DE4212077A1 - Piezoelektrisch verstellbares Ventil und Verfahren zu ihrer Herstellung - Google Patents

Piezoelektrisch verstellbares Ventil und Verfahren zu ihrer Herstellung

Info

Publication number
DE4212077A1
DE4212077A1 DE19924212077 DE4212077A DE4212077A1 DE 4212077 A1 DE4212077 A1 DE 4212077A1 DE 19924212077 DE19924212077 DE 19924212077 DE 4212077 A DE4212077 A DE 4212077A DE 4212077 A1 DE4212077 A1 DE 4212077A1
Authority
DE
Germany
Prior art keywords
gap
cutting
split
wafer
cutting edge
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
DE19924212077
Other languages
German (de)
English (en)
Other versions
DE4212077C2 (https=
Inventor
Eike Wehrsdorfer
Joerg Dr Fuchs
Wolfgang Prof Karthe
Thomas Martin
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Original Assignee
Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV filed Critical Fraunhofer Gesellschaft zur Foerderung der Angewandten Forschung eV
Priority to DE19924212077 priority Critical patent/DE4212077A1/de
Priority to EP19930105722 priority patent/EP0565069B1/de
Priority to DE59303050T priority patent/DE59303050D1/de
Publication of DE4212077A1 publication Critical patent/DE4212077A1/de
Application granted granted Critical
Publication of DE4212077C2 publication Critical patent/DE4212077C2/de
Granted legal-status Critical Current

Links

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J37/00—Discharge tubes with provision for introducing objects or material to be exposed to the discharge, e.g. for the purpose of examination or processing thereof
    • H01J37/02—Details
    • H01J37/04—Arrangements of electrodes and associated parts for generating or controlling the discharge, e.g. electron-optical arrangement or ion-optical arrangement
    • H01J37/09—Diaphragms; Shields associated with electron or ion-optical arrangements; Compensation of disturbing fields
    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01J—MEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00—Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/02—Details
    • G01J3/04—Slit arrangements slit adjustment
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/005—Diaphragms
    • G—PHYSICS
    • G21—NUCLEAR PHYSICS; NUCLEAR ENGINEERING
    • G21K—HANDLING OF PARTICLES OR IONISING RADIATION NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; IRRADIATION DEVICES; GAMMA RAY OR X-RAY MICROSCOPES
    • G21K1/00—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating
    • G21K1/02—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators
    • G21K1/04—Arrangements for handling particles or ionising radiation, e.g. focusing or moderating using diaphragms, collimators using variable diaphragms, shutters, choppers

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Engineering & Computer Science (AREA)
  • High Energy & Nuclear Physics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Analytical Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Micromachines (AREA)
DE19924212077 1992-04-10 1992-04-10 Piezoelektrisch verstellbares Ventil und Verfahren zu ihrer Herstellung Granted DE4212077A1 (de)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19924212077 DE4212077A1 (de) 1992-04-10 1992-04-10 Piezoelektrisch verstellbares Ventil und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP19930105722 EP0565069B1 (de) 1992-04-10 1993-04-07 Verstellbare Blende und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE59303050T DE59303050D1 (de) 1992-04-10 1993-04-07 Verstellbare Blende und Verfahren zu ihrer Herstellung

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
DE19924212077 DE4212077A1 (de) 1992-04-10 1992-04-10 Piezoelektrisch verstellbares Ventil und Verfahren zu ihrer Herstellung

Publications (2)

Publication Number Publication Date
DE4212077A1 true DE4212077A1 (de) 1993-10-14
DE4212077C2 DE4212077C2 (https=) 1994-01-27

Family

ID=6456545

Family Applications (2)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE19924212077 Granted DE4212077A1 (de) 1992-04-10 1992-04-10 Piezoelektrisch verstellbares Ventil und Verfahren zu ihrer Herstellung
DE59303050T Expired - Lifetime DE59303050D1 (de) 1992-04-10 1993-04-07 Verstellbare Blende und Verfahren zu ihrer Herstellung

Family Applications After (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
DE59303050T Expired - Lifetime DE59303050D1 (de) 1992-04-10 1993-04-07 Verstellbare Blende und Verfahren zu ihrer Herstellung

Country Status (2)

Country Link
EP (1) EP0565069B1 (https=)
DE (2) DE4212077A1 (https=)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7324253B2 (en) 2002-09-24 2008-01-29 Carl Zeiss Jena Gmbh Installable pinhole
DE102012208710B3 (de) * 2012-05-24 2013-09-19 Incoatec Gmbh Verfahren zur Herstellung einer einkristallinen Röntgenblende und Röntgenanalysegerät mit einkristalliner Röntgenblende

Families Citing this family (13)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
ES2091521T3 (es) * 1993-06-09 1996-11-01 Hewlett Packard Gmbh Componente optico ajustable.
DE19902624A1 (de) * 1998-01-29 1999-09-30 Leica Microsystems Optische Anordnung zum spektralen Auffächern eines Lichtstrahls
DE19815080C1 (de) * 1998-04-06 1999-09-09 Inst Physikalische Hochtech Ev Anordnung zur Erhöhung der spektralen Ortsauflösung eines Spektrometers
AU4668901A (en) * 2000-04-05 2001-10-15 Nortel Networks Limited Variable optical attenuator
GB0110218D0 (en) * 2001-04-26 2001-06-20 Renishaw Plc Optical slit
DE10323922A1 (de) 2003-05-22 2004-12-16 Carl Zeiss Jena Gmbh Einstellbares Pinhole
DE10323923A1 (de) * 2003-05-22 2004-12-16 Carl Zeiss Jena Gmbh Einstellbares Pinhole, insbesondere für ein Laser-Scanning-Mikroskop
DE10345782A1 (de) * 2003-10-01 2005-04-21 Zeiss Carl Sms Gmbh Variabler Abschwächer
DE102004005390A1 (de) * 2004-02-04 2005-08-25 Carl Zeiss Jena Gmbh Verstellbare optische Spaltblende
DE102005028208A1 (de) 2005-06-17 2006-12-28 Siemens Ag Strahlenblende für eine Röntgeneinrichtung
EP1916694A1 (en) * 2006-10-25 2008-04-30 ICT, Integrated Circuit Testing Gesellschaft für Halbleiterprüftechnik Mbh Adjustable aperture element for particle beam device, method of operating and manufacturing thereof
FR2959344B1 (fr) * 2010-04-26 2013-03-22 Commissariat Energie Atomique Dispositif optique pour analyser un echantillon par diffusion d'un faisceau de rayon x, dispositif de collimation et collimateur associes
CN104964743B (zh) * 2015-06-08 2017-06-23 浙江海洋学院 小型棱镜摄谱仪的新型入射狭缝装置

Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2964998A (en) * 1958-10-03 1960-12-20 Fred J Middlestadt Precision light aperture arrangement
GB1248825A (en) * 1968-08-14 1971-10-06 Hermann Wollnik Temperature-controlled orifice or slit for optical, ion-optical and electron-optical instruments
US4318023A (en) * 1980-02-21 1982-03-02 Physics International Company Sagittally amplified piezoelectric actuator
US4880294A (en) * 1987-02-27 1989-11-14 Stitchting Voor De Techische Wetenschappen Continuously variable microdiaphragm
DE3914031A1 (de) * 1989-04-28 1990-10-31 Messerschmitt Boelkow Blohm Mikromechanischer aktuator

Family Cites Families (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP0276337B1 (de) * 1987-01-24 1989-11-29 Dr.-Ing. Rudolf Hell GmbH Blendenanordnung zur optoelektronischen Abtastung von Vorlagen
EP0344515A3 (de) * 1988-05-31 1991-01-30 Siemens Aktiengesellschaft Verfahren zur Herstellung einer Strahlformblende für ein Lithographiegerät
DE4110839A1 (de) * 1991-04-04 1992-10-08 Zeiss Carl Fa Praezisionsspalt einstellbarer breite

Patent Citations (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US2964998A (en) * 1958-10-03 1960-12-20 Fred J Middlestadt Precision light aperture arrangement
GB1248825A (en) * 1968-08-14 1971-10-06 Hermann Wollnik Temperature-controlled orifice or slit for optical, ion-optical and electron-optical instruments
US4318023A (en) * 1980-02-21 1982-03-02 Physics International Company Sagittally amplified piezoelectric actuator
US4880294A (en) * 1987-02-27 1989-11-14 Stitchting Voor De Techische Wetenschappen Continuously variable microdiaphragm
DE3914031A1 (de) * 1989-04-28 1990-10-31 Messerschmitt Boelkow Blohm Mikromechanischer aktuator

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7324253B2 (en) 2002-09-24 2008-01-29 Carl Zeiss Jena Gmbh Installable pinhole
US7400433B2 (en) 2002-09-24 2008-07-15 Carl Zeiss Microimaging Gmbh Installable pinhole
DE102012208710B3 (de) * 2012-05-24 2013-09-19 Incoatec Gmbh Verfahren zur Herstellung einer einkristallinen Röntgenblende und Röntgenanalysegerät mit einkristalliner Röntgenblende
US9279776B2 (en) 2012-05-24 2016-03-08 Incoatec Gmbh X-ray analysis apparatus with single crystal X-ray aperture and method for manufacturing a single crystal X-ray aperture

Also Published As

Publication number Publication date
DE4212077C2 (https=) 1994-01-27
EP0565069A1 (de) 1993-10-13
DE59303050D1 (de) 1996-08-01
EP0565069B1 (de) 1996-06-26

Similar Documents

Publication Publication Date Title
DE4212077A1 (de) Piezoelektrisch verstellbares Ventil und Verfahren zu ihrer Herstellung
EP0275338B1 (de) Biegefedergelenk und Verfahren zu seiner Herstellung
DE60317156T2 (de) Aktuator und dessen Herstellungsverfahren
DE602004008534T2 (de) Mikropositioniervorrichtung sowie Verfahren zur Kompensation von Position/Orientierung eines Werkzeuges
WO2002093257A2 (de) Projektionsbelichtungsanlage der mikrolithographie,
EP0927376A1 (de) Verfahren zur herstellung eines lichtleiterschalters und lichtleiterschalter
EP2422364B1 (de) Vorrichtung zur ausrichtung und vorfixierung eines wafers
DE4134291C2 (https=)
AT500075B1 (de) Vorrichtung und verfahren zum verbinden von wafern
EP0094635A1 (de) Piezoelektrisches Stellglied
DE3615930C2 (https=)
DE69219843T2 (de) Verfahren zur Kopplung einer optischen Faser an einen optischen Wellenleiter und die so hergestellte mikromechanische Koppelvorrichtung
DE4338433C2 (de) Mikro-Betätigungsglied und Verfahren zu dessen Herstellung
DE69204882T2 (de) Treibergerät für Weglängenkontrolle.
DE3032997A1 (de) Steuerbarer spiegel
EP0134268B1 (de) Justier- oder Positioniertisch und Verfahren zu dessen Herstellung
DE102007030579A1 (de) Lateral verstellbare Fassung für optische Elemente
EP1050070B1 (de) Belichtungsanlage mit halteeinrichtung für ein substrat
AT505195B1 (de) Vorrichtung zum übertragen von in einer maske vorgesehenen strukturen auf ein substrat
WO2002093228A2 (de) Positioniereinrichtung
EP0418250B1 (de) Mikromanipulator zur bewegung von objekten
EP1882960A2 (de) Einstellbares Pinhole
DE102023202339A1 (de) Adaptives optisches Element mit Einführelement
DE69126738T2 (de) Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung einer Röntgenmaske
DE69219842T2 (de) Verfahren zur Positionierung eines ersten Substrats auf ein zweites und so hergestellte mikromechanische Positioniervorrichtung

Legal Events

Date Code Title Description
OP8 Request for examination as to paragraph 44 patent law
D2 Grant after examination
8380 Miscellaneous part iii

Free format text: DIE BEZEICHNUNG IST ZU AENDERN IN: VERSTELLBARE BLENDE UND VERFAHREN ZU IHRER HERSTELLUNG

8364 No opposition during term of opposition
8339 Ceased/non-payment of the annual fee