DE2628836C3 - Optischer Phasendiskriminator - Google Patents

Optischer Phasendiskriminator

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DE2628836C3 DE19762628836 DE2628836A DE2628836C3 DE 2628836 C3 DE2628836 C3 DE 2628836C3 DE 19762628836 DE19762628836 DE 19762628836 DE 2628836 A DE2628836 A DE 2628836A DE 2628836 C3 DE2628836 C3 DE 2628836C3
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Description

Die Erfindung bezieh! sich auf eine Vorrichtung zum interferometrischen Messen der Dicke oder des Brechungsindexes einer lichtdurchlässigen Schichtprobe, z. B. eines Filmes, eines aufgedampften Filmes oder eines Glas-zu-Glas-lntervalles, gemäß dem Oberbegriff des Patentanspruchs.
In der US-PS 25 18 647 ist bereits eine derartige Vorrichtung zur interferometrischen Messung der optischen Phase beschrieben. Hiernach werden die Wellenfronten, die von beiden Seiten einer von einer weißen Lichtquelle beleuchteten Schicht herrühren, je auf ein Interferometer gerichtet, das eine geneigte durchscheinende Oberfläche und eine ungeneigte reflektierende Oberfläche aufweist, so daß jede der beiden von der Schicht herrührenden Wellenfronten in der Amplitude durch die geneigte durchscheinende Oberfläche aufgeteilt werden, wobei die zwei durch Reflexion aufgeteilten Wellenfronten geneigt und auf eine Interferenzoberfläche gerichtet werden, während die beiden durch Durchlaß geleilten Wellenfronten an der ungeneigten reflektierenden Oberfläche reflektiert und auf die Interferenzoberfläche gerichtet werden, so daß weiße Interferenzmuster auf der Interferenzoberflächc gebildet werden. Sodann wird die Filmdicke anhand des Längenunterschiedes des optischen Weges zwischen den Positionen gemessen, wo die gegenseitig einander verstärkenden Interferenzmuster gebildet sind. Ähnliche Meßmethoden sind aus den US-PS 25 78 859 und 26 55 073 bekannt. Jedoch sind all diese Vorrichtungen von einer Bauart, bei der die Messung der Schichtdicke anhand eines Längenunterschiedes des optischen Weges zwischen Positionen bewirkt wird, wo die sich gegenseitig verstärkenden Interferenzmuster gebildet werden. Dieses ist jedoch für eine Automatisierung der Messung unzweckmäßig.
Eine Vorrichtung, die hier Abhilfe schafft, ist in der US-PS 33 19 515 ( = DE-PS 14 47 253) beschrieben. Bei dieser Vorrichtung werden die Lichtstrahlen, die von einer ersten und zweiten Oberfläche einer von einer breitbandigen Lichtquelle beleuchteten Probe herrühren, auf ein Interferometer, beispielsweise ein Michelson-Interferometer oder dergleichen, gerichtet und einer der beiden Teilstrahlengänge des Interferometers wird innerhalb einer gewissen Spanne in Vibrationen versetzt.
Hierzu wird einer der beiden Spiegel, auf die die beiden vom Strahlteiler des Michelson-Interferometers aufgeteilten Wellenfronten gerichtet sind, innerhalb einer gewissen Spanne in Vibrationen versetzt, um eine ίο optische Weglängendifferenz gegenüber dem anderen Spiegel zu erzeugen. Der während einer solchen Vibration erzeugte Verschiebungsbetrag wird durch die Zeitachse dargestellt und die verstrichene Zeit zwischen dem Zeitpunkt, zu dem die von der Vibration herrührende Interferenzspitze auftritt und dem Zeitpunkt in der Spanne, der der Position entspricht, wo der Spiegel in Ruhe ist, wird gemessen, ebenso die optische Phase als Funktion tier gemessenen verstrichenen Zeit. Diese Vorrichtung ist dadurch gekennzeichnet, daß dort 2i) Zeitspannen gemessen werden und deshalb der vibrierende Spiegel sich zeitlich linear bewegen muß. Ein Spiegel aber, der zeitlich linear vibrieren soll, ist extrem schwierig zu realisieren. Dieses ergibt sich schon aus dem Umstand, daß bei der bekannten Anordnung Jj die Anzahl Impulse gemessen werden, die dem Verschiebungsbetrag des vibrierenden Spiegels entsprechen, und nicht die verstreichende Zeit gemessen wird.
Aufgabe der Erfindung ist es deshalb, eine Vorrichiii tung der eingangs genannten Art zu schaffen, bei der kein schwingender Spiegel verwendet, sondern eine optische Weglängendifferenz erzeugt wird.
Die erfindungsgemäße Lösung dieser Aufgabe ist durch die Merkmale des Patentanspruchs gekennzeich-Γι net.
Bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung findet also im wesentlichen eine Amplitudenteilung zweier Wellenfronten statt, die von den beiden Seiten der Schichtprobe herrühren (mit Hilfe eines Strahlteilers in einem in Interferometer), danach werden zwei der aufgeteilten Wellenfronten gegenüber den beiden anderen Wellenfronten geneigt und gegenseitig überlagert und das Abstandsintervall zwischen den Spitzen des von der Überlagerung herrührenden weißen Interferenzniusters ij mit Hilfe eines Abtasters gemessen.
Die erfindungsgemäße Vorrichtung ist sehr vorteilhaft dahingehend, daß die Spiegel des Interferometers in etwas geneigter Position zueinander fixiert werden können und daß keine Position zueinander fixiert "in werden können und daß keine bewegten Teile wie die Schwingspiegel bekannter Interferometer vorhanden sind.
Nachstehend ist die Erfindung anhand in der Zeichnung dargestellter Ausführungsformen im einzelvj nen beschrieben; es zeigen
Fig. 1 und 2 in schematischer Darstellung des der Erfindung zugrundeliegenden Prinzipes,
Fig. 3 und 4 ein weißes Interferenzmuster bzw. dessen Wellenform,
mi F i g. 5 und 6 in schematischer Darstellung eine erste bzw. zweite Ausführungsform der Erfindung,
F i g. 7 und 8 in schematischer Darstellung eine dritte bzw. vierte Ausführungsform der Erfindung und
Fig. 9 und 10 in schematischer Darstellung eine fünfte Ausführungsform der Erfindung.
Entsprechend F i g. 1 beleuchtet das von einer Quelle 1 für breitbandiges weißes Licht herrührende Lichtstrahlenbündel 2 eine < messende Probe 3. Das
Lichtstrahlenbündel 2 erzeugt ein an der ersten reflektierenden Oberfläche der Probe 3 reflektiertes Lichtstrahlenbündel 5 und ein unter entsprechender Brechung in die Probe eintretendes und dort an der zweiten reflektierenden Probenoberfläche reflektiertes Lichtstrahienbündel 4. Das Strahlenbündel 4 tritt aus der Probe erneut unter entsprechender Brechung aus, um ein parallel zum reflektierten Lichtstrahlenbündel 5 verlaufendes Lichtstrahlenbündel 6 zu erzeugen. Hie Probe habe die Dicke d, einen Brechungsindex n, und der Einfallswinkel des Lichtstrahlenbündels an der zweiten reflektierenden Oberfläche sei Φ. Dann wird ein Abstand von 2nd ■ cc? Φ zwischen den Lichtstrahlenbündeln 5 und 6 erzeugt Diese beiden Strahlen treten in ein sog. Michelson-Interferometer ein, das aus einem Strahlteiler 7, Spiegeln 9 und 11 und einer Linse 12 aufgebaut ist, wo die Strahlenbündel am Strahlteiler 7 in der Amplitude aufgeteilt werden, um zu Strahlenbündeln 8 bzw. 10 zu führen. Das Strahlenbündel 8 wird am Spiegel 9 reflektiert und geht erneut durch den Strahlteiler 7 und weiter durch die Linse 12 zu einem Schirm 13. Das andere Lichtstrahlenbündel 10 wird am Spiegel 11 reflektiert und am Strahlteiler 7 erneut reflektiert, um ebenfalls über die Linse 12 auf den Schirm 13 zu gelangen. Es sei angenommen, daß der Spiegel 11 gegenüber dem Spiegel 9 geneigt ist.
Fig. 2 zeigt ein virtuelles Bild 11' des Spiegels Il gegenüber dem Strahlteiler und dem Spiegel 9'. In dieser Fig.2 sind die beiden Spiegel gleichfalls gegeneinander geneigt. Es sei angenommen, daß zwei Lichtstrahlenbündel 5' und 6', die gegenseitig außer Phase sind, in dieses Spiegelsystem eintreten; dann sind die zur Interferenz beitragenden Komponenten die Reflexion des Lichtstrahlenbündels 6' am Spiegel 11' und die Reflexion des Lichtstrahlenbündels 5' am Spiegel 9', und am Schnittpunkt 14 entsteht ein weißes Interferenzmuster der beiden Reflexionen. Mit parallel zum Spiegel 9' angeordneter x-Achse ist die Position, wo das weiße Interferenzmuster lokalisiert ist, an einer Stelle gelegen, die etwa um nd ■ cos Φ/tan Θ vom Schnittpunkt 15 zwischen den Spiegeln 9' und W entfernt gelegen ist. Diese Stelle ist dargestellt durch
χ = nd ■ cos Φ/tan Θ .
Zusätzlich zu diesem weißen Interferenzmuster wird ein von den Lichtstrahlen 5' und 6' selber herrührendes weißes Interferenzmuster in der Nachbarschaft des Schnittpunktes lüi an der Stelle
x= -nd ■ cos Φ/tan Θ
erzeugt, die richtungsmäßig gegenüber dem Schnittpunkt 15 entgegengesetzt ist (siehe F i g. 3). Sonach fokussiert die in Fig. 1 dargestellte Linse 12 diese lokalisierten weißen Interferenzmuster auf den Schirm 13. Hat die Linse 12 die Vergrößerung Ix, dann können die auf den Schirm 13 projizierten Interferenzmuster in der in Fig. 3 dargestellten Weise beobachtet werden. Die Lichtintensitätsverteilung in Richtung der x-Achse kann in einem solchen Fall wiedergegeben werden mit
I(x) = J i(k) ■ cos2 (knd ■ cos«.'" cos? (kx tan Θ) ■ dk,
wobei i(k) erhältlich ist durch Multiplikation der spektralen Verteilung der Lichtquelle mit der spektralen Empfindlichkeit des Beobachtungssystems und der spektralen Durchlässigkeit des optischen Systems, und wobei k die Anzahl der Wellen ist. Eine typische Form einer solchen Lichtintensitätsverteilung ist in Fig. 4 dargestellt. Es sei angenommen, daß die bei x = 0 erzeugte weiße Interferenzspitze als die mittlere Spitze, die bei
χ = nd ■ cos Φ/tan θ
erzeugte weiße Interferenzspilze als eine erste Seitenspitze und die bei
v= —nd ■ cos Φ/tan θ
erzeugte weiße Interferenzspitze als eine zweite Seitenspitze definiert sind. Dann kann die Größe
nd - cos Φ/tan θ
erhalten werden durch Bestimmen des Abstandes von dem Punkt, an dem die mittlere Spitze erzeugt wird, bis zu dem Punkt, an dem die erste oder zweite seitliche Spitze erzeugt wird, oder durch Bestimmen des Abstandes von dem Punkt, an dem die erste seitliche Spitze erzeugt wird, bis zu dem Punkt, an dem die zweite seitliche Spitze erzeugt wird, oder durch Bestimmen des Abstandes von einem vorbestimmten Bezugspunkt auf der x-Achse bis zu dem Punkt, wo die erste oder die zweite Seitenspitze erzeugt wird Damit kann durch Einsetzen des Wertes des Brechungsindexes η der Probe in
nd · cos Φ/tan θ
die Dicke c/der Probe gemessen werden.
Sollte der Brechungsindex η der Probe gleichfalls unbekannt sein, so ist es möglich, den Brechung'index n und die Dicke d der Probe durch individuelles zweimaliges Messen unter einem Projektionswinkel Φ auf die Probe, beispielsweise für Φ = 0ς und Φ =45-, zu bestimmen.
In Fig. 1 weist die zu messende Probe zwei reflektierende Oberflächen auf; hat jedoch eine Probe mehr als zwei reflektierende Oberflächen, d. h. umfaßt sie mehrere Schichten, dann wird, wenn genügend Licht an jeder der reflektierenden Oberflächen reflektiert wird, ein weißes Interferenzmuster an einer Stelle erzeugt, die der Dicke einer jeden Schicht entspricht. Hierdurch ist es möglich, die Dicke einer jeden Schicht zu messen.
Auch bei einer doppelbrechenden Substanz kann die Verzögerung zwischen den die Substanz durchlaufenden P-polarisierten und S-polarisierten Lichtstrahlenbündeln in der beschriebenen Weise gemessen werden.
Zum Feststellen und Ausmessen des auf den Schirm projizierten, räumlich erzeugten weißen Interferenzmusters kann eine eindimensionale Photodiodenanordnung an der Position des Schirms parallel zu dessen v-Achse angeordnet und aufeinanderfolgend abgetastet werden. Aus dem weißen Interferenzmuster, das in der Zeitachse auseinandergezogen ist, wird so die Dicke eier Probe aus dem Zeitintervall bei der Abtastung der Interferenzspitzen erhalten. Die Verwendung einer Photodiodenanordnung ist hinsichtlich der Linearität viel besser als bei bekannten Verfahren, da es dort schwierig ist. bewegliche Spiegel guter Linearität und guten Impulses zu erhalten, die jeden der Teilstrahlengänge des Interferometers verändern. Die Auswertung des weißen Interferenzmusters kann auch unter Verwendung einer Fcrnsehbildaufnahmeröhre bewerkstelligt werden, die dieselbe Funktion wie die Photodiodenanordnung hat. Alternativ kann das weiße Interferenzmuster durch Drehung oder Schwenkung eines drehbaren Spiegels 16 um eine Achse 17 festgestellt werden, wie dies bei 18 in Fig. 5 angedeutet ist, und mit Hilfe einer Nadellochblende 19 und eines Photodetektors 20. In diesem Fall
kann eine größere Lichtmenge erhalten werden, wenn für die Nadellochblende 19 ein Spalt benutzt wird.
Weiterhin kann wie in F i g. 6 ein Nadelloch oder ein Spalt 21 in Richtung des Doppelpfeils 23 bewegt werden und kann die Vt teilung des weißen Interferenzmusters am Photodetektn 22 festgestellt werden.
Bei jeder der vorstehend beschriebenen Feststellmethoden für das weiße Interferenzmuster wird dieses eindimensional erzeugt und im Hinblick hierauf kann eine zylindrische Linse mit der Linse 12 kombiniert werden, um eine größere Lichtmenge zu erhalten. Ein optisches System, bei dem eine solche zylindrische Linse benutzt ist, ist in F i g. 7 dargestellt.
Das von einer Lichtquelle 101 ausgehende Lichistrahlenbündel wird für eine Probe über eine bilderzeugende Linse 102 konzentriert und das an der Probe reflektiene Lichtstrahlenbündel wird durch eine Linse 104 im wesentlichen kollimiert und auf ein Interferometer 105 des Neigungstyps gerichtet. Das in der Nachbarschaii des geneigten Spiegels des Interferometers erzeugte weiße Interferenzmuster wird auf eine eindimensionale Photodiodenanordnung durch ein anamorphotisch^ System 106, 107 abgebildet. In diesem Fall wird durch Kürzermachen der Brennweite der Zylinderlinse 107, die in der zur Richtung der Diodenanordniing senkrechten Richtung Abbildungsfunktion hat, gegenüber der Brennweite der Zylinderlinse 106. die ihre Abbildungsfunktion in Richtung der Photodiodenanordnung 108 hat, die Längsvergrößerung des weißen Interferenzmusters nach F i g. 3 im Vergleich zur seitlichen Vergrößerung reduziert, um dadurch das Licht des weißen Interferenzmusters auf die Oberfläche der eindimensionalen Photodiodenanordnung wirksam richten zu können.
Das Interferometer ist zwar als Michelson-Interferometer beschrieben worden, es kann aber auch ein Mach-Zehnder-Interferometer oder dergleichen ebenfalls verwendet werden. Analog zu diesen Imerferometern kann auch ein optisches System mit einem Wollaston-, Rochon- oder Senarmont-Prisma verwendet werden. F i g. 8 zeigt eine Ausführungsform mit einem Wollaston-Prisma 54, 55. letzteres kann hergestellt werden durch Schneiden eines doppelbrechenden Materials, z. B. eines geeigneten Kristalles. in einem Teilstück 54. dessen optische Achse senkrecht zur Papierebene orientiert ist, und ein Teilstück 55. dessen optische Achse entsprechend dem dargestellten Doppelpfeil parallel zur Papierebene verläuft, wonach dann diese beiden Teilstücke 54, 55 zusammengeklebt werden. Vor dem Wollaston-Prisma befindet sich ein Polarisator 53, dessen Polansationsrichtung einen Winkel von 45C mit den optischen Achsen der Kristalle 54 und 55 bildet. Ein nachgeschalteter Analysator 56 ist vorgesehen, um eine parallele oder gekreuzte Nicol-Anordnung mit dem Polarisator zu bilden. Wenn die Wellenfront 51 des an der Oberfläche der Probe 3 reflektierten Lichtstrahlenbündel 5 und die Wellenfront 52 des an der Rückseite der Probe refk iierten urui irr, optischen Weg um 2nd ■ cos Φ verzöge, ten Lichtstrahlenbündels 6 auf das optische System einfallen, werden die Wellenfronten 51 und 52 durch das Wollaston-Prisma 54, 55 je in zwei Wellenfronten aufgespalten, während gleichzeitig die Wellenfronten geneigt werden, um dadurch Wellenfronten 51', 52' und 51", 52" zu erzeugen. Es sei angenommen, daß die y-Achse, wie in Fig. 8 bei 62 dargestellt, ihren Ursprung auf einer Ebene hat, in der die Dicken der Prismen 54 und 55 gleich sind. Die optische Weglängendifferenz, die zwischen den Wellenfronten 5Γ und 52' erzeugt wird, ist gegeben durch
2(nc-no)y ■ tan θ ,
■> wobei n„ und ne die Brechungsindices der doppelbrechenden Substanz für den ordentlichen bzw. außerordentlichen Strahl bedeuten. Die Wellenfronten 5Γ und 51" sowie die Wellenfronten 52' und 52" interferieren gegenseitig in der Nachbarschaft des Punktes 58 (y=0)
ι» und liefern die mittlere Interferenzmusterspitze. Die Wellenfronten 5Γ und 52" interferieren gegenseitig in der Nähe des Punktes 57, und die Wellenfronten 52' und 51" interferieren gegenseitig in rler Nähe des Punktes 59. Diese Interferenzen erzeugen jeweils Seitenspitzen
!■'> des Interferenzmusters. Diese linden an einer Stelle statt, wo 2nd ■ cos Φ ungefähr gleich
2(nt— no) y - tan θ
ist, d. h. in der Nachbarschaft von
V = nd ■ cos Φ{η^—πο) tan Θ .
Die weißen Interferenzmuster sind in der Nähe de; Wollaston-Prismas vorhanden; daher fokussiert die Linse 69 diese Muster auf einen Photodetektor 61
2'~ beispielsweise eine Photodiodenanordnung.
Wenn das Wollaston-Prisma aus Kristallen aufgebaui wird, dann kann die Dicke der zu messenden Probe ir der Größenordnung von 2 mm liegen, um einer Neigungsgrad von einigen Winkelminuten für die
jii Weüenfrontcn zu erzeugen, was zu einem kompakter Aufbau des Interferometers führt. Ein mit einen Woilaston-Prisma arbeitendes Interferometer hat zahl reiche Vorteile gegenüber einem Micheison-interfero meter: Die Neigungen der Wellenfronten könner
ί j während der Herstellung des Prismas bestimml werden so daß die Notwendigkeit der Einstellung dei Spiegelneigung während des Aufbaues eines Michelson Interferometers ..ntfällt; außerdem treten keine Verän derungen mit der Zeit auf und der Aufbau ist äußers
■"> kompakt.
Bei der Ausführungsform nach Fig. 7. bei der eint eindimensionale Photodiodenanordnung 108 verwende wird, ist ein optisches System zu Reduzierung de! weißen Interferenzmusters in der zur Richtung dei
4> Diodenanordnung senkrechten Richtung benutzt, urr die Lichtmengen wirksam auszunutzen, jedoch ist eir
hierzu zu verwendendes anamorphotisch es System 1Oi üblicherweise mit größeren Linsenfehlern behaftet.
Fig. 9. 10a und 1 Ob zeigen ein weiteres Ausführungs
w beispiel des optischen Systems, mit dem die Lichtmenge des Interferenzmusters wirksam auf die eindimensionale Photodiodenanordnung 122 gerichtet werden kann Fig. 10a zeigt eine linearisierte Schnittansicht de: Systemstrahlenganges und Fig. 10b eine linearisierte
ς? Draufsicht hierauf. Das von einer Quelle 110 für weiße: Licht herrührende Lichtstrahlenbündel wird von eine: Linse 111 im wesentlichen kollimiert und soJann in Bündeldurchmesser durch ein afokales Zylinderlinsen system 112, 113 vertikal komprimiert, ui. eine
bo Spaltöffnung 114 auszuleuchten. Das die Spaltöffnung 114 passierende parallele Lichtstrahlenbündel wire durch eine Polarisatorplatte 115 geschickt und durcl eine Linse 116 auf die Probenoberfläche 117 konzen triert.
h5 Bei der Erfindung braucht zwar das Licht nicht immei auf die Probenoberfläche konzentriert werden, jedocl ist eine solche Lichtkonzentration von Vorteil, wenn die Oberflächenbeschaffenheit der Probe ungünstig ist, di
hierdurch der Einfluß der Probenoberflächenbeschaffenheit verringert und das Nutz/Störsignal-Verhältnis im Ausgangssignal der Diodenanordnung verbessert wird.
Das an der Probe 117 reflektierte Lichtstrahlenbündel wird über eine Linse 118 auf ein Neigungstyp-Interferometer 119 gerichtet, z. B. ein Wollaston-Prismeninterferometer. Die Umgebung des Zentrums des Wollaston-Prismas 119 und der Spaltöffnung 114 sind zueinander konjugiert derart, daß das Bild der Spaltöffnung in der Nähe des Zentrums des Wollaston-Prismas erzeugt wird. Da ein weißes Interferenzmuster im Lichtstrahlenbündel des Bildes der Spaltöffnung in der Nähe des Zentrums des Wollaston-Prismas 119 erzeugt wird, wird dieses Interferenzmuster über eine polarisierende Platte 120 auf die eindimensionale Photodiodenanordnung 122 mit Hilfe einer bilderzeugenden Linse 121 projiziert. Da das Bild der Spaltöffnung 114 gleichfalls auf der Photodiodenanordnung 122 erzeugt wird, kann die Lichtmenge des weißen Interferenzmusters auf die
Photodiodenanordnung ohne Verlust gerichtet werden, wenn die Größe des Spallöffnungsbildes kleiner als die Größe der Lichtempfangsfläche der Photodiodenanordnung 122 gemacht wird.
Bei dieser Ausführiingsforiii, bei der das weiße Interferenzmuster auf die Photodiodenanordnung 122 mit Hilfe eines üblichen bilderzeugenden Linsensystems 121 gerichtet wird, ist der Einfluß von Verzeichnungen und ähnlichen Linsenfehlern kleiner als bei der vorigen Ausführiingsforiii, bei der ein anamorphotisches Linsensystem benutzt wird.
Die Richtung der Ablenkung der polarisierenden Platte 115 bildet bei der Ausführungsform gemäß Fig. 9, 10a, 10b einen Winkel von 45° zur optischen Achse des Woilaston-Prismas 114.
Zwar ist bei allen Ausfühnmgsbeispielen der Erfindung für die Lichtquelle eine Quelle weißen Lichtes benutzt worden, aber auch jede andere Quelle für sichtbares oder unsichtbares Licht ist in gleicher Weise brauchbar, sofern sie ausreichend breitbandig ist.
Hierzu 6 Blatt Zeichnungen

Claims (1)

  1. Patentanspruch:
    Vorrichtung zum interferometrischen Messen der Dicke oder des Brechungsindex einer lichtdurchlässigen Schichtprobe, bei der die von einer ersten und einer zweiten Oberfläche der von einer breitbandigen Lichtquelle beleuchteten Schichtprobe herrührenden Wellenfronten auf ein Interferometer gerichtet und von einem im Interferometer vorgesehenen Strahlteiler geteilt werden, wobei oder wonach zwei der Teilwellenfronten gegenüber den anderen beiden Teilwellenfronten geneigt und je einander zur Bildung eines Interferenzmusters überlagert werden und das Interferenzmuster ausgewertet wird, dadurch gekennzeichnet, daß das der Probendicke entsprechende Abstandsintervall zwischen einem vorbestimmten Punkt und einer der Spitzen des Interferenzmusters durch Abtasten des [nterferenzmusters mit einem Abtasier(61,108,122) bestimmt wird.
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