KR960005742A - 특히 큰 면적의 스퍼터 음극을 위한 유동식(flating) 중앙 고정 장치 - Google Patents
특히 큰 면적의 스퍼터 음극을 위한 유동식(flating) 중앙 고정 장치 Download PDFInfo
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Abstract
개개의 세그먼트 몸체(A-F)로 이루어지는 스퍼터 음극(12,12a,12b)에서 이것은 음극 몸체(8)상에 고정 호울(15,24a,24b,28a,28b,32)에서 상이한 개구 횡단면을 통해 그리고 고정 호울(15,24a,24b,28a,28b,32)에 삽입 가능한 로케이팅 볼트(20)를 통해 고정된다. 스퍼터 음극(12,12a,12b)의 열 팽창에 의해 발생된 길이 변경에 상응하여 상이한 방사 방향으로 환형인(28a,28b,15,15′....)고정 호울이 제공된다. 개개의 세그먼트 몸체(A-F)는 두개의 디스크, 즉 타겟 백 플레이트(10,10a,12b)으로 이루어지며, 이 타겟은 타겟 백 플레이트(10,10a,10b)에 본딩된다. 타겟 백 플레이트(10,10a,10b)의 효과적인 둘레 횡단면은 스퍼터 타겟 (12,12a,12b)의 둘레 횡단면에 비해 덮는 부분을 가지며, 이 부분은 타겟 백 플레이트(10,10a,10b)에 대해 몰리브덴이 그리고 스퍼터 타겟 (12,12a,12b)에 대해 인듐-아연-합금이 이용된 경우 0.05㎜내지 0.2㎜이다.
Description
본 내용은 요부공개 건이므로 전문내용을 수록하지 않았음
제2도는 본 발명 평판표시 장치를 보이는 등가 평면도이다.
제3도는 그 바람직한 제어구성의 일례를 보이는 블록도이다.
Claims (7)
- 적어도 두개의 서로 고정 연결된 디스크를 가지는 그리고 바람직하게는 큰 면적의 음극 스프레이 타겟으로서 이용되는 가열된 플레이트 장치를 고정하는 장치에 있어서, 이 플레이트 장치(6)는 적어도 두개의 세그먼트 몸체(13, A-F)로 이루어지며, 디스크 접촉면을 제한하는, 첫번째 디스크(12a, 12b)의 둘레선(7a 7b)이 두번째 디스크(10a, 10b)의 디스크 접촉면의 둘레선(9a, 9b) 안에 완전히 뻗어있고, 개개의 세그먼트 몸체(A-F)는 첫번째 디스크(10a, 10b)의 측면 (17a, 17b)과 함께 대향하여 배열되며, 가열되지 않은 상태에서 측면 (17a, 17b)은 접촉이 없고 가열된 상태에서 첫번째 디스크(12a, 12b)의 측면(17a, 17b)만이 바람직하게는 서로 면접촉하는 것을 특징으로 하는 고정 장치.
- 제1항에 있어서, 개개의 세그먼트 몸체(A-F)는 바람직하게는 타겟 냉각 몸체(8)로서 형성된 고정 플레이트(8)에서 풀을 수 있게 조립되며, 이 고정 플레이트(8)는 상이한 크기(28a,15′)의 환형 횡단면을 갖는 관통 호울(15,28a,38)을 가지며 그리고 상이한 정렬을 가진 긴 호울 횡단면(24a,24b)을 가지며, 플레이트 장치(6)의 평면 중앙에 이웃하여 배열된 관통 호울(28a,28b)의 개구 횡단면이 여기에 삽입될 로케이팅 볼트(20)에 상응하게 형성되며, 또한 긴 호울로서 형성된 관통 호울(24a,24b)이 고정시키는데 이용되는 관통 호울(28a,28b)을 연결하는 그리고 수직으로 이어진 대칭면(v,h)에 평행하게 및 그위에 그리고 이의 장축과 함께 방사방향으로 배열되며, 나머지 관통 호울(38,38′,38″,...)은 유효한 개구 직경(d)을 가지며, 이 직경은 긴 호울(24a,24b)의 최대 횡단 직경이 상응하며, 가열된 상태에서 평면의 측면 접촉하는 세그먼트 몸체(A-F)의 열팽창은 고정 호울(28a,28b)의 위치와 관련하여 방상 방향으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고정 장치.
- 제1항 및/또는 제2항에 있어서, 이 세그먼트 몸체(A-F)는 각 두개의 디스크(10,12; 10a,12a; 10b,12b)로 이루어지며, 고정 플레이트(8)를 향한 디스크(10,10a,10b)는 각각 타겟 백 플레이트(10a,10b)를 형성하며, 두번째 디스크(12,12a,12b)는 스퍼터 음극(12,12a,12b)이며, 이 스피터 음극(12,12a,12b)은 타겟 백 플레이트(10,10a,10b)와 고정 연결되며, 바라직하게 본딩되는 것을 특징으로 하는 고정 장치.
- 제1항 내지 제3항 중의 어느 한 항에 있어서, 이 타겟 백 플레이트(10a,10b)는 스퍼터 음극(12a,12b)을 이의 환형 가장자리 영역(33a,33b)에서 0.05㎜~0.2㎜, 바람직하게는 0.1㎜정도 덮는 것을 특징으로 하는 조정 장치.
- 제1항 내지 제4항 중의 어느 한 항에 있어서, 이 스퍼터 음극(12,12a,12b)은 인듐-아연-합금으로 이루어지며 그리고 타겟 백 플레이트(10,10a,10b)는 몰리브덴 및 티타늄으로 이루어지는 것을 특징으로 하는 고정 장치.
- 제1항 내지 제5항 중 적어도 어느 한 항에 있어서, 스퍼터 음극(12,12a,12b)의 맞은편에 있는, 타겟 백 플레이트(10,10a,10b)의 평면(25,25a,25b)에 포케이팅 볼트(20)가 암나사와 함께 배열되며, 이 암나사는 타겟 백 플레이트(10,10a,10b)와 고정 연결된, 바람직하게는 용접되는 것을 특징으로 하는 고정 장치.
- 전술한 항들 중 적어도 어느 한 항에 있어서, 타겟 백 플레이트(10)는 음극 몸체(8)로서 형성된 고정 플레이트(8)에 위치하며, 로케이팅 볼트(20)는 관통 호울(15,24a,24b,28a,28b,38,38′,38″,....)와 결합하며, 타겟 백 플레이트(10,10a,10b)는 음극 몸체(8)에서 평면으로 접하며, 백 플레이트(10,10a,10b)는 로케이팅볼트(20)에 회전 삽입된 나사(22)를 통해 음극 평면 팽창에 대해 평행하게 이동되게 지지되며, 이 나사는 환형너트(30)안에 나사 헤드(23)에 있는 밀봉 링(18)으로 음극 몸체(8)와 인접하며, 최대의 이동은 로케이팅 볼트의 최대 외경과 관통 호울(15,28a,28b,24a,24b,38,38′,38″,....)의 최소 내경 사이의 일정한 간격(C)에 상응하는 것을 특징으로 하는 고정 장치.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DEP4426751.7 | 1994-07-28 | ||
DE4426751A DE4426751A1 (de) | 1994-07-28 | 1994-07-28 | Schwimmende Zentralbefestigung, insbesondere für großflächige Sputterkatoden |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
KR960005742A true KR960005742A (ko) | 1996-02-23 |
Family
ID=6524365
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
KR1019950009249A KR960005742A (ko) | 1994-07-28 | 1995-04-19 | 특히 큰 면적의 스퍼터 음극을 위한 유동식(flating) 중앙 고정 장치 |
Country Status (5)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5536380A (ko) |
JP (1) | JPH0853758A (ko) |
KR (1) | KR960005742A (ko) |
DE (1) | DE4426751A1 (ko) |
NL (1) | NL9500630A (ko) |
Families Citing this family (12)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5873989A (en) * | 1997-02-06 | 1999-02-23 | Intevac, Inc. | Methods and apparatus for linear scan magnetron sputtering |
DE19738815A1 (de) * | 1997-09-05 | 1999-03-11 | Leybold Ag | Verfahren zur Montage von Targetsegmenten und Justierbolzen zur Durchführung des Verfahrens |
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US6264804B1 (en) | 2000-04-12 | 2001-07-24 | Ske Technology Corp. | System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system |
US7550066B2 (en) * | 2004-07-09 | 2009-06-23 | Applied Materials, Inc. | Staggered target tiles |
US20060006064A1 (en) * | 2004-07-09 | 2006-01-12 | Avi Tepman | Target tiles in a staggered array |
US20060289305A1 (en) * | 2005-06-27 | 2006-12-28 | Applied Materials, Inc. | Centering mechanism for aligning sputtering target tiles |
CA2577757A1 (en) * | 2006-03-16 | 2007-09-16 | Sulzer Metco Ag | Target holding apparatus |
EP1849887A1 (de) * | 2006-04-26 | 2007-10-31 | Sulzer Metco AG | Target für eine Sputterquelle |
US20090255808A1 (en) * | 2008-04-11 | 2009-10-15 | Seagate Technology Llc | Target for efficient use of precious deposition material |
DE102013216303A1 (de) | 2013-08-16 | 2015-02-19 | Heraeus Materials Technology Gmbh & Co. Kg | Sputtertarget, Vorrichtung zum Befestigen eines Sputtertargets, Verfahren zum Erkennen des Lösens eines Sputtermaterials sowie Herstellungsverfahren |
JP6339871B2 (ja) * | 2014-06-19 | 2018-06-06 | 東京エレクトロン株式会社 | 板状部材の固定機構、pvd処理装置及び板状部材の固定方法 |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4515675A (en) * | 1983-07-06 | 1985-05-07 | Leybold-Heraeus Gmbh | Magnetron cathode for cathodic evaportion apparatus |
CH665057A5 (de) * | 1984-07-20 | 1988-04-15 | Balzers Hochvakuum | Targetplatte fuer kathodenzerstaeubung. |
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JPH01290765A (ja) * | 1988-05-16 | 1989-11-22 | Toshiba Corp | スパッタリングターゲット |
ATE126931T1 (de) * | 1989-06-05 | 1995-09-15 | Balzers Hochvakuum | Verfahren zum kühlen von targets sowie kühleinrichtung für targets. |
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DE4301516C2 (de) * | 1993-01-21 | 2003-02-13 | Applied Films Gmbh & Co Kg | Targetkühlung mit Wanne |
-
1994
- 1994-07-28 DE DE4426751A patent/DE4426751A1/de not_active Withdrawn
-
1995
- 1995-03-31 NL NL9500630A patent/NL9500630A/nl not_active Application Discontinuation
- 1995-04-19 KR KR1019950009249A patent/KR960005742A/ko not_active Application Discontinuation
- 1995-05-23 US US08/448,129 patent/US5536380A/en not_active Expired - Fee Related
- 1995-07-26 JP JP7190883A patent/JPH0853758A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4426751A1 (de) | 1996-02-01 |
JPH0853758A (ja) | 1996-02-27 |
US5536380A (en) | 1996-07-16 |
NL9500630A (nl) | 1996-03-01 |
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Legal Events
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---|---|---|---|
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E902 | Notification of reason for refusal | ||
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