DE4218382A1 - Optisches Profilometer zur Rauheitsmessung mit adaptiver Neigungsvoreinstellung und neuartigem Detektionssystem - Google Patents
Optisches Profilometer zur Rauheitsmessung mit adaptiver Neigungsvoreinstellung und neuartigem DetektionssystemInfo
- Publication number
- DE4218382A1 DE4218382A1 DE19924218382 DE4218382A DE4218382A1 DE 4218382 A1 DE4218382 A1 DE 4218382A1 DE 19924218382 DE19924218382 DE 19924218382 DE 4218382 A DE4218382 A DE 4218382A DE 4218382 A1 DE4218382 A1 DE 4218382A1
- Authority
- DE
- Germany
- Prior art keywords
- optical profilometer
- scanning
- detection
- adaptive
- transverse displacement
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/30—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces
- G01B11/303—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring roughness or irregularity of surfaces using photoelectric detection means
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
Description
Optische Profilometer werden zur Messung der Mikroform und
Rauheit in der Oberflächenmeßtechnik eingesetzt. Sie tasten mit
einen beugungsbegrenzten Fokus eines Laserstrahles die
Oberfläche ab. Optische Prinzipien der Interferometrie, der
Photometrie (Fokusdetektion), der konfokalen Abbildung oder der
Triangulation führen zu einer Messung der lokalen Profilhöhe,
wenn eine Relativbewegung zwischen Abtastfokus und Oberfläche
stattfindet.
Bisher bekannte optische Profilometer (z. B. /4/,/5/) arbeiten
gut, wenn die Mikrostruktur der Oberflächen verhältnismäßig glatt
ist. Lokale Profilsteigungen, Diskontinuitäten und Rauheit
innerhalb des Abtastfleckes führen jedoch zu Fehlmessungen, zu
nadelförmigen Spitzen, überhöhten Kantensprüngen oder gar zum
Abbruch der Messung. Dies ist jedoch für Anwendungen in der
Fertigung metallischer Oberflächen in den meisten Fällen gegeben.
Dadurch sind optische Profilometer bisher noch in ihrer Anwend
barkeit begrenzt.
Die Erfindung hat den Zweck, das an der rauhen Oberfläche
reflektierte Licht des Abtastfokus ohne Vignettierung des
gestreuten Lichtfächers oder mit möglichst geringer Vignettierung
durch das Abtastobjektiv zurück in den Detektionsraum des Profilo
meters zu leiten. In Bild 1a ist die Reflektion des fokussierten
Abtaststrahles an einem geneigten Oberflächenelementes für ein
konventionelles Profilometer gezeigt. In der Eintrittspupille des
Abtastobjektives hat der einfallende Gaußsche Strahl eine Taille
der Breite d. Das Oberflächenelement hat eine Neigung α. Der
Einfallswinkel der Reflexion der Strahlachse zur Flächennormalen
n ist ebenfalls α und der reflektierte Strahl verläßt das Ober
flächenelement mit dem Ablenkwinkel 2α. Dadurch kann schon bei
verhältnismäßig kleinen Winkeln α der reflektierte Strahlenkegel
bzw. der divergierende Gaußsche Strahl nicht mehr, oder nur mit
Vignettierung durch die Apertur des Abtastobjektives in den
Detektorraum gelangen. Mit D als Durchmesser der Eintrittspupille
und V als Aperturverhältnis, V = D/d, errechnet sich der maximal
zulässige Winkel αmax, der den geometrischen Strahlenkegel
mit dem Aperturwinkel arc sin(d/2f) unvignettiert zur Detektion
kommen läßt als
αmax = arcsin( A (1-1/V)/2 ). (1)
Selbst für extrem große Aperturen A = 0,95 und Aperturverhältnis
V = 2 ergibt sich nur ein sehr kleines αmax = 13,7°. Lokale
Steigungen in Riefen von bearbeiteten Metalloberflächen können
jedoch wesentlich größere Neigungen annehmen. Handelsübliche
Profilometer haben jedoch bisher nur Aperturen von ca. A = 0,5
und Aperturverhältnisse von V < 2. Daher tritt schon für α < 6,5
Vignettierung auf. Die Erfindung der Adaptiven Neigungsvorein
stellung verdoppelt den Winkel αmax. In Bild 1b wird der einfal
lende Stahl durch eine adaptive Regelung in der Eintrittspupille
stets soweit seitlich versetzt, daß die Strahlachse senkrecht auf
ein mittleres Oberflächenelement einfällt. Dadurch bildet die
reflektierte Strahlachse nach der Reflexion wieder den Winkel α.
Der maximal zulässige Winkel αmaxAN ergibt sich jetzt unter sonst
gleichbleibenden Bedingungen zu
αmaxAN = arcsin( A <1-1/V) ) (2)
Verglichen mit (1) ist der maximal zulässige Winkel jetzt
praktisch doppelt so groß. Der Vorteil der Adaptiven Neigungsvor
einstellung bleibt auch erhalten, wenn das Oberflächenstückchen,
auf das der Fokus trifft nicht mehr eine ebene Fazette ist,
sondern noch innerhalb der Fleckbreite Rauheit aufweist. Dann
wird der reflektierte Gaußsche Strahl diffus aufgefächert. Die
Winkelverteilung der reflektierten Strahlung ergibt sich dabei
aus der Zufallsstruktur des Oberflächenprofiles und der Beugung
des Lichtes und ist in allgemeiner Form nur sehr schwer zu
berechnen. In jedem Falle wirkt sich jedoch die Verdoppelung des
Winkels αmax für die Detektion positiv aus.
Bild 2 zeigt die Realisation der adaptiven Neigungsvoreinstellung
für ein Heterodynprofilometer /1/. Der Strahl des Zweifrequenzen
lasers liefert zwei zueinander senkrecht polarisierte Teilstrah
len ( Moden). Er wird auf einen motorisierten, geregelten Dreh
spiegel SM fokussiert, so daß die Drehachse, der Fokus von 03
und der Fokus von 01 zusammenfallen. Dadurch kann der Abtast
strahl in der Eintrittspupille EP des Abtastobjektives MO lateral
um b versetzt werden, wie dies in Bild 1b vorausgesetzt wird. Die
Bildung des Hetererodynsignals geschieht so, wie dies in /1/
ausführlich beschrieben wird: der Referenzstrahl wird durch die
senkrecht zur Aufbauebene von Bild 2 polarisierte Mode des Lasers
gebildet. Er läuft nach Reflexion an dem polarisierenden Strahl
teiler PBS1 durch die Lambda-Viertelplatte QWP1 und wird dort
zirkular polarisiert. Nach der Reflexion an dem Planspiegel PM
und dem zweiten Durchgang durch die Lambda-Viertelplatte QWP1 ist
er parallel zur Aufbauebene polarisiert und kommt durch eine
Transmission an PBS1 und durch den neutralen Strahlenteiler NBS,
den Polarisator POL und der Linse 02 zum Heterodyndetektor HET
DET. Der Objektstrahl, der die Oberfläche abtastet, wird aus der
parallel schwingenden Mode gebildet. Sie erfährt durch QWP2 eine
sinngemäße Polarisationstransformation, so daß sie den Strahlen
teiler PBS ebenfalls in Richtung HET DET verlassen kann. Durch
den Polarisator POL werden beide Teilstrahlen auf gleiche Schwin
gungsrichtung gebracht, so daß sie nach der Fokussierung durch 02
auf dem Heterodyndetektor HET DET interferieren können.
Das Regelsignal für die adaptive Einstellung des Winkels α wird
über die beiden positionsempfindlichen Dioden PSD1 und PSD2
gebildet. Nach Reflexion beider Teilstrahlen an NBS wird der
Referenzstrahl an dem zweiten polarisierenden Strahlenteiler PBS2
durchgelassen und gelangt zu PSD1, während der Objektsrahlengang
reflektiert wird und zu PSD2 gelangt. Anstatt der positions
empfindlichen Dioden können auch CCD-Detektoren oder entsprechende
Empfänger angewendet werden. Aus der Geometrie der beiden Teil
strahlen und ihrer Versetzungen in Bild 2 ist leicht zu erkennen,
daß der Fall einer adaptiven Neigungsvoreinstellung nach Bild 1b
genau dann erfüllt ist, wenn die beiden Teilstrahlen im Raum
zwischen PBS1 und PBS2 aufeinanderfallen. Dies kann durch die
Positionssignale der Strahlschwerpunkte der beiden positions
empfindlichen Dioden, PSD1 und PSD2 über die Winkelstellung des
Drehspiegels SM eingeregelt werden. Das Regelkriterium ist die
Gleichheit der Schwerpunktsabstände auf den virtuell durch
Spiegelung um die Teilerfläche des PBS2 übereinandergelegten
PSDs.
Bild 3 zeigt die Realisation der Adaptiven Neigungsvoreinstellung
für ein photometrisches Profilometer /3//4//5/. Für diese
Profilometer kann ein Diodenlaser oder ein Helium-Neon Laser
verwendet werden. Die Parallversetzung des eintretenden Strahles
in der Eintrittspupille EP geschieht auf dieselbe Weise, wie im
Falle des Heterodyn Interferometers durch den motorisierten
Drehspiegel SM im Brennpunkt des Objektives 01. Da der Referenz
strahl nur zur Regelung des Drehspiegels verwendet wird und nicht
mit dem Objektstrahl interferieren muß, kann der Planspiegel PM
entfallen und durch die positionsempfindliche Diode PSD1 ersetzt
werden. Der Objektstrahl durchläuft die Folge der Komponenten
PBS, QWP2, NBS, bis zur Linse 02 in gleicher Weise, wie oben für
das Heterodynprofilometer beschrieben. Die Auslenkung des Objekt
strahles wird durch PSD2 gemessen. Dazu wird ein Teilstrahl durch
den neutralen Strahlenteiler NBS ausgekoppelt.
Für die Detektion der Profilhöhen kommt ein neues Prinzip zur
Anwendung, das ebenfalls Teil dieser Erfindung ist. Abb.4 zeigt
dieses Prinzip. Die Anordnung besteht nur aus einer Linse 02 und
einem Detektorzeile (z. B. einer CCD-Zeile) oder einen flächigen
Detektorarray. Da der Objektstrahl je nach dem lokalen Profil
neigungswinkel α seitlich um v versetzt sein kann, muß der
Algorithmus zur Profilhöhenbestimmung unabhängig von v sein. Der
Detektor besteht daher aus einer großen Zahl voneinander unabhän
giger Einzeldetektoren, wie dies z. B. für eine CCD-Zeile oder
einen zweidimensionalen CCD Bildsensor gegeben ist. Dieser
Detektor wird in einem bestimmten Abstand a vom Brennpunkt F
angeordnet. Der Abstand a ist so dimensioniert, daß für den in
Frage kommenden Bereich möglicher Profilhöhen der Fokus F in
Achsrichtung stets auf derselben Seite des Detektorarrays bleibt.
Seine Breite muß muß so dimensioniert sein, daß für alle mög
lichen Versetzungen v die volle Strahlbreite erfaßt wird.
Die Profilhöhe h(x) wird aus folgendem Signal S berechnet:
Dabei ist Ii die auf einen Einzeldetektor der Detektoranordnung
fallende Intensität. Die Hochzahl n soll ungleich 1 sein. Befin
det sich der Laserfokus exakt auf der Oberfläche, so ergibt sich
ein bestimmter Zahlenwert S0. Mit Kalibrierfaktoren ai, die in
Kalibrierläufen bestimmt werden können ergibt sich die zu mes
sende Höhe h:
h = a1 (S - S0)+a2 ( S - S0)2 + . . . (4)
Für n = 2 und n = 0,5 ergeben sich monoton ansteigende bzw.
abfallende Kennlinien mit einem sehr großen Meßbereich, wobei für
n = 0,5 in Simulationen gute Rauschfreiheit erzielt wurde.
Hochzahlen n größer als 1 führen zu einer größeren Rauschabhän
gigkeit für Oberflächen, die Rauheiten innerhalb der beugungsbe
grenzten Fleckbreite des fokussierten Abtaststrahles aufweisen.
Der neue Algorithmus zur Höhendetektion ist auch in Profilometern
ohne adaptive Neigungsvoreinstellung einsetzbar. Er erfaßt die
Profilhöhen unabhängig von den lokalen Profilsteigung.
Bild 5 zeigt ein Profilometer nach dem Prinzip der konfokalen
Mikroskopie /6/. Die Detektion der Profilhöhe geschieht hier
dadurch, daß nur dann, wenn der abgebildete Fokus axial genau
in der Ebene des Pinholes P liegt, maximale Intensität vom
Detektor D empfangen wird. Dazu wird das Objekt in geeigneten
Schritten senkrecht zur Oberfläche verschoben und dem Schritt,
der das Intensitätsmaximum aufweist, die entprechende Höhe
zugeordnet. Auch hier führt die Adaptive Neigungsvoreinstellung
zu einer entscheidenden Signalverbesserung. Dies gilt für alle
bekannten punktförmig messenden Realisationen.
Der Strahlversatz in der Eintrittspupille EP kann noch durch eine
Reihe anderer Bauteilanordnungen realisiert werden.
- 1. Durch eine kurzbrennweitige Linse, deren vorderer Brennpunkt mit einem Zwischenfokus des Beleuchtungsstrahlenganges zusammen fällt, und die lateral verschoben wird.
- 2. Durch Kippen einer Planplatte in Parallelstrahlengang zwischen 01 und PBS1. Diese Lösung ist für die Formprüfung in /B/ verwirklicht. Sie dient dort nicht der Signalverbesserung, sondern der unverzerrten Erfassung der Objektgeometrie.
- 3. Besonders hohe Abtastgeschwindigkeiten können beim Einsatz von akustooptischen Modulatoren erreicht werden.
Anstatt den positionsempfindlichen Dioden PSD1 und PSD2 können
auch andere Detktorenarrays eingesetzt werden; z. B. CCD-Zeilen
oder flächige CCD-Bildsensoren.
/l/ K.Leonhardt, K.-H.Rippert und H.J.Tiziani
Mikroprofilometrie zur Bestimmung der Topographie und
Rauheit technischer Oberflächen mittels Heterodyn-Laserinterferometrie.
VDI Berichte NR. 749 (1989) 5.139.
/2/ K.Yoshizumi, T.Murao, J.Masui, R.Imanaka,and Y.Okino,
Ultrahigh accuracy 3-D profilometer,
Apll.Optics, 26 (1987) 1647.
/3/ K.Leonhardt, K.-H.Rippert und H.J.Tiziani
Optische Mikroprofilometrie und Rauheitsmessung, Technisches
Messen tm, 54 (1987) S. 243.
/4/ UB 16 Optisches Präzisions-Längenmeßsystem, Ulrich
Breitmeier Meßtechnik GMBH, Ettlingen
/5/ RM 600 Laser Stylus, Produktinformation, Rodenstock, München
/6/ T.Wilson and C.J.R. Sheppard, Theory and Practice of
Scanning Optical Microscopy, Academic Press, London, 1984.
Claims (8)
1. Optisches Profilometer zur Abtastung von Oberflächen,
gekennzeichnet durch ein adaptives Regelsystem, derart, daß die
Strahlachse des Abtaststrahles stets senkrecht auf dem jeweiligen
Flächenelement beziehungsweise auf der entsprechenden Tangential
ebene des Flächenelementes steht, gekennzeichnet durch ein
geregeltes Verstellelement, das eine laterale Verschiebung der
Strahlenbündels in der Pupille EP bewirkt, wobei die angepaßte
Querverschiebung durch den Vergleich der Fleckposition auf den
beiden poitionsempfindlichen Detektoren PSD1 und PSD2 bestimmt
wird.
2. Optisches Profilometer nach Anspruch 1, gekennzeichnet
dadurch, daß eine interferometrische Heterodyndetektion zur
Anwendung kommt, wobei der Referenzstrahlengang, gebildet durch
den polarisierenden Strahlenteiler PBS1, der Lambda
viertelplatte QWP1 in Diagonalstellung und dem Planspiegel PM,
eine Mode des Lasers führt und der Objektstrahlengang, gebildet
durch die Lambdaviertelplatte QWP2, dem Abtastobjektiv und der zu
messenden Oberfläche die dazu orthogonale Mode und die beiden
Moden durch den neutralen Strahlenteiler NBS und dem
polarisierenden Strahlenteiler PBS2 auf jeweils gesonderte
positionempfindliche Dioden PSD1 und PSD2 geführt werden, die
die Regelsignale für die Querauslenkung liefern.
3. Optisches Profilometer nach Anspruch 1, gekennzeichnet
dadurch, daß die adaptive Neigungsvoreinstellung in einem
photometrischen Profilometer eingesetzt wird, wobei die
Querauslenkung auf dieselbe Weise wie bei Heterodynprofilometer
geschieht und zur Bildung des Regelsignals der direkte Strahl
über den polarisierenden Strahlenteiler PBS direkt auf den
positionsempfindlichen Detektor PD1 geführt wird, während der
Objektstrahl über die Lambdaviertelplatte QWP2, dem Abtastobjek
tiv MO, der zu messenden Oberfläche und dem neutralen Strahlen
teiler auf den positionempfindlichen Detektor PSD2 läuft.
4. Optisches Profilometer nach Anspruch 1, gekennzeichnet
dadurch, daß die Querverschiebung durch einen geregelten Dreh
spiegel SM im Brennpunkt eines Kollimatorobjektives 01 bewirkt
wird.
5. Optisches Profilometer nach Anspruch 1, gekennzeichnet
dadurch, daß die Querverschiebung des Abtaststrahles in der
Pupille durch eine Verschiebelinse erfolgt, deren vordere
Brennebene mit einem Zwischenfokus des Beleuchtungsstrahlenganges
zusammenfällt.
6. Optisches Profilometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß die Querverschiebung in der Pupille durch eine Kippung
einer Planplatte im Parallelstrahlengang des Beleuchtungs
strahlenganges erfolgt.
7. Optisches Profilometer nach Anspruch 1, dadurch gekennzeich
net, daß die Querverschiebung in der Pupille durch akustooptische
Ablenker erfolgt.
8. Optisches Profilometer nach Anspruch 3, dadurch gekennzeich
net, daß die Detektion der Profilhöhe durch die ein Diodenarray
erfolgt, das gegenüber der Fokusebene des detektierten Fokus nach
Bild 3 und Bild 4 defokussiert ist, wobei die Bildung des
Höhensignales nach Gleichung (3) und (4) erfolgt. Die Profilhohe
wird dabei nicht von der Profilsteigung und dem Regelzustand der
adaptiven Neigungsvoreinstellung beeinflußt.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19924218382 DE4218382A1 (de) | 1992-06-04 | 1992-06-04 | Optisches Profilometer zur Rauheitsmessung mit adaptiver Neigungsvoreinstellung und neuartigem Detektionssystem |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19924218382 DE4218382A1 (de) | 1992-06-04 | 1992-06-04 | Optisches Profilometer zur Rauheitsmessung mit adaptiver Neigungsvoreinstellung und neuartigem Detektionssystem |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4218382A1 true DE4218382A1 (de) | 1993-12-09 |
Family
ID=6460348
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19924218382 Withdrawn DE4218382A1 (de) | 1992-06-04 | 1992-06-04 | Optisches Profilometer zur Rauheitsmessung mit adaptiver Neigungsvoreinstellung und neuartigem Detektionssystem |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4218382A1 (de) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0716899A1 (de) * | 1994-12-12 | 1996-06-19 | Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corporation | Laser-Endbearbeitung und -Messung von Diamantoberflächen |
EP0818668A1 (de) * | 1996-07-10 | 1998-01-14 | Compagnie Industrielle Des Lasers Cilas | Vorrichtung zum Bestimmen der Oberflächenform einer Welle, die von einem im wesentlichen flachen Gegenstand reflektiert wird |
US5835219A (en) * | 1996-07-10 | 1998-11-10 | Compagnie Industrielle Des Lasers Cilas | Device for determining the shape of the wave surface transmitted by a substantially parallel-faced transparent component |
DE102016006107A1 (de) * | 2016-05-17 | 2017-11-23 | Technische Universität Ilmenau | Vorrichtung und Verfahren zur konfokalen Vermessung einer Oberflächentopografie |
CN107655459A (zh) * | 2017-09-07 | 2018-02-02 | 南京理工大学 | 一种野外岩石结构面粗糙度的量测及计算方法 |
DE102018202625B4 (de) * | 2017-03-15 | 2020-06-18 | Fanuc Corporation | Messvorrichtung |
CN112325808A (zh) * | 2020-11-03 | 2021-02-05 | 北京石油化工学院 | 一种基于多psd的平面度实时校准补偿测量方法 |
-
1992
- 1992-06-04 DE DE19924218382 patent/DE4218382A1/de not_active Withdrawn
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP0716899A1 (de) * | 1994-12-12 | 1996-06-19 | Saint-Gobain/Norton Industrial Ceramics Corporation | Laser-Endbearbeitung und -Messung von Diamantoberflächen |
EP0818668A1 (de) * | 1996-07-10 | 1998-01-14 | Compagnie Industrielle Des Lasers Cilas | Vorrichtung zum Bestimmen der Oberflächenform einer Welle, die von einem im wesentlichen flachen Gegenstand reflektiert wird |
FR2751070A1 (fr) * | 1996-07-10 | 1998-01-16 | Cilas | Dispositif pour determiner la forme de la surface d'onde reflechie par une piece sensiblement plane |
US5835219A (en) * | 1996-07-10 | 1998-11-10 | Compagnie Industrielle Des Lasers Cilas | Device for determining the shape of the wave surface transmitted by a substantially parallel-faced transparent component |
US5838442A (en) * | 1996-07-10 | 1998-11-17 | Compagnie Industrielle Des Lasers Cilas | Device for determining the shape of the wave surface reflected by a substantially plane component |
DE102016006107A1 (de) * | 2016-05-17 | 2017-11-23 | Technische Universität Ilmenau | Vorrichtung und Verfahren zur konfokalen Vermessung einer Oberflächentopografie |
DE102018202625B4 (de) * | 2017-03-15 | 2020-06-18 | Fanuc Corporation | Messvorrichtung |
DE102018202625B8 (de) * | 2017-03-15 | 2020-09-10 | Fanuc Corporation | Maschinenmessvorrichtung |
CN107655459A (zh) * | 2017-09-07 | 2018-02-02 | 南京理工大学 | 一种野外岩石结构面粗糙度的量测及计算方法 |
CN112325808A (zh) * | 2020-11-03 | 2021-02-05 | 北京石油化工学院 | 一种基于多psd的平面度实时校准补偿测量方法 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
DE3587492T2 (de) | Frequenzmoduliertes Laser-Radar. | |
EP1794540B1 (de) | Optische messvorrichtung zur vermessung von mehreren flächen eines messobjektes | |
EP0438675B1 (de) | Interferometrischer Sensor zur Messung von Abstandsänderungen einer kleinen Fläche | |
DE3110287C2 (de) | ||
DE4108944A1 (de) | Verfahren und einrichtung zur beruehrungslosen erfassung der oberflaechengestalt von diffus streuenden objekten | |
EP0075032B1 (de) | Verfahren zur interferometrischen Oberflächentopographie | |
DE3240234A1 (de) | Oberflaechenprofil-interferometer | |
DE2904836C2 (de) | ||
DE3786468T2 (de) | Verschiebungsmessfühler. | |
DE4218382A1 (de) | Optisches Profilometer zur Rauheitsmessung mit adaptiver Neigungsvoreinstellung und neuartigem Detektionssystem | |
EP0322356A2 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur optischen Distanzmessung | |
EP0725921A1 (de) | Anordnung zur dreidimensionalen vermessung unzugänglicher hohlräume | |
EP1805476B1 (de) | Interferometer mit einer spiegelanordnung zur vermessung eines messobjektes | |
DE112015006912T5 (de) | Optisches Entfernungsmesssystem | |
DE2628836C3 (de) | Optischer Phasendiskriminator | |
DE3226137C2 (de) | ||
EP3742956B1 (de) | Verfahren zur erzeugung eines zweidimensionalen interferogramms mit einem freistrahl-interferometer des michelson-typs | |
DE4017935A1 (de) | Mikro-ellipso-profilometrie | |
DE4233336A1 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Detektion von Fokusablagen | |
DE4138562C2 (de) | Mikroprofilometermeßkopf | |
DE69315680T2 (de) | Interferometrische sonde für abstandsmessung | |
DE4129168C2 (de) | Vorrichtung zur Messung von Verformungen eines Objekts nach dem Prinzip der Speckle-Scher-Interferometrie | |
DE2624295A1 (de) | Interferenzlineal | |
DE19544253B4 (de) | Verfahren zur Dispersionskompensation bei Interferometern mit nicht symmetrisch zum Referenzstrahlengang ausgefühltem Objektstrahlengang | |
DE4024977A1 (de) | Zweistrahlinterferometer mit 2n-fachem uebergang des referenzstrahles ueber das objekt unter einem anpassungswinkel von arc cos (1/(2n)) zur kompensation von fuehrungsfehlern, waermedehnungen und schwingungen |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
ON | Later submitted papers | ||
8181 | Inventor (new situation) |
Free format text: ERFINDER IST ANMELDER |
|
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee | ||
8170 | Reinstatement of the former position | ||
8170 | Reinstatement of the former position | ||
8141 | Disposal/no request for examination | ||
8170 | Reinstatement of the former position | ||
8110 | Request for examination paragraph 44 | ||
8139 | Disposal/non-payment of the annual fee |