DE4426751A1 - Schwimmende Zentralbefestigung, insbesondere für großflächige Sputterkatoden - Google Patents
Schwimmende Zentralbefestigung, insbesondere für großflächige SputterkatodenInfo
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Description
Die Erfindung betrifft eine Befestigungsvorrichtung gemäß den im
Oberbegriff des Patentanspruchs 1 angegebenen Merkmalen.
Katodeneinrichtungen zum Einsatz in Beschichtungsanlagen sind
bekannt. Solche Katodeneinrichtungen bestehen im wesentlichen aus
dem während des Katodenzerstäubungsprozesses abgetragenen
Sputtertarget, welches mit einer Targetrückplatte fest verbunden ist.
Mittels von an der Targetrückplatte vorgesehenen
Befestigungsvorrichtungen ist die Targetrückplatte zusammen mit dem
Sputtertarget auf einer als Katodenkörper ausgebildeten mit einer
Kühlvorrichtung versehenen Befestigungsplatte arretiert. Übliche, mittels
der Katodenzerstäubungstechnik zu beschichtende Substratflächen
besitzen eine Flächengröße von bis zu 400 × 300 mm², was
Sputterkatodenflächen entsprechender Größe erfordert.
Ein Nachteil der bekannten Sputterkonstruktionen ist, daß diese bei
einem Targetwechsel, z. B. nach Verbrauch des Sputtertargets spezielle
Werkzeuge, wie z. B. Hebewerkzeuge, erfordern bzw. ein
Sputtertargetwechsel nicht von einer einzigen Person allein durchführbar
ist. Weiterhin sind die gewünschten graßflächigen Sputtertargets mit dem
Nachteil behaftet, daß während des Zerstäubungsprozesses das
Sputtertarget sowie die Targetrückplatte durch Energieeintrag des
Plasmas durch Strahlung und durch die, von dem auf das Target
beschleunigten Ionen abgegebene kinetische Energie erwärmt wird und
das Sputtertarget in Abhängigkeit von dem Wärmeübergang von der
Targetrückplatte zum Katodenkörper sowie in Abhängigkeit von der
Auslegung der im Katodenkörper vorgesehenen Kühleinrichtung sich
ausdehnt. Durch diese Erwärmung, dehnen sich sowohl das Sputtertarget
selbst als auch die Targetrückplatte (Katodenkörper) aus. Da
üblicherweise das Sputtertarget mit dem Katodenkörper verbondet ist, ist
es zur Vermeidung einer unterschiedlichen Längenänderung - bzw.
Flächenänderung, analog einem Bimetallstreifen, notwendig, daß das
Sputtertarget sowie die Targetrückplatte aus einem Material mit gleichem
oder ähnlichem thermischen Ausdehnungskoeffizienten bestehen. Dies
schränkt die Wahl der Materialien stark ein.
Der im Patentanspruch 1 angegebenen Erfindung liegt damit das Problem
zugrunde, einen Sputtertargetwechsel zu vereinfachen und gleichzeitig
die Beschränkung in der Auswahl der für das Sputtertarget und die
Targetrückplatte zu verwendenden Materialien aufzuheben.
Dieses Problem wird durch die im Patentanspruch 1 angegebenen
Merkmale gelöst.
Die Lösung des gestellten Problems erfolgt bei der eingangs
beschriebenen Zerstäubungskatode erfindungsgemäß dadurch, daß das
Sputtertarget aus einzelnen Segmentkörpern zusammengesetzt ist, wobei
die einzelnen Segmentkörper aus einer ersten, eine Sputterkatode
(Sputtertarget) bildenden Schichtlage und einer mit der Sputterkatode
verbondeten zweiten Schichtlage (Targetrückplatte) besteht. Im nicht
erwärmten Zustand sind die einzelnen Segmentkörper zu einer eine
Gesamtkatode bildenden Plattenanordnung zusammengesetzt. Im nicht
erwärmten Zustand befinden sich die einzelnen Segmentkörper in einem
definierten kontaktfreien Abstand zueinander, wohingegen während des
Zerstäubungsprozesses die einzelnen Segmentkörper eine
Flächenausdehnung erfahren und sich in ihren Seitenbereichen berühren.
Da die Schichtlage der Targetrückplatte erfindungsgemäß einen größeren
Umfang aufweist als der Umfang des Sputtertargets, stoßen die
erwärmten Segmentkörper lediglich mit den Seitenflächen der
Targetrückplatten aneinander. Eine Beschädigung des Sputtertargets an
den durch die thermische Ausdehnung bedingten Stoßstellen wird
vorteilhaft vermieden. Da der gesamte Plattenanordnung zudem aus
einzelnen segmentierten Plattenkörpern besteht, sind besondere für den
Targetwechsel notwendige Werkzeuge nicht erforderlich. Vorteilhaft kann
somit ein Targetwechsel auch von einer einzigen Person allein
durchgeführt werden.
Zum Befestigen der Segmentkörper weist der Katodenkörper
Durchgangslöcher unterschiedlichen Öffnungsquerschnitts auf. Die im
Schnittpunktbereich der Katodenkörperflächensymmetrielinien
angeordneten Befestigungslöcher besitzen einen kreisförmigen und in
ihrem Durchmesser einen dem Außendurchmesser der einzusetzenden
Aufnahmebolzen angepaßten Durchmesser, wodurch die mittels dieser
Öffnung befestigten Segmentkörper sich im wesentlichen nur in radialer
Richtung in Bezug auf diese Fixierungslöcher ausdehnen können. Die
entlang der zueinander senkrecht verlaufenden Symmetrielinien
angeordneten Befestigungslöcher besitzen einen Langlochquerschnitt,
wobei die Ausrichtung der Langlochlängsachsen in Bezug auf den
Schnittpunkt der Symmetrielinien in radialer Richtung liegt. Durch eine
derartige Ausrichtung werden thermisch bedingte Längsausdehnungen
der Segmentkörper über die einzelnen Langlochquerschnitte vollständig
aufgefangen. Die in den übrigen radialen Richtungen
(Diagonalrichtungen) auftretenden Längenänderungen werden durch die
übrigen in den Katodenkörper eingebrachten Durchgangslöcher
aufgenommen, wobei diese Durchgangslöcher einen Kreisquerschnitt mit
einem der Längsausdehnung der Langlöcher entsprechenden
Kreisdurchmesser besitzen.
Die Befestigung der einzelnen Segmentkörper erfolgt mittels mit diesen
fest verbundenen, vorzugsweise verschweißten Aufnahmebolzen mit
Innengewinde. Diese Aufnahmebolzen greifen in die Durchgangslöcher
des Katodenkörpers ein und werden mittels einer auf der Rückseite des
Katodenkörpers in die positionierten Aufnahmebolzen einschraubbaren
Schraube arretiert. Als Vakuumabschluß ist in einer in der Auflageseite
des Schraubenkopfes umlaufend eingebrachten Nut ein Dichtring
eingesetzt. Dieser Dichtring bewirkt jeweils einen vakuumdichten
Abschluß zwischen der, der Sputterkatode zugewandten Fläche des
Katodenkörpers und der Rückseite des Katodenkörpers. Da die
Aufnahmebolzen einen geringeren Außendurchmesser als die
entsprechenden Durchgangslöcher aufweisen, ist das Sputtertarget
zusammen mit der Targetrückplatte auf dem Katodenkörper
"schwimmend", d. h. parallel zur Sputtertargetfläche, verschiebbar
gelagert. Vorteilhaft werden somit die infolge thermischer Ausdehnung
sich gegeneinander verschiebenden Segmentkörper im wesentlichen frei
von thermischer Spannung gehalten.
Gemäß dem kennzeichnenden Merkmal des Unteranspruchs 5 besteht
die Sputterkatode aus einer Indium-Zinn-Legierung und die
Targetrückplatte aus Molybdän und/oder Titan. Der Überlapp zwischen
der Targetrückplatte und dem Sputtertarget beträgt dabei vorteilhaft 0,05
mm-0,2 mm, vorzugsweise 0,1 mm. Größere Überlappbereiche sind
weniger vorteilhaft, da es sonst durch das Zerstäuben der
Targetrückplatte zu Verunreinigungen bei der sputterkatodeninduzierten
Beschichtung kommen kann.
Ein besonders varteilhaftes Ausführungsbeispiel der Erfindung ist in der
Zeichnung dargestellt und wird im folgenden näher beschrieben.
Es zeigen:
Fig. 1 eine Aufsicht auf eine erfindungsgemäße Befestigungsplatte
mit angedeuteten Segmentpositionen A-F,
Fig. 2 einen Schnitt durch zwei benachbart liegende
Segmentkörper,
Fig. 3 einen vergrößerten Ausschnitt des Zentralbereichs der in
Fig. 1 dargestellten Aufsicht auf eine Befestigungsplatte,
Fig. 4 einen Schnitt durch den Katodenkörper entlang der Linie J-K
in Fig. 3 und
Fig. 5 einen Schnitt durch ein mit einer Rückplatte auf der
Befestigungsplatte aufgeschraubtem Sputtertarget im
Bereich einer Schraubverbindung.
In Fig. 1 ist eine erfindungsgemäße als Katodenkörper 8 ausgebildete
Befestigungsplatte 8 dargestellt. In dem äußeren umlaufenden
Randbereich des im wesentlich quadratischen Katodenkörpers 8 sind
Durchgangslöcher 19, 19′, 19′′, . . . eingelassen, die zur Befestigung des
Katodenkörpers 8 dienen. Mittels der übrigen in Fig. 1 dargestellten
Durchgangslöcher z. B. 15′, 15′′, 15′′′, 24a, 24b, 28a, 28b, 38, 38′, 38′′, 38′′′
sind einzelne eine Gesamtkatodenfläche bildende Segmentkörper A-F auf
dem Katodenkörper 8 befestigt. Dabei sind die einzelnen Segmentkörper
A-F derartig aneinander gelegt, daß sie eine im wesentlichen
quadratische Gesamtkatodenfläche bilden. Zur Befestigung der einzelnen
Segmentkörper, insbesondere der mittig gelegenen Segmentkörper B und
E weisen die Befestigungslöcher 24a, 24b, 28a, 28b, 38, 38′′′
unterschiedliche Öffnungsquerschnitte auf. Die im engeren Zentralbereich
der Gesamtkatodensputtertargetfläche gelegenen Durchgangslöcher 28a
und 28b haben einen kreisförmigen Öffnungsquerschnitt (siehe Fig. 3),
in die ein Aufnahmebolzen 20 (siehe Fig. 5) paßgenau einsetzbar ist.
Diese Befestigungslöcher 28a und 28b dienen als Fixierungslöcher, da
sich bei einer Erwärmung der Segmentkörper A-F die relative Lage der
Segmentkörper B und E zum Katodenkörper 8 im Bereich um die
Befestigungslöcher 28a und 28b nur unwesentlich ändert. Mit
wachsendem radialem Abstand von dem Schnittpunkt der Symmetrielinien
h und v nimmt die Flächenausdehnung der Segmentkörper A-F
kontinuierlich zu. Um diesen Längenzuwachs und die dadurch zum
Katodenkörper 8 bedingte relative Lageänderung der Segmentkörper A-F
abzufangen, sind die im wesentlichen parallel zu den Symmetrielinien h
und f angeordneten Durchgangslöcher 24a bzw. 24b jeweils als Langloch
ausgebildet. Dabei sind diese Langlöcher 24a und 24b mit ihren
Längsachsen parallel zur Ausdehnungsrichtung der Segmentkörper A-F
angeordnet. Die entlang den Diagonalrichtungen zu den Symmetrielinien
h und v angeordneten Befestigungslöcher 38, 38′, 38′′, 38′′′, . . . besitzen
einen kreisförmigen Öffnungsquerschnitt d (siehe Fig. 3), wobei der
Öffnungsdurchmesser im wesentlichen der Längsachsenausdehnung der
Langlöcher 24a und 24b entspricht.
Die auf dem Katodenkörper 8 zu befestigenden Segmentkörper A-F
bestehen im wesentlichen aus zwei Schichtlagen, nämlich wie in Fig. 2
dargestellt, einer Targetrückplatte 10a, 10b und einer auf der
Targetrückplatte 10a, 10b aufgebondeten Sputterkatode 12a bzw. 12b,
wobei die Sputterkatode z. B. aus einer Indium-Zinn-Legierung und die
Targetrückplatte aus Titan oder Molybdän hergestellt ist. Die, die
Sputterkatode 12a bzw. 12b tragende Targetrückplatte 10a bzw. 10b
überlappt die Sputterkatode 12a bzw. 12 seitlich um einen Bereich der
Breite a, wodurch bei thermisch bedingter Längenausdehnung der
Segmentkörper A-F ausschließlich die Seitenflächen 34, 17a, 17b
miteinander in Druckkontakt treten können.
Zur Befestigung der Segmentkörper A-F sind auf der Targetrückplatte 10,
10a, 10b (siehe Fig. 5) Aufnahmebolzen 20 mit einer
Schweißverbindung 31 fest aufgebracht. Die Rückplatte 10 ist derartig auf
dem Katodenkörper 8 positioniert, daß die Aufnahmebolzen 20 in die
entsprechenden Befestigungslöcher (siehe Fig. 4) hineinragen, und sind
mittels in die Aufnahmebolzen 20 eindrehbarer Schrauben 22 mit dem
Katodenkörper 8 lösbar verbunden. Zur Abdichtung des auf Seiten der
Sputterkatodenfläche herrschenden Vakuumdrucks gegenüber dem auf
der Katodenkörper-Rückseite herrschenden Atmosphärendruck ist in den
Schraubenkopf 23 eine umlaufende Nut 30 eingelassen, in welche ein
Dichtring 18 gelagert ist und der bei angezogener Schraube 22 auf dem
Katodenkörper 8 vakuumdichtend aufliegt. Der effektive
Öffnungsdurchmesser des Befestigungsloches 32 ist im Bereich des
Schraubenkopfes 23 wie auch im Bereich des Aufnahmebolzens 20 so
derartig ausgebildet, daß die Targetrückplatte 10 mit dem auf ihr
befestigten Sputtertarget 12 um einen Abstand c jeweils in einer Richtung
oder innerhalb eines Flächenbereichs, wie z. B. bei den
Durchgangslöchern 38, 38′, 38′′, . . . vorgesehen, verschiebbar ist.
Bezugszeichenliste
6 Plattenanordnung
7a, 7b Umfangslinie
8 Katodenkörper, Kühlplatten, Targetkühlkörper
9, 9a, 9b Befestigungsplatte
10, 10a, 10b Targetrückplatte
11 Targetkörper
12, 12a, 12b Target, Sputterkatode, Sputterschicht, Sputtertarget
13 Targetsegment
14 Targetrand
15, 15′, 15′′, . . . Befestigungsloch, Durchgangsloch
16 Dunkelraum
17a, 17b Seitenfläche
18 Dichtring
19, 19′, 19′′, . . . Befestigungsloch
20 Aufnahmebolzen
22 Schraube
23 Schraubenkopf
24a, 24b Langloch
25, 25a, 25b Fläche
26 Zentrierung
28a, 28b Durchgangsloch, Fixierungsloch
30 Nut
31 Schweißverbindung
32 Befestigungsloch
33a, 33b Randbereich
34 Seitenfläche
36 Targetfläche
38, 38′, 38′′ Durchgangsloch
A-F Segmentkörper
v, h Symmetrielinie
a Targetkatodenabstand
b Öffnungsdurchmesser
c Abstand
d Öffnungsquerschnitt
7a, 7b Umfangslinie
8 Katodenkörper, Kühlplatten, Targetkühlkörper
9, 9a, 9b Befestigungsplatte
10, 10a, 10b Targetrückplatte
11 Targetkörper
12, 12a, 12b Target, Sputterkatode, Sputterschicht, Sputtertarget
13 Targetsegment
14 Targetrand
15, 15′, 15′′, . . . Befestigungsloch, Durchgangsloch
16 Dunkelraum
17a, 17b Seitenfläche
18 Dichtring
19, 19′, 19′′, . . . Befestigungsloch
20 Aufnahmebolzen
22 Schraube
23 Schraubenkopf
24a, 24b Langloch
25, 25a, 25b Fläche
26 Zentrierung
28a, 28b Durchgangsloch, Fixierungsloch
30 Nut
31 Schweißverbindung
32 Befestigungsloch
33a, 33b Randbereich
34 Seitenfläche
36 Targetfläche
38, 38′, 38′′ Durchgangsloch
A-F Segmentkörper
v, h Symmetrielinie
a Targetkatodenabstand
b Öffnungsdurchmesser
c Abstand
d Öffnungsquerschnitt
Claims (7)
1. Vorrichtung zum Befestigen einer erwärmbaren, mindestens zwei
miteinander fest verbundene Schichtlagen aufweisende und
vorzugsweise zum Einsatz als großflächiges
Katodenzerstäubungstarget dienende Plattenanordnung,
gekennzeichnet dadurch, daß die Plattenanordnung (6) aus
mindestens zwei Segmentkörpern (13, A-F) besteht, wobei die, die
Schichtlagenkontaktflächen begrenzende Umfangslinie (7a, 7b)
einer ersten Schicht (12a, 12b) vollständig innerhalb der
Umfangslinie (9a, 9b) der Schichtlagenkontaktfläche der zweiten
Schichtlage (10a, 10b) verläuft und wobei die einzelnen
Segmentkörper (A-F) mit ihren Seitenflächen (17a, 17b) der ersten
Schichtlage (10a, 10b) derartig zueinander angeordnet sind, daß
im nicht erwärmten Zustand die Seitenflächen (17a, 17b)
berührungsfrei sind und daß im erwärmten Zustand ausschließlich
die Seitenflächen (17a, 17b) der jeweils ersten Schichtlage (12a,
12b) in, vorzugsweise flächigem Kontakt, miteinander stehen.
2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß die
einzelnen Segmentkörper (A-F) auf einer vorzugsweise als
Targetkühlkörper (8) ausgebildeten Befestigungsplatte (8) lösbar
aufmontiert sind, wobei die Befestigungsplatte (8)
Durchgangslöcher (15, 28a, 38) mit Kreisquerschnitten
unterschiedlicher Größe (28a, 15′) bzw. Langlochquerschnitte (24a,
24b) mit unterschiedlicher Ausrichtung aufweist, wobei die
Öffnungsquerschnitte der, der Flächenmitte des Plattenanordnungs
(6) benachbart angeordneten Durchgangslöcher (28a, 28b)
paßgenau, entsprechend der in diesen einzusetzenden
Aufnahmebolzen (20) ausgebildet sind und wobei die als Langloch
ausgebildeten Durchgangslöcher (24a, 24b) parallel zu bzw. auf
den die als Fixierungsbefestigung dienenden Durchgangslöchern
(28a, 28b) verbindenden und im wesentlichen senkrecht
zueinander verlaufenden Symmetrielinien (v, h) und mit ihren
Längsachsen in radialer Richtung weisend angeordnet sind, und
wobei die übrigen Durchgangslöcher (38, 38′, 38′′, . . . ) einen
effektiven Öffnungsdurchmesser (d) aufweisen, der im
wesentlichen dem maximalen Querschnittsdurchmesser der
Langlöcher (24a, 24b) entspricht, wodurch die thermische
Ausdehnung der im erwärmten Zustand im flächigen Seitenkontakt
befindlichen Segmentkörper (A-F) in Bezug auf die Position der
Fixierungslöcher (28a, 28b) in radialer Richtung erfolgt.
3. Vorrichtung nach Anspruch 1 und/oder 2, dadurch
gekennzeichnet, daß die Segmentkörper (A-F) aus jeweils zwei
Schichtlagen (10, 12; 10a, 12a; 10b, 12b) bestehen, wobei die der
Befestigungsplatte (8) zugewandten Schichtlagen (10, 10a, 10b)
jeweils eine Targetrückplatte (10a, 10b) bilden und daß die zweite
Schichtlage (12, 12a, 12b) eine Sputterkatode (12, 12a, 12b) ist,
wobei die Sputterkatode (12, 12a, 12b) mit der Targetrückplatte
(10, 10a, 10b) fest verbunden, vorzugsweise aufgebondet, ist.
4. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 3,
dadurch gekennzeichnet, daß die Targetrückplatte (10a, 10b) die
Sputterkatode (12a, 12b) in ihrem umlaufenden Randbereich (33a,
33b) um 0,05 mm-0,2 mm, vorzugsweise um 0,1 mm, überlappt.
5. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 4,
dadurch gekennzeichnet, daß die Sputterkatode (12, 12a, 12b)
aus einer Indium-Zinn-Legierung und die Targetrückplatte (10, 10a,
10b) aus Molybdän bzw. Titan besteht.
6. Vorrichtung nach mindestens einem der Ansprüche 1 bis 5,
dadurch gekennzeichnet, daß auf der, der Sputterkatode (12,
12a, 12b) abgewandten Fläche (25, 25a, 25b) der Targetrückplatte
(10, 10a, 10b) Aufnahmebolzen (20) mit einem Innengewinde
angeordnet sind, welche mit der Targetrückplatte (10, 10a, 10b)
fest verbunden, vorzugsweise verschweißt sind.
7. Vorrichtung nach mindestens einem der vorhergehenden
Ansprüche, dadurch gekennzeichnet, daß die Targetrückplatte
(10) derartig auf der als Katodenkörper (8) ausgebildeten
Befestigungsplatte (8) positioniert ist, daß die Aufnahmebolzen
(20) mit den Durchführungslöchern (15, 24a, 24b, 28a, 28b, 38, 38′,
38′′ derartig in Eingriff stehen, daß die Targetrückplatte (10,
10a, 10b) flächig auf dem Katodenkörper (8) aufliegt und daß die
Rückplatte (10, 10a, 10b) mittels einer in den Aufnahmebolzen (20)
eingedrehten Schraube (22), welche mit einem in ihrem
Schraubenkopf (23) in einer umlaufenden Nut (30) gelagerten
Dichtring (18) auf dem Katodenkörper (8) anliegt, parallel zur
Katodenflächenausdehnung verschiebbar gehaltert ist, wobei die
maximale Verschiebung dem zwischen dem maximalen
Außendurchmesser des Aufnahmebolzens und dem minimalen
Innendurchmesser des Durchgangslochs (15, 28a, 28b, 24a, 24b,
38, 38′, 38′′, . . . ) definierten Abstand (c) entspricht.
Priority Applications (5)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4426751A DE4426751A1 (de) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | Schwimmende Zentralbefestigung, insbesondere für großflächige Sputterkatoden |
NL9500630A NL9500630A (nl) | 1994-07-28 | 1995-03-31 | Zwevende centrale bevestiging, in het bijzonder voor zich over een groot oppervlak uitstrekkende sputterkathoden. |
KR1019950009249A KR960005742A (ko) | 1994-07-28 | 1995-04-19 | 특히 큰 면적의 스퍼터 음극을 위한 유동식(flating) 중앙 고정 장치 |
US08/448,129 US5536380A (en) | 1994-07-28 | 1995-05-23 | Large area sputter cathode having floating target segments |
JP7190883A JPH0853758A (ja) | 1994-07-28 | 1995-07-26 | プレート装置を固定するための装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4426751A DE4426751A1 (de) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | Schwimmende Zentralbefestigung, insbesondere für großflächige Sputterkatoden |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4426751A1 true DE4426751A1 (de) | 1996-02-01 |
Family
ID=6524365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE4426751A Withdrawn DE4426751A1 (de) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | Schwimmende Zentralbefestigung, insbesondere für großflächige Sputterkatoden |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5536380A (de) |
JP (1) | JPH0853758A (de) |
KR (1) | KR960005742A (de) |
DE (1) | DE4426751A1 (de) |
NL (1) | NL9500630A (de) |
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