DE4302167C1 - Target aus Zirkoniumdioxid und Verfahren zu seiner Herstellung - Google Patents

Target aus Zirkoniumdioxid und Verfahren zu seiner Herstellung

Info

Publication number
DE4302167C1
DE4302167C1 DE4302167A DE4302167A DE4302167C1 DE 4302167 C1 DE4302167 C1 DE 4302167C1 DE 4302167 A DE4302167 A DE 4302167A DE 4302167 A DE4302167 A DE 4302167A DE 4302167 C1 DE4302167 C1 DE 4302167C1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
zro2
density
over
powder
micron
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
DE4302167A
Other languages
English (en)
Inventor
Gernot Dipl Ing Jaeckel
Thomas Dipl Ing Dr Rudolph
Doris Dipl Ing Dr Peuckert
Sigurd Dipl Ing Dr Joennson
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Evonik Operations GmbH
Original Assignee
Degussa GmbH
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Degussa GmbH filed Critical Degussa GmbH
Priority to DE4302167A priority Critical patent/DE4302167C1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4302167C1 publication Critical patent/DE4302167C1/de
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C04CEMENTS; CONCRETE; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES
    • C04BLIME, MAGNESIA; SLAG; CEMENTS; COMPOSITIONS THEREOF, e.g. MORTARS, CONCRETE OR LIKE BUILDING MATERIALS; ARTIFICIAL STONE; CERAMICS; REFRACTORIES; TREATMENT OF NATURAL STONE
    • C04B35/00Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products
    • C04B35/01Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics
    • C04B35/48Shaped ceramic products characterised by their composition; Ceramics compositions; Processing powders of inorganic compounds preparatory to the manufacturing of ceramic products based on oxide ceramics based on zirconium or hafnium oxides, zirconates, zircon or hafnates
    • C04B35/486Fine ceramics
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/06Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the coating material
    • C23C14/08Oxides
    • C23C14/083Oxides of refractory metals or yttrium
    • CCHEMISTRY; METALLURGY
    • C23COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; CHEMICAL SURFACE TREATMENT; DIFFUSION TREATMENT OF METALLIC MATERIAL; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL; INHIBITING CORROSION OF METALLIC MATERIAL OR INCRUSTATION IN GENERAL
    • C23CCOATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
    • C23C14/34Sputtering
    • C23C14/3407Cathode assembly for sputtering apparatus, e.g. Target
    • C23C14/3414Metallurgical or chemical aspects of target preparation, e.g. casting, powder metallurgy
    • FMECHANICAL ENGINEERING; LIGHTING; HEATING; WEAPONS; BLASTING
    • F01MACHINES OR ENGINES IN GENERAL; ENGINE PLANTS IN GENERAL; STEAM ENGINES
    • F01DNON-POSITIVE DISPLACEMENT MACHINES OR ENGINES, e.g. STEAM TURBINES
    • F01D5/00Blades; Blade-carrying members; Heating, heat-insulating, cooling or antivibration means on the blades or the members
    • F01D5/12Blades
    • F01D5/28Selecting particular materials; Particular measures relating thereto; Measures against erosion or corrosion
    • F01D5/288Protective coatings for blades

Description

Die Erfindung betrifft ein Target aus teilstabilisiertem Zirkoniumdioxid zum Aufdampfen von Wärmedämmschichten auf metallische Hochtemperaturwerkstoffe.
Für Turbinenschaufeln im Triebwerkbau werden Wärmedämmschichten benötigt um die dort verwendeten metallischen Hochtemperaturwerkstoffe vor den heißen Verbrennungsgasen zu schützen, die die Hochtemperatureigenschaften dieser Werkstoffe beeinträchtigen würden. Dazu werden dünne keramische Schichten aufgebracht, die als thermischer Schutz dienen. Solche keramische Wärmeschutzschichten bestehen vorzugsweise aus Zirkoniumdioxid, das zur Stabilisierung der Hochtemperaturphase des Zirkoniumdioxids mit sogenannten Stabilisatoroxiden versetzt wird, insbesondere mit Magnesiumoxid, Kalziumoxid oder Yttriumoxid. Diese bilden mit dem Zirkoniumdioxid ein Mischkristall und stabilisieren so die tetragonalen und kubischen Hochtemperaturphasen des Zirkoniumdioxids.
Das Aufbringen dieser Wärmedämmschichten auf die metallischen Substrate erfolgte bisher meist durch Plasmaspritzen, bei dem ein mit Stabilisatoroxiden versetztes Zirkoniumoxidpulver mit Hilfe eines Plasmabrenners auf das Substrat aufgetragen wurde.
Neuerdings werden solche Schichten auch durch Elektronstrahlverdampfen aufgebracht, da diese bessere mechanische Eigenschaften und eine höhere Lebensdauer besitzen. Für das Elektronstrahlverdampfen werden allerdings sogenannte Targets benötigt, vorgefertigte Zirkoniumdioxid-Sinterkörper mit entsprechendem Stabilisatoroxidgehalt.
Diese Targets müssen, bedingt durch das Elektronenstrahlverdampfungsverfahren, das Temperaturunterschiede von ca. 2500°C im Sinterkörper erzeugt, eine sehr hohe Thermoschockbeständigkeit besitzen. Mit den bisher bekannten Targets und deren Herstellungsverfahren sind die notwendigen Thermoschockbeständigkeiten nicht zu erreichen. Diese Sinterkörper zerplatzen während des Aufdampfverfahrens aufgrund der auftretenden Temperaturspannungen.
Aus der DE-OS 39 08 322 sind Sinterkörper aus Zirkoniumdioxid bekannt, die als Targets zum Aufdampfen optischer Schichten dienen. Das dort verwendete Zirkoniumdioxid kann 50 bis 2000 ppm Kalziumoxid enthalten und muß eine Reinheit von mindestens 99%. aufweisen. Außerdem müssen die Targets eine Dichte von mehr als 4,9 g/cm3 besitzen. Dichten von weniger als 4,9 g/cm3 sollen sich negativ auf die Qualität der aufgedampften Schichten auswirken. Bei Verwendung von mehr als 0,2%. Kalziumoxid bilden sich Risse im Target, so daß keine stabilen Hochtemperaturphasen des Zirkoniumdioxids mit diesen Targets erzeugt werden können, die für die Herstellung von Wärmedämmschichten erforderlich sind.
In der US-PS 4,676,994 wird eine dichte keramische Schicht auf Substraten beschrieben, wobei die Schicht eine Dichte von mehr als 94% der theoretischen Dichte aufweist. Über das hierzu verwendete Target werden keine näheren Angaben gemacht.
Zum Gebrauch für Hochtemperaturanwendungen, wie poröse Filter für geschmolzene Metalle oder Katalysatorträger mit großen Oberflächen, werden gemäß der EP-OS 0 419 407 keramische Körper aus teilstabilisiertem Zirkoniumdioxid verwendet, das zu 12 bis 80 Gew.-% als monokline Phase vorliegt, Rest im wesentlichen und kubische Phase. Diese keramischen Zirkoniumdioxidkörper enthalten 0,5 bis 5 Gew.% Magnesiumoxid, Kalziumoxid, Ceroxid oder Titandioxid als Stabilisator. Diese Körper weisen eine hohe Temperaturfestigkeit und thermische Schockresistenz auf. Die Herstellung dieser porösen Körper erfolgt über einen Schlicker, der aus sehr feinen Pulvern besteht (mittlere Partikelgröße 1-50 µm, mehr als 20% kleiner 1 µm) und bei 1500 bis 1700°C gesintert wird. Infolge ihrer Porosität sind solche Sinterkörper nicht als Targets für das Elektronenstrahlverdampfungsverfahren verwendbar.
Es war daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Target aus teilstabilisiertem Zirkoniumdioxid zum Aufdampfen von Wärmedämmschichten auf metallische Hochtemperaturwerkstoffe zu entwickeln, das eine für die Elektronenstrahlverdampfung ausreichende Thermoschockbeständigkeit besitzt.
Auch sollten diese Targets gleichmäßig dicke Aufdampfschichten mit einer möglichst geringen Anzahl von Spritzern gewährleisten. Weiterhin sollte ein Verfahren zur Herstellung solcher Targets gefunden werden.
Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, daß das Zirkoniumdioxid 0,5 bis 25 Gew.% Yttriumoxid als Stabilisatoroxid enthält, daß beide Oxide eine Reinheit von mindestens 99,8% aufweisen, daß 5 bis 80 Gew.-% des Zirkoniumdioxids als monokline Phase vorliegt, Rest tetragonale und kubische Phasen, und daß das Target eine Dichte von 3,0 bis 4,5 g/cm3 besitzt.
Vorzugsweise enthält das Zirkoniumdioxid 8 bis 18 Gew.-% Yttriumoxid. Vorteilhaft ist es, wenn der Anteil der monoklinen Phase des Zirkoniumdioxids 9 bis 50 Gew.-% beträgt. Besonders bewährt haben sich Targets mit Dichten von 3,4 bis 4,2 g/cm2, die man durch besondere Pulverauswahl und Sinterbedingungen erreichen kann.
Solche Targets sind überraschenderweise sehr thermoschockbeständig und eignen sich daher in hervorragender Weise für Elektronenstrahlverdampfungen. Bei der Herstellung der Targets ist darauf zu achten, daß es nur zu einer teilweisen Diffusion des Yttriumoxids in das Zirkoniumdioxidgitter kommt und so noch große Anteile des Zirkoniumdioxids als monokline Phase vorliegen.
Die Herstellung der erfindungsgemäßen Targets erfolgt daher durch Pressen und Sintern von Zirkoniumdioxid/ Yttriumoxid-Gemischen zu entsprechenden Formkörpern, wobei die Pulver eine Reinheit von mindestens 99,8% aufweisen müssen. Das Sintern der Preßlinge erfolgt vorzugsweise bei 1150 bis 1450°C während 0,5 bis 10 Stunden bis eine Dichte der Formkörper von 3,0 bis 4,5 g/cm3 erreicht ist. Besonders bewährt haben sich Sintertemperaturen von 1250 bis 1350°C bis zum Erreichen von Sinterdichten von 3,4 bis 4,2 g/cm3.
Weiterhin ist es vorteilhaft Pulver zu verwenden deren mittlere Teilchengröße d50 unterhalb 50 µm liegt, wobei mehr als 90 Gew.-% der Teilchen 0,4 µm und größer und mehr als 50 Gew.-% 1 µm und größer sein müssen. Besonders bewährt haben sich Pulver mit mittleren Teilchendurchmesser d50 von weniger als 40 µm. Bei solchen Pulvergemischen kann man völlig auf Binde- und Preßhilfsmittel verzichten.
Als Grund für die erhöhte Thermoschockbeständigkeit der so hergestellten Targets wird vermutet, daß während der Herstellung des Sinterkörpers durch Pressen des Ausgangspulvers und anschließendem Sintern es zu keiner ausreichenden Diffusion des Stabilisators in das ZrO2-Gitter kommt und somit nach dem Sintern gering bzw. nicht stabilisiertes Zirkoniumdioxid erhalten bleibt. Beim Abkühlvorgang während des Sinterprozesses kommt es dann zur Umwandlung des gering bzw. nicht stabilisierten Zirkoniumdioxids von der bei der Sintertemperatur stabilen tetragonalen Phase in die bei niedrigen Temperaturen stabile monokline Phase. Bei dieser Phasenumwandlung tritt eine starke Volumenaufweitung des ZrO2-Gitters auf, die eine Mikrorißbildung im Gefüge bewirkt. Diese Mikrorißstruktur ist geeignet, die Thermoschockfestigkeit des Sinterkörpers zu erhöhen und so ein Elektronenstrahlverdampfen zu ermöglichen.
Es hat sich gezeigt, daß eine bestimmte Teilchengröße des Ausgangspulvers vorteilhaft ist. Sehr feine Ausgangspulver ergeben auch bei geringen Dichten des Sinterkörpers eine relativ schlechte Thermoschockbeständigkeit.
Bei einem zu feinen Ausgangspulver ist vor der Targetherstellung eine Vergrößerung des Pulvergemisches durch eine zusätzliche Wärmebehandlung (sog. Kalzinieren) erforderlich. Das Kalzinieren kann, je nach Feinheit des Ausgangspulvers, in einem Temperaturintervall von 800-1300°C und einer Haltezeit von 0,5-10 h durchgeführt werden. Ein so behandeltes Pulver eignet sich zur erfindungsgemäßen Herstellung der Sintertargets.
Neben der Thermoschockbeständigkeit der Targets ist für die guten Verdampfungseigenschaften auch die sogenannte Spritzerzahl wichtig. Dabei handelt es sich um das unkontrollierbare Auftreten von Gasblasen in der Schmelze, die an die Schmelzbadoberfläche steigen, dort zerplatzen und Schmelztropfen mitreißen. Die mitgerissenen Schmelztropfen werden z. T. auch gegen das zu beschichtende Substrat geschleudert und führen dort zu Beschädigungen der Schicht bzw. des Substrats. Überraschenderweise zeigen die erfindungsgemäßen Targets nur eine geringe Neigung Spritzer zu erzeugen. Hierfür dürfte auch die Reinheit der verwendeten Pulver wichtig sein. Beim Zirkoniumdioxid wird das immer anwesende Hafniumdioxid nicht als Verunreinigung angesehen.
Folgende Beispiele sollen die erfindungsgemäßen Targets und deren Herstellung näher erläutern:
1. 690 g eines hydrothermal hergestellten Y2O3-freien ZrO2-Pulvers mit einer chemischen Reinheit < 99,95% (ZrO2+HfO2), mit einer Teilchengröße von 50% kleiner 0,1 µm wird mit 1700 g ebenfalls hydrothermal hergestelltem, Y2O3-teilstabilisiertem ZrO2-Pulver mit einem Y2O3-Gehalt von 5,3 Masse % mit einer Teilchengröße von 50% kleiner 0,1 µm, sowie 831 g Y2O3 (Reinheit 99,99%) 2 Stunden innig gemischt. Die entstandene Pulvermischung besitzt eine Teilchengröße von 50% kleiner 0,6 µm und 10% kleiner 0,33 µm.
Die Pulvermischung wird mit einer Haltezeit von 1, 5 h bei 1100°C kalziniert. Die Teilchengröße beträgt dann 50% kleiner 5,6 µm (d50-Wert), sowie 90% größer 0,47 µm und 67% größer 1 µm. 1700 g dieser kalzinierten Pulvermischung wird in einer geeigneten Silikonkautschukform bei 100 MPa kaltisostatisch in eine Zylinderform mit ⌀ 62 mm und Länge 210 mm gepreßt. Der Preßling wird bei 1260°C und einer Haltezeit von 4 h auf eine Enddichte von 3,9 g/cm3 gesintert.
Durch quantitative Röntgendiffraktometrie wird im gesinterten Körper ein monokliner ZrO2-Anteil von 19% nachgewiesen. Der geschliffene Sinterkörper wird in einem Elektronenstrahlofen erhitzt. Es bilden sich nur geringe Risse beim Erhitzen und der Körper kann aufgeschmolzen werden. Nach dem Aufschmelzen läßt sich das Material gleichmäßig verdampfen. Ein beschichtetes Substrat zeigt eine Spritzerdichte von 1,0 Spritzer/cm².
2. 744 g eines hydrothermal hergestellten: Y2O3-freien ZrO2-Pulvers mit einer chemischen Reinheit < 99,95% (ZrO2+HfO2 und einer Teilchengröße von 50% kleiner 0,1 µm wird mit 56 g Y2O3 (Reinheit 99,99%) 2 h innig gemischt.
Die Pulvermischung wird mit einer Haltezeit von 2 h bei 1150°C kalziniert. Die Teilchengröße beträgt dann 50% kleiner 7,8 µm (d50-Wert), sowie 90% größer 0,6 µm und 68% größer 1 µm.
600 g der kalzinierten Pulvermischung wird in einer geeigneten Silikonkautschukform bei 100 MPa kaltisostatisch in eine Zylinderform mit ⌀ 53,5 mm und Länge 92,8 mm gepreßt.
Der Preßling wird bei 1290°C und einer Haltezeit von 4 h auf eine Enddichte von 3,66 g/cm3 gesintert.
Durch quantitative Röntgendiffraktometrie wird im gesinterten Körper ein monokliner ZrO2-Anteil von 45% nachgewiesen. Der geschliffene Sinterkörper wird in einem Elektronenstrahlofen erhitzt. Es bilden sich nur geringe Risse beim Erhitzen und der Körper kann aufgeschmolzen werden. Nach dem Aufschmelzen läßt sich das Material gleichmäßig verdampfen. Ein beschichtetes Substrat zeigt eine Spritzerdichte von 2,5 Spritzer/cm².
3. 687 g eines kommerziell erhältlichen, Y2O3-teilstabilisierten ZrO2-Pulvers mit einer chemischen Reinheit < 99,9% (ZrO2+Hf2) und einer Teilchengröße von 50% kleiner 0,6 µm wird mit 303 g eines hydrothermal hergestellten, Y2O3-freien ZrO2-Pulver (s. Beispiel 1) sowie 9,60 g Y2O3s (Reinheit 99,99%) 2 h innig gemischt. Die entstandene Pulvermischung besitzt eine Teilchengröße von 50% kleiner 0,76 µm und 10% kleiner 0,39 µm.
Die Pulvermischung wird mit einer Haltezeit von 2 h bei 1150°C kalziniert. Die Teilchengröße beträgt dann 50% kleiner 13,6 µm (d50-Wert), sowie 90% kleiner 0,52 µm und 69% größer 1 µm.
725 g dieser kalzinierten Pulvermischung wird in einer geeigneten Silikonkautschukform bei 100 MPa kaltisostatisch in eine Zylinderform mit ⌀ 60,4 mm und Länge 102,4 mm gepreßt. Der Preßling wird bei 1300°C und einer Haltezeit von 4 h auf eine Enddichte von 3,25 g/cm³ gesintert. Durch quantitative Röntgendiffraktometrie wird im gesinterten Körper ein monokliner ZrO2-Anteil von 9% nachgewiesen. Der geschliffene Sinterkörper wird in einem Elektronenstrahlofen erhitzt. Es bilden sich nur geringe Risse beim Erhitzen und der Körper kann aufgeschmolzen werden. Nach dem Aufschmelzen läßt sich das Material gleichmäßig verdampfen. Ein beschichtetes Substrat zeigt eine Spritzerdichte von 2,8 Spritzer/cm².
Folgende Versuche wurden mit Targets durchgeführt, die die erfindungsgemäßen Merkmale nicht aufweisen:
4. 1141 g eines hydrothermal hergestellten, Y2O3-freien ZrO2-Pulvers mit einer chemischen Reinheit < 99,95% (ZrO2+HfO2) und einer Teilchengröße von 50% kleiner 0,1 µm wird mit 110 g Y2O3 (Reinheit 99,99%) 2 h innig gemischt. Die Pulvermischung wird mit einer Haltezeit von 6 h bei 1100°C kalziniert. Die Teilchengröße beträgt dann 50% kleiner 15,6 µm (d50-Wert), sowie 90% größer 0,67 µm und 70% größer 1 µm.
1700 g dieser kalzinierten Pulvermischung wird in einer geeigneten Silikonkautschukform bei 100 MPa kaltisostatisch in eine Zylinderform mit ⌀ 61 mm und Länge 200 mm gepreßt.
Der Preßling wird bei 1270°C und einer Haltezeit von 2 h auf eine Enddichte von 3,2 g/cm³ gesintert. Durch quantitative Röntgendiffraktometrie kann im gesinterten Körper kein monokliner ZrO2-Anteil nachgewiesen werden. Der geschliffene Sinterkörper wird in einem Elektronenstrahlofen erhitzt. Im Vergleich zu Beispiel 1-3 zerplatzt bereits während des Aufheizvorgangs der Sinterkörper. Ein Aufschmelzen und Verdampfen ist daher nicht möglich.
5. 1104 g eines Y2O3-freien ZrO2-Pulvers mit einer geringeren chemischen Reinheit von 98,9% (ZrO2+HfO2) , einer Teilchengröße von 50% kleiner 1,1 µm wird mit 96 g Y2O3 (Reinheit 99,99%) 2 h innig gemischt.
Die Pulvermischung wird mit einer Haltezeit von 2 h bei 1150°C kalziniert, die Teilchengröße beträgt 50% kleiner 3,25 µm (d50-Wert), sowie 90% größer 0,56 µm und 80% größer 1 µm. 484 g dieser kalzinierten Pulvermischung wird in einer geeigneten Silikonkautschukform bei 100 MPa kaltisostatisch in eine Zylinderform mit ⌀ 58,2 mm und Länge 68 mm gepreßt. Der Preßling wird bei 1410°C und einer Haltezeit von 4 h auf eine Enddichte von 3,6 g/cm3 gesintert.
Durch quantitative Röntgendiffraktometrie kann im gesinterten Körper ein monokliner ZrO2-Anteil von 39% nachgewiesen werden. Der geschliffene Sinterkörper wird in einem Elektronenstrahlofen erhitzt. Es bilden sich nur geringe Risse beim Erhitzen und der Körper kann aufgeschmolzen werden. Im Vergleich zu Beispiel 1-3 tritt bereits während des Aufschmelzens eine starke Spritzerbildung auf, die ein gleichmäßiges Verdampfen verhindert. Ein beschichtetes Substrat zeigt eine Spritzerdichte von 29 Spritzer/cm2. Das Material ist daher zur Beschichtung nicht geeignet.
6. 180 g einer kalzinierten Pulvermischung gemäß Beispiel 2 wird in einer geeigneten Silikonkautschukform bei 100 MPa kaltisostatisch in eine Zylinderform mit ⌀ 54 mm und Länge 40,6 mm gepreßt.
Der Preßling wird bei 1350°C und einer Haltezeit von 6 h auf eine Enddichte von 4,75 g/cm3 gesintert. Durch quantitative Röntgendiffraktometrie wird ein gesinterter Körper ein monokliner ZrO2-Anteil von 11% nachgewiesen. Der geschliffene Sinterkörper wird in einem Elektronenstrahlofen erhitzt. Im Vergleich zu Beispiel 1-3 zerplatzt bereits während des Aufheizvorganges der Sinterkörper. Ein Aufschmelzen und Verdampfen ist daher nicht möglich.

Claims (8)

1. Target aus teilstabilisiertem Zirkoniumdioxid zum Aufdampfen von Wärmedämmschichten auf metallische Hochtemperaturwerkstoffe,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Zirkoniumdioxid 0,5 bis 25 Gew.% Yttriumoxid als Stabilisatoroxid enthält,
daß beide Oxide eine Reinheit von mindestens 99,8% aufweisen, daß 5 bis 80 Gew.% des Zirkoniumdioxids als monokline Phase vorliegt. Rest tetragonale und kubische Phasen,
und daß das Target eine Dichte von 3,0 bis 4,5 g/cm3 besitzt.
2. Target nach Anspruch 1 dadurch gekennzeichnet, daß das Zirkoniumdioxid 8 bis 18 Gew.% Yttriumoxid enthält.
3. Target nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß der Anteil der monoklinen Phase des Zirkoniumdioxids 9 bis 50 Gew.% beträgt.
4. Target nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß es Dichten von 3,4 bis 4,2 g/cm3 besitzt.
5. Verfahren zur Herstellung von Targets nach Anspruch 1 bis 4, durch Pressen und Sintern von Zirkoniumdioxid- /Yttriumoxid-Gemischen zu entsprechenden Formkörpern, dadurch gekennzeichnet, daß die Preßlinge bei 1150 bis 1450°C während 0,5 bis 10 Stunden bis zu einer Dichte von 3,0 bis 4,5 g/cm3 gesintert werden.
6. Verfahren zur Herstellung von Targets nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß Sintertemperaturen von 1250 bis 1350°C bis zum Erreichen von Sinterdichten von 3,4 bis 4,2 g/cm3 angewendet werden.
7. Verfahren zur Herstellung von Targets nach Anspruch 5 oder 6, dadurch gekennzeichnet, daß Pulver der mittlere Teilchengröße d50 unterhalb 50 µm eingesetzt werden, wobei mehr als 90 Gew.% der Teilchen 0,4 µm und größer und mehr als 50 Gew.% der Teilchen 1 µm und größer sein müssen.
8. Verfahren zur Herstellung von Targets nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet, daß Pulver der mittlere Teilchengröße d50 unterhalb 40 µm eingesetzt werden.
DE4302167A 1993-01-27 1993-01-27 Target aus Zirkoniumdioxid und Verfahren zu seiner Herstellung Expired - Fee Related DE4302167C1 (de)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4302167A DE4302167C1 (de) 1993-01-27 1993-01-27 Target aus Zirkoniumdioxid und Verfahren zu seiner Herstellung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE4302167A DE4302167C1 (de) 1993-01-27 1993-01-27 Target aus Zirkoniumdioxid und Verfahren zu seiner Herstellung

Publications (1)

Publication Number Publication Date
DE4302167C1 true DE4302167C1 (de) 1994-02-10

Family

ID=6479009

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE4302167A Expired - Fee Related DE4302167C1 (de) 1993-01-27 1993-01-27 Target aus Zirkoniumdioxid und Verfahren zu seiner Herstellung

Country Status (1)

Country Link
DE (1) DE4302167C1 (de)

Cited By (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0788139A1 (de) * 1996-02-02 1997-08-06 Commissariat A L'energie Atomique Kathodenzerstäubungsverfahren und Vorrichtung mittels einer auf hoher Temperatur geheizter Target
EP0812930A1 (de) * 1996-06-13 1997-12-17 Deutsche Forschungsanstalt für Luft- und Raumfahrt e.V. Keramische Verdampfermaterialien
EP0812931A1 (de) * 1996-06-13 1997-12-17 Tosoh Corporation Material zur Gasphasenabscheidung
EP0931852A1 (de) * 1998-01-23 1999-07-28 Tosoh Corporation Material zur Gasphasenabscheidung
EP0987345A1 (de) * 1998-09-18 2000-03-22 General Electric Company Wärmedämmendes Beschichtungssystem
EP1055743A1 (de) * 1999-05-25 2000-11-29 Tosoh Corporation Material zur Gasphasenabscheidung
FR2838752A1 (fr) * 2002-04-22 2003-10-24 Snecma Moteurs Procede de formation d'un revetement ceramique sur un substrat par depot physique en phase vapeur sous faisceau d'electrons
EP1522533A1 (de) 2003-10-09 2005-04-13 Snecma Moteurs Target für Elektronstrahlverdampfung, Verfahren zur dessen Herstellung, Wärmedämmschicht und Gegenstand enhaltend einen solche Schicht.
US6930066B2 (en) * 2001-12-06 2005-08-16 Siemens Westinghouse Power Corporation Highly defective oxides as sinter resistant thermal barrier coating
DE102006036711B3 (de) * 2006-08-05 2008-02-21 Gfe Metalle Und Materialien Gmbh Verfahren zur Herstellung oxidischer Beschichtungswerkstoffe auf der Basis von Refraktärmetallen
EP2644824A1 (de) * 2012-03-28 2013-10-02 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung und Wiederherstellung von keramischen Wärmedämmschichten in Gasturbinen sowie dazugehörige Gasturbine
US8663337B2 (en) 2007-06-18 2014-03-04 Zimmer, Inc. Process for forming a ceramic layer
CN108675788A (zh) * 2018-06-20 2018-10-19 江苏瑞尔光学有限公司 一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4676994A (en) * 1983-06-15 1987-06-30 The Boc Group, Inc. Adherent ceramic coatings
DE3908322A1 (de) * 1988-03-15 1989-10-05 Tosoh Corp Zirkoniumdioxid-sinterkoerper, der zur bildung eines duennfilms geeignet ist, und verfahren zu seiner herstellung

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4676994A (en) * 1983-06-15 1987-06-30 The Boc Group, Inc. Adherent ceramic coatings
DE3908322A1 (de) * 1988-03-15 1989-10-05 Tosoh Corp Zirkoniumdioxid-sinterkoerper, der zur bildung eines duennfilms geeignet ist, und verfahren zu seiner herstellung

Cited By (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
FR2744462A1 (fr) * 1996-02-02 1997-08-08 Commissariat Energie Atomique Procede et dispositif pour realiser un depot par pulverisation cathodique a partir d'une cible portee a haute temperature
EP0788139A1 (de) * 1996-02-02 1997-08-06 Commissariat A L'energie Atomique Kathodenzerstäubungsverfahren und Vorrichtung mittels einer auf hoher Temperatur geheizter Target
EP0812930A1 (de) * 1996-06-13 1997-12-17 Deutsche Forschungsanstalt für Luft- und Raumfahrt e.V. Keramische Verdampfermaterialien
EP0812931A1 (de) * 1996-06-13 1997-12-17 Tosoh Corporation Material zur Gasphasenabscheidung
EP0931852A1 (de) * 1998-01-23 1999-07-28 Tosoh Corporation Material zur Gasphasenabscheidung
US6143437A (en) * 1998-01-23 2000-11-07 Tosoh Corporation Vapor deposition material
EP0987345A1 (de) * 1998-09-18 2000-03-22 General Electric Company Wärmedämmendes Beschichtungssystem
EP1055743A1 (de) * 1999-05-25 2000-11-29 Tosoh Corporation Material zur Gasphasenabscheidung
US6930066B2 (en) * 2001-12-06 2005-08-16 Siemens Westinghouse Power Corporation Highly defective oxides as sinter resistant thermal barrier coating
FR2838752A1 (fr) * 2002-04-22 2003-10-24 Snecma Moteurs Procede de formation d'un revetement ceramique sur un substrat par depot physique en phase vapeur sous faisceau d'electrons
EP1357201A1 (de) * 2002-04-22 2003-10-29 Snecma Moteurs Verfahren zum Herstellen einer keramischen Gradientenbeschichtung mittels Elektronstrahl-PVD
EP1522533A1 (de) 2003-10-09 2005-04-13 Snecma Moteurs Target für Elektronstrahlverdampfung, Verfahren zur dessen Herstellung, Wärmedämmschicht und Gegenstand enhaltend einen solche Schicht.
FR2860790A1 (fr) * 2003-10-09 2005-04-15 Snecma Moteurs Cible destinee a etre evaporee sous faisceau d'electrons, son procede de fabrication, barriere thermique et revetement obtenus a partir d'une cible, et piece mecanique comportant un tel revetement
US7335616B2 (en) 2003-10-09 2008-02-26 Snecma Moteurs Target for vaporizing under an electron beam, a method of fabricating it, a thermal barrier and a coating obtained from a target, and a mechanical part including such a coating
US7396592B2 (en) 2003-10-09 2008-07-08 Snecma Target for vaporizing under an electron beam, a method of fabricating it, a thermal barrier and a coating obtained from a target, and a mechanical part including such a coating
US7429350B2 (en) 2003-10-09 2008-09-30 Snecma Target for vaporizing under an electron beam, a method of fabricating it, a thermal barrier and a coating obtained from a target, and a mechanical part including such a coating
DE102006036711B3 (de) * 2006-08-05 2008-02-21 Gfe Metalle Und Materialien Gmbh Verfahren zur Herstellung oxidischer Beschichtungswerkstoffe auf der Basis von Refraktärmetallen
US8663337B2 (en) 2007-06-18 2014-03-04 Zimmer, Inc. Process for forming a ceramic layer
EP2644824A1 (de) * 2012-03-28 2013-10-02 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung und Wiederherstellung von keramischen Wärmedämmschichten in Gasturbinen sowie dazugehörige Gasturbine
WO2013143631A1 (de) * 2012-03-28 2013-10-03 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur herstellung und wiederherstellung von keramischen wärmedämmschichten in gasturbinen sowie dazugehörige gasturbine
US10513935B2 (en) 2012-03-28 2019-12-24 Siemens Aktiengesellschaft Method for producing and restoring ceramic heat insulation coatings in gas turbines and associated gas turbine
CN108675788A (zh) * 2018-06-20 2018-10-19 江苏瑞尔光学有限公司 一种稳定氧化锆镀膜靶材及其制备方法

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE4302167C1 (de) Target aus Zirkoniumdioxid und Verfahren zu seiner Herstellung
DE4331877C2 (de) Verbundmaterial auf der Basis von Zirconiumdioxid und Verfahren zu dessen Herstellung
DE69731506T2 (de) Keramisches Verbundmaterial und poröses keramisches Material
DE19850366B4 (de) Plateletverstärkter Sinterformkörper, dessen Verwendung und Verfahren zu seiner Herstellung
WO1998053940A1 (de) Metall-keramik-gradientenwerkstoff, erzeugnis daraus und verfahren zur herstellung eines metall-keramik-gradientenwerkstoffes
DE60012625T2 (de) Material zur Gasphasenabscheidung
WO2006034836A1 (de) Poröse struktur
EP2644738B1 (de) Plasmaspritzverfahren zum Herstellen einer ionenleitenden Membran und ionenleitende Membran
DE102017005800A1 (de) Zirkoniumoxidpulver zum thermischen Spritzen
EP1204619B1 (de) Keramischer werkstoff, verfahren, verwendung und schicht
EP0812930B1 (de) Keramische Verdampfermaterialien
DE19752776C1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Bauteils aus Al¶2¶0¶3¶/Titanaluminid-Verbundwerkstoff und dessen Verwendung
DE102016007231A1 (de) Selbst heilende Wärmedämmschichten sowie Verfahren zur Herstellung derselben
DE3908322C2 (de) Zirkoniumdioxid-Sinterkörper, der zur Bildung eines Dünnfilms geeignet ist, und Verfahren zu seiner Herstellung
DE102018208815A1 (de) Verfahren zur Erzeugung von Wärmedämmschichten mit Vertikalrissen
DE3015639C2 (de)
DE10133209C5 (de) Nichtoxidisches keramisches Beschichtungspulver und daraus hergestellte Schichten
DE19626656C2 (de) Beschichtete Gußform aus feuerfester Keramik und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP1256636B1 (de) Wärmedämmmaterial mit im wesentlichen magnetoplumbitischer Kristallstruktur
DE10110448A1 (de) Beschichtungspulver auf der Basis von chemisch modifizierten Titansuboxiden
DE102020126082A1 (de) Verfahren zur Herstellung einer Beschichtung sowie Beschichtung
DE10222788B4 (de) Verfahren zur Herstellung eines keramischen Werkstoffs mit einer zumindest im Wesentlichen oxidkeramischen Matrix und darin eingebetteten Poren
EP0094030B1 (de) Keramischer Formkörper und Verfahren zu seiner Herstellung
DE60316080T2 (de) Verfahren zur Herstellung eines Feuerfestmaterials, damit herstellbare Schutzbeschichtung und deren Verwendungen
DE19752775C1 (de) Verfahren zur Herstellung eines Opferkörpers aus einem Ausgangsgemenge zur späteren Herstellung eines Bauteils aus einem Al¶2¶0¶3¶/Titanaluminid-Verbundwerkstoff, Ausgangsgemenge für den Opferkörper sowie Opferkörper und Verwendung des Opferkörpers

Legal Events

Date Code Title Description
8100 Publication of the examined application without publication of unexamined application
D1 Grant (no unexamined application published) patent law 81
8364 No opposition during term of opposition
8327 Change in the person/name/address of the patent owner

Owner name: DEGUSSA-HUELS AG, 60311 FRANKFURT, DE

8339 Ceased/non-payment of the annual fee