | 1992-03-10 | 1992-04-23 | Balzers und Leybold Deutschland Holding AG, 63450 Hanau | Vorrichtung zur laufenden Beschichtung von bandförmigen Substraten |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP1327699A1 (de) * | 2002-01-12 | 2003-07-16 | Applied Films GmbH & Co. KG | Verdampferschiffchen für eine Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten |
DE10200909A1 (de) * | 2002-01-12 | 2003-07-24 | Applied Films Gmbh & Co Kg | Verdampferschiffchen für eine Vorrichtung zur Beschichtung von Substraten |
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Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
OM8 | Search report available as to paragraph 43 lit. 1 sentence 1 patent law | ||
8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: BALZERS UND LEYBOLD DEUTSCHLAND HOLDING AG, 63450 |
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8127 | New person/name/address of the applicant |
Owner name: UNAXIS DEUTSCHLAND HOLDING GMBH, 63450 HANAU, DE |
|
8141 | Disposal/no request for examination |