DE4220588C2 - Lichtbogen-Verdampfungsvorrichtung - Google Patents
Lichtbogen-VerdampfungsvorrichtungInfo
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- H01J37/32009—Arrangements for generation of plasma specially adapted for examination or treatment of objects, e.g. plasma sources
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- C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
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Description
Die Erfindung betrifft eine Lichtbogen-Verdampfungsvorrich
tung zum Verdampfen eines an einer Kathode anliegenden Tar
gets mittels zumindest eines durch einen von einem Lichtbo
genstrom einer Stromquelle erzeugten Kathodenflecks, welche
zur Begrenzung der Kathodenflecken auf der zu verdampfenden
Oberfläche des Targets eine elektrostatische Abschirmung
hat, die über ein RC-Glied mit der Anode der Stromquelle
verbunden ist.
Eine solche Lichtbogen-Verdampfungsvorrichtung ist bei
spielsweise in der DE 40 22 308 A1 beschrieben. Bei dieser
Vorrichtung ist die elektrostatische Abschirmung aus einem
den Magnetfluss leitenden Material mit geringem Abstand zur
Mantelfläche des an die Kathode angeschlossenen Targets an
geordnet und über ein RC-Glied mit der Anode verbunden.
Bekannt sind auch schon auf der aktiven Seite des Targets
aufsitzende Ringe aus Bornitrid oder Titannitrid, welche
die Kathodenflecken daran hindern, den Randbereich des
Targets zu erreichen, was die DE 33 45 493 C2 zeigt. Solche
Ringe sind jedoch wegen ihres Materials relativ teuer.
Der Erfindung liegt das Problem zugrunde, eine Lichtbogen-
Verdampfungsvorrichtung der eingangs genannten Art so zu
gestalten, dass sich mit möglichst geringem Aufwand eine
wirkungsvolle elektrostatische Abschirmung erreichen lässt.
Dieses Problem wird erfindungsgemäß dadurch gelöst, dass im
Randbereich der zu verdampfenden Oberfläche des Targets
eine umlaufende Nut vorgesehen ist, in welche die Abschir
mung unter Bildung eines Labyrinths mit einem umlaufenden
Vorsprung eingreift.
Eine solche Abschirmung ist sehr einfach aufgebaut und des
halb kostengünstig herstellbar. Weil die Abschirmung mit
einem Vorsprung in eine Nut eingreift, müssen sich nach au
ßen bewegende Kathodenflecken sehr lange in unmittelbarer
Nähe zu dem Rand der Abschirmung bewegen. Sie geben dabei
ihre Ladung an die Abschirmung ab, so dass es zu einem zu
verlässigen Löschen der Lichtbogen kommt und dadurch eine
Zerstörung von Teilen der Vorrichtung durch nach außen
wandernde Lichtbögen zuverlässig verhindert werden kann.
Die Erfindung lässt zahlreiche Ausführungsformen zu. Zu ih
rer weiteren Verdeutlichung ist in der Zeichnung ein Quer
schnitt durch eine Lichtbogen-Verdampfungsvorrichtung mit
der erfindungsgemäßen Abschirmung dargestellt und wird
nachfolgend beschrieben.
Die Zeichnung zeigt eine Vakuumkammer 1, deren Gehäuse 2 an
der Anode einer als Gleichstromgenerator ausgebildeten
Stromquelle 3 angeschlossen ist. In das Gehäuse 2 hinein
ragt von einer Seite ein Target 4, welches aus dem in der
Vorrichtung zu verdampfenden Material, also beispielsweise
Titan, besteht und auf einer wassergekühlten Platte 5 auf
liegt.
Wichtig für die Erfindung ist eine Abschirmung 6 aus einem
elektrisch leitenden Material, die von außen her geringfü
gig über das Target 4 greift und zur Bildung eines Laby
rinths mit einem nach unten gerichteten, umlaufenden Vor
sprung 7 in eine nahe der Peripherie des Targets 4 umlau
fende Nut 8 greift, ohne das Target 4 zu berühren und über
ein RC-Glied 9 mit dem Gehäuse 2 und damit mit dem Pluspol
verbunden ist.
Die Abschirmung 6 ist durch einen Isolator 10 gegenüber dem
die Anode bildenden Gehäuse 2 und durch einen Isolator 11
zur Platte 5 und damit auch zum Target 4 hin isoliert.
Schematisch angedeutet ist innerhalb der Vakuumkammer 1 ein
gegenüber dem Target 4 angeordnetes, zu beschichtendes
Substrat.
1
Vakuumkammer
2
Gehäuse
3
Stromquelle
4
Target
5
Platte
6
Abschirmung
7
Vorsprung
8
Nut
9
RC-Glied
10
Isolator
11
Isolator
12
Substrat
Claims (1)
1. Lichtbogen-Verdampfungsvorrichtung zum Verdampfen eines
an einer Kathode anliegenden Targets mittels zumindest ei
nes durch einen von einem Lichtbogenstrom einer Stromquelle
erzeugten Kathodenflecks, welche zur Begrenzung der Katho
denflecken auf der zu verdampfenden Oberfläche des Targets
eine elektrostatische Abschirmung hat, die über ein RC-
Glied mit der Anode der Stromquelle verbunden ist, dadurch
gekennzeichnet, dass im Randbereich der zu verdampfenden
Oberfläche des Targets (4) eine umlaufende Nut (8) vorgese
hen ist, in welche die Abschirmung (6) unter Bildung eines
Labyrinths mit einem umlaufenden Vorsprung (7) eingreift.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19924220588 DE4220588C2 (de) | 1992-06-24 | 1992-06-24 | Lichtbogen-Verdampfungsvorrichtung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19924220588 DE4220588C2 (de) | 1992-06-24 | 1992-06-24 | Lichtbogen-Verdampfungsvorrichtung |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4220588A1 DE4220588A1 (de) | 1994-01-13 |
DE4220588C2 true DE4220588C2 (de) | 2001-02-15 |
Family
ID=6461663
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19924220588 Expired - Lifetime DE4220588C2 (de) | 1992-06-24 | 1992-06-24 | Lichtbogen-Verdampfungsvorrichtung |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4220588C2 (de) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5573596A (en) * | 1994-01-28 | 1996-11-12 | Applied Materials, Inc. | Arc suppression in a plasma processing system |
JP3852967B2 (ja) * | 1995-07-14 | 2006-12-06 | 株式会社アルバック | 低圧スパッタリング装置 |
US6264804B1 (en) | 2000-04-12 | 2001-07-24 | Ske Technology Corp. | System and method for handling and masking a substrate in a sputter deposition system |
US6652713B2 (en) | 2001-08-09 | 2003-11-25 | Applied Materials, Inc. | Pedestal with integral shield |
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Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE3345493C2 (de) * | 1983-05-09 | 1986-01-16 | Vac-Tec Systems, Inc., Boulder, Col. | Vorrichtung zum Stabilisieren eines Verdampfungslichtbogens |
DD293146A5 (de) * | 1989-03-23 | 1991-08-22 | Tu Chemnitz,De | Verfahren zum havarieschutz von vakuumbogenverdampferquellen |
-
1992
- 1992-06-24 DE DE19924220588 patent/DE4220588C2/de not_active Expired - Lifetime
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Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
DE4220588A1 (de) | 1994-01-13 |
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