DE4209056A1 - Verfahren und vorrichtung zur physikalisch-chemischen abwasserreinigung mittels elektronenbestrahlung - Google Patents

Description

Die vorliegende Erfindung betrifft ein Verfahren und eine Vor­ richtung zur physikalisch-chemischen Abwasserreinigung mittels Elektronenbestrahlung.

Es ist bekannt, hochbelastete und toxische Abwässer aus Gewerbe- und Industriebetrieben sowie z. B. Sickerwässer aus Abfalldeponien vor der biologischen Reinigung einer physikalisch-chemischen Behandlung mit Ozon zu unterziehen. Desweiteren wird in Erweite­ rung dieser Ozonbehandlung vorgeschlagen, das Abwasser vor, während und/oder nach der Ozonbehandlung mit energiereicher UV- Strahlung zu bestrahlen. Hierdurch wird eine verbesserte Abwasser- Konditionierung für die Ozon-Behandlung, eine verstärkte Desin­ fektion und ein schnellerer und höherer Abbau auch stabilerer organischer Verbindungen erreicht.

Zum wirtschaftlichen Betreiben solcher physikalisch-chemischen Abwasserreinigungsverfahren ist ein möglichst hoher Wirkungsgrad bei der elektrischen Erzeugung von Ozon und UV-Strahlung anzu­ streben.

Die herkömmliche Ozon- und/oder UV-Behandlung arbeitet insoweit noch unvollkommen, als die Erzeugung von Ozon aus Luft eine auf­ wendige Vorbehandlung zur hinreichenden Trocknung der Luft voraussetzt und einen spezifischen Energiebedarf von nicht unter 15 kWh/kg Ozon im Konzentrationsbereich von 30 bis 60 g/m³ aufweist sowie die Erzeugung energiereicher UV-Strahlung auch mit Hoch- und Mitteldruck-Quarzstahlern keinen besseren Wirkungsgrad als 10 bis 17% aufweist. Hinzu kommt, daß die Eindringtiefe der erzeugten UV-Strahlung in gefärbtem, hochbelastetem Abwasser nur gering ist und so nur sehr geringe Schichtdicken wirksam bestrahlt werden können.

Für die Investitionskosten und die Betriebssicherheit einer kombinierten Ozon- und UV-Behandlung ist es weiterhin nachteilig, daß der Ozon-Generator und die UV-Lampen zwei völlig verschiedene Systeme darstellen, die sowohl zwei verschiedene Stromversorgungen (Netzteile) als auch zwei verschiedene Reaktoren benötigen, die sich bezüglich ihrer praktischen Betriebsdaten (Erwärmung, Alte­ rung, Verschmutzung, Wartung) auch sehr unterschiedlich verhalten. Die UV-Quarzlampen müssen nach etwa 1000 bis 2000 Betriebsstunden ausgewechselt werden. Infolge ihres Quecksilberinhalts stellen sie ein Entsorgungsproblem dar.

Es ist ferner ein Verfahren zur Elektronenbestrahlung von Klär­ schlamm bekannt, bei dem man zwecks besserer Verteilung der im Klärschlamm gebildeten Radikale den Klärschlamm während der Bestrahlung durchmischt.

Ausgehend von diesem Stande der Technik liegt der vorliegenden Erfindung die Aufgabe zugrunde, ein Verfahren und eine Vorrichtung zur Verfügung zu stellen, die es gestattet, eine physikalisch- chemische Abwasserreinigung mit Ozon und direkter Abwasserbe­ strahlung möglichst effizient durchzuführen.

Gelöst wird diese Aufgabe dadurch, daß man die bei der Elektro­ nenbestrahlung des Abwassers in der darüber befindlichen Luft gebildeten geringen Ozonmengen zur Begasung des Abwassers nutzt, indem man nicht mehr wie beim Stande der Technik mit einem stationären Gaspolster über dem zu bestrahlenden Gut arbeitet, sondern eine grobe Luftmenge während der Bestrahlung des Abwassers über das Abwasser hinwegführt und dann die ozonhaltige Luft mit dem zu reinigenden Abwasser zusammenführt.

Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist somit ein Verfahren, zur physikalisch-chemischen Abwasserreinigung mittels Elektronen­ bestrahlung, das dadurch gekennzeichnet ist, daß man einen Sauerstoff enthaltenden Gasstrom und gleichzeitig dabei zumindest einen Teilstrom des zu reinigenden Abwassers einer Elektronenbe­ strahlung unterwirft und dann den nach der Elektronenbestrahlung ozonhaltigen Gasstrom mit dem zu reinigenden Abwasser in innige Berührung bringt.

Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ferner eine Vorrichtung zur Durchführung des vorstehend angegebenen Verfahrens, die gekennzeichnet ist durch einen Elektronenstrahler und Einrich­ tungen, die es gestatten, gleichzeitig das zu reinigende Abwasser und einen im Kreislauf geführten Gasstrom an dem Elektronenaus­ trittsfenster des Elektronenstrahlers vorbeizuführen sowie Ein­ richtungen, mit denen es möglich ist, den ozonhaltigen Gasstrom mit dem zu reinigenden Abwasser in innige Berührung zu bringen.

Die Besonderheit des Anmeldungsgegenstandes liegt darin, daß mit einem Elektronenstrahl Ozon in einem geringen Konzentrations­ bereich spezifisch wirtschaftlicher hergestellt werden kann, gegenüber den klassischen Ozongeneratoren. Der Unterschied liegt ca. beim Faktor 10-100. Ausgeglichen wird dies durch eine höhere Gasströmung, die darüberhinaus im Falle der Abwasserbehandlung mit Gas weitere Vorteile bringt. Ein wichtiges Erfindungsmerkmal ist somit die niedrige O₃-Konzentration und dadurch der relativ hohe Wirkungsgrad der O₃-Erzeugung.

Außerdem wird auf folgendes hingewiesen:

• - Das Verfahren ist insbesondere als chemische Vorbehandlung vor einer biologischen Stufe der Wasserreinigung gedacht.
• - Das Verfahren arbeitet ohne Aktivkohle.
• - Die Ozonausbeute steigt mit dem Kohlenwasserstoffgehalt im Reaktionsgas. Diese Tatsache ist bekannt aus der Atmosphären­ physik.

Zu Einsatzgebieten für die erfindungsgemäße physikalisch-chemische Abwasserreinigung gehören beispielsweise die Reinigung von

• - Sickerwasser
• - PCB-belastete Abwässer
• - Altlasten-Abwässer
• - Abwässer aus Lackierereien und
• - Abwässer aus der Galvanik.

Die mit der Erfindung erzielbaren Vorteile bestehen insbesondere darin, daß zur kombinierten Ozon- und Strahlenbehandlung nur eine Energiequelle, nämlich ein kommerziell erhältlicher Elektronen­ beschleuniger, sowie nur ein Reaktor benötigt wird. Bei der Ab­ sorption von Elektronen in bewegter Luft (auch feuchter Luft) kann Ozon im Konzentrationsbereich zwischen 0,2 bis 0,4 g/m³ mit einem spezifischen Energiebedarf von etwa 8 bis 12 kWh/kg Ozon erzeugt werden. Die direkte Abwasserbestrahlung mit Elektronen ist im Vergleich zur UV-Bestrahlung effizienter, da die Elektronen mit einem Wirkungsgrad von mindestens 40% erzeugt werden können und die Absorption im Abwasser unabhängig von der momentanen Färbung bzw. Trübung ist. Die weiteren Vorteile der nach dem Hauptan­ spruch und nach den Unteransprüchen ausgebildeten Erfindung sind

• - das Gas, aus dem Ozon direkt durch Bestrahlung mit energie­ reichen Elektronen gewonnen wird, bedarf keiner Trocknung und kann mit höherem Volumenstrom und höherer Geschwindigkeit im Kreislauf geführt werden
• - Ozon ist auch im geringeren Konzentrationsbereich wirksam, wenn die physikalischen (Verweilzeit, Stoffübergang) und verfahrens­ technische Voraussetzungen (Apparategröße, Benetzungsfläche) dadurch gegeben sind, daß ein relativ großes Reaktionsvolumen mit einer großen, inneren Oberfläche (Füllkörperschicht) zur Verfügung steht.
• - wegen der Gas-Kreislaufführung kann nicht absorbiertes Ozon ohne wesentliche Rekombinationsverluste wieder neu in den Reaktor eingeleitet und genutzt werden (die erforderliche Dosis kann hierdurch reduziert werden, da im wesentlichen nur die effektiv vom Abwasser absorbierte Ozon-Menge (Differenz zwischen Ausgangs- und Eingangs-Ozon-Massenstrom) neu erzeugt werden muß)
• - ist das Kreislaufgas mit organischen Stoffen durch Stripvor­ gänge im Behälter geladen, können diese Organika ohne nennenswerten Dosismehrbedarf im Reaktor neben der Ozonerzeugung strahlenchemisch abgebaut werden. Wenn hierbei z. B. kohlenstoffhaltiges Aerosol erzeugt wird, kann dieses in der dem Behälter nachgeschalteten Filterstufe zurückgehalten werden.
• - durch die mittels gasfreien Zu- und Ablauf hermetisch abgedich­ tete Gas-Kreislaufführung wird beispielsweise nur soviel Frisch-Sauerstoff benötigt, wie effektiv vom Abwasser ver­ braucht wird. Hierdurch wird z. B. die sparsame Verwendung von teurem Rein-Sauerstoff ermöglicht. Außerdem erübrigt sich durch den geschlossenen Gaskreislauf eine Abluftbehandlung zur Rest­ ozonentfernung und zur Absorption der aus dem Abwasser desor­ bierten Kohlenwasserstoffe
• - ohne Bedarf eines zusätzlichen technischen Systems kann mit demselben Elektronenbeschleuniger und demselben Reaktor, wie er zur Ozonerzeugung benötigt wird, auch eine effiziente Ab­ wasserbestrahlung durchgeführt werden
• - die Dosisanteile der zu bestrahlenden Luft (zur Ozonerzeugung und zum Abbau gestrippter Kohlenwasserstoffe) und des zu be­ strahlenden Abwassers (zur Radikalbildung) können bei verti­ kaler Bestrahlungsrichtung durch Einstellung der Flüssigkeits­ höhe variiert werden und an die jeweilige Reinigungsaufgabe an­ gepaßt werden.
• - die Durchmischung des Abwassers während der Bestrahlung ergibt eine direkte O₃-Aufnahme, eine bessere Verteilung der absor­ bierten Strahlung, da die Eindringtiefe der Elektronenstrahlen relativ zur Schichtdicke gesehen, gering ist, und eine Nach­ reaktion und Vermischung der im Abwasser gebildeten oxidieren­ den Substanzen mit relativ kurzer Lebensdauer.

Die Erfindung wird weiterhin anhand der in Fig. 1 dargestellten beispielhaften Ausführungsform erläutert, ohne sie jedoch darauf zu beschränken.

Über einen gasfreien Zulauf (30) wird das Abwasser dem im Behälter (7) befindlichen, oberen Flüssigkeitsverteiler (13) zugeleitet und über eine obere Füllkörperschicht (10) gerieselt. Von dort tropft das vorbehandelte Abwasser durch einen unteren Flüssigkeitsver­ teiler (14) auf die untere Füllkörperpackung (15), wo es, vermischt mit dem von der Umwälzpumpe (11) geförderten und über den Abwasserkreislauf (12) dem unteren Flüssigkeitsverteiler (14) zugeführten Kreislaufwasser, in den Sumpf (8) des Behälters läuft. Im Gegenstrom zum Abwasser (30) und Abwasserkreislauf (12) wird durch den Behälter (7) von unten nach oben ein Kreislaufgas in einem Gaskreislauf (52) mit einem Umwälzgebläse (6) umgewälzt. Nach Durchströmen des Behälters (7) wird das Kreislaufgas einer parallel angeordneten, umschaltbaren Filterstufe (23, 24) zuge­ führt, wo mitgerissene, mit oberflächenaktiven Substanzen ange­ reicherte Tröpfchen abgeschieden und intervallweise und "off-line" mit der Spülwasserleitung (25, 26) und der Abschlämmleitung (27, 28) abgeschlämmt werden. Das von suspendierten Teilchen befreite Kreislaufgas wird anschließend mit dem Umwälzgebläse (6) in den Bestrahlungsreaktor (1) eingeleitet.

Das Kreislaufgas durchströmt das obere Gasvolumen (2) des Be­ strahlungsreaktors (1) und wird von oben durch ein elektronen­ durchlässiges Fenster (29) mit Elektronen der Elektronenstrahl­ quelle (4) bestrahlt. Die vertikale Eindringtiefe der Elektronen in das horizontal strömende Kreislaufgas wird hierbei so ange­ paßt, daß etwa die Hälfte bis zwei Drittel der verfügbaren Elektronenstrahldosis im Kreislaufgas absorbiert wird. Das bestrahlte, nun ozonhaltige Kreislaufgas wird anschließend wieder in den Behälter (7) oberhalb des Sumpfes (8) eingeleitet, wo es zuerst dem Abwasserkreislauf (12) und anschließend dem Abwasser (30) entgegenströmt.

Das Kreislaufwasser wird mit der Pumpe (11) aus dem unteren Bereich des Sumpfes (8) abgezogen und dem unteren Flüssigkeits­ verteiler (14) zugeleitet. Ein Teilstrom (34) des Kreislaufwassers wird über ein T-Stück (16) abgezweigt und über ein Regulierventil (40) dem unteren, wannenförmigen Flüssigkeitsvolumen (3) des Reaktors (1) zugeführt. Beim Durchströmen durch den unteren Teil des Reaktors wird die restliche verfügbare Elektronenstrahldosis absorbiert. Mit einer Umwälzpumpe (5) wird der bestrahlte Teilstrom (34) des Kreislaufwassers (12) aus dem Reaktor (1) füllstandsabhängig abgezogen und wieder in den flüssigkeitsgefüllten Sumpf (8) des Behälters (7) eingeleitet. Ein weiterer Teilstrom des Abwasserkreislaufs wird als Reinwasser (31) über das T-Stück (16) abgezweigt und in den Zusatzbehälter (17) eingeleitet. Der eingeleitete Reinwasser-Volumenstrom entspricht etwa dem zugeführten Abwasser-Volumenstrom. Der Zusatzbehälter (17) enthält ein großes Flüssigkeitsvolumen (18), das durch die im wesentlichen von unten nach oben verlaufende, langsame Strömung zur Entgasung des Reinwassers (31) dient, und ein durch einen Überlauf (33) abgetrenntes, kleines Flüssigkeitsvolumen (19), das füllstandsabhängig mit dem Regulierventil (42) entleert wird, so daß das ablaufende Reinwasser (31) gasfrei ist. Das Gasvolumen (20) des Behälters (17) ist über die Entgasungsleitung (21) an den Gaskreislauf (52) angeschlossen.

Dem Kreislaufgas wird über ein T-Stück (53) ein Regulierventil (41) Sauerstoff oder ein anderes geeignetes Gas aus einer Gas­ versorgung (50) in einer solchen Menge zugeleitet, wie das Ab­ wasser (30) und der Abwasserkreislauf (12) die gebildeten Gase (z. B. Ozon) absorbiert und umsetzt. Bei konstant geregelten Füll­ ständen der Flüssigkeiten in den Behältern (7) und (17) wird der Druck des umgewälzten Gasvolumens beispielsweise durch absorbier­ tes Ozon erniedrigt. Durch Nachspeisung von Frischgas aus der Gasversorgung (50) kann der Druck im Gaskreislauf, gesteuert über eine am Gaskreislauf angeschlossene Druckmessung (51), die über eine Regelstrecke das Regulierventil (41) betätigt, konstant ge­ halten werden. Hierdurch ist auch gewährleistet, daß nur so viel Frischgas eingespeist werden muß, wie effektiv vom Abwasser (30) und vom Abwasserkreislauf (12) absorbiert wird.

Liste der Bezugszeichen

 1 Bestrahlungsreaktor
 2 Gasvolumen
 3 Flüssigkeitsvolumen
 4 Elektronenstrahlquelle
 5 Fördereinrichtung (Umwälzpumpe)
 6 Fördereinrichtung (Umwälzpumpe)
 7 Behälter
 8 Sumpf
 9 Gasvolumen
10 obere Füllkörperschicht
11 Fördereinrichtung (Umwälzpumpe)
12 Abwasserkreislauf
13 oberer Flüssigkeitsverteiler
14 unterer Flüssigkeitsverteiler
15 untere Füllkörperschicht
16 Abzweig (T-Stück)
17 Zusatzbehälter
18 Flüssigkeitsvolumen, groß
19 Flüssigkeitsvolumen, klein
20 Gasvolumen
21 Abgasleitung
22 Abgasleitung
23 Abgasfilter
24 Abgasfilter
25 Spülwasserleitung
26 Spülwasserleitung
27 Abschlämmleitung
28 Abschlämmleitung
29 Elektronenstrahlfenster
30 Abwasser-Zulauf
31 Reinwasser-Ablauf
32 Entleerung
33 Überlauf
40 Regulierventil
41 Regulierventil
42 Regulierventil
50 Frischgasversorgung
51 Druckregelung
52 Gaskreislauf
53 Abzweig (T-Stück)

Claims (14)

1. Verfahren zur physikalisch-chemischen Abwasserreinigung mittels Elektronenbestrahlung, dadurch gekennzeichnet, daß man einen Sauerstoff enthaltenden Gasstrom und gleichzei­ tig dabei zumindest einen Teilstrom des zu reinigenden Abwas­ sers einer Elektronenbestrahlung unterwirft und dann den nach der Elektronenbestrahlung ozonhaltigen Gasstrom mit dem zu reinigenden Abwasser in innige Berührung bringt.

2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß man das zu reinigende Abwasser während der Bestrahlung intensiv mischt.

3. Verfahren nach Anspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, daß man den Gasstrom im Kreislauf führt.

4. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß der ozonhaltige Gasstrom 0,1 bis 10 g, vorzugsweise 0,1 bis 1 g, Ozon pro Kubikmeter Gas enthält.

5. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 4, da­ durch gekennzeichnet, daß man den ozonhaltigen Gasstrom in ei­ ner zweiten Stufe in einem Behälter (7) im Gegenstrom mit dem zu reinigenden Abwasser in Berührung bringt.

6. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 5, da­ durch gekennzeichnet, daß man den ozonhaltigen Gasstrom während der Bestrahlung des zu reinigenden Abwassers durch dieses leitet, vorzugsweise in einer solchen Weise, daß gleichzeitig eine intensive Durchmischung des zu reinigenden Abwassers stattfindet.

7. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 6, da­ durch gekennzeichnet, daß man den im Kreislauf geführten Gas­ strom nach Kontaktierung mit dem Abwasser von mitgerissenen Substanzen befreit.

8. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 7, da­ durch gekennzeichnet,

• - daß das Abwasser (30) mit dem Gas eines hermetisch abgedich­ teten Gaskreislaufs (52) in Berührung gebracht wird und das Abwasser (30) diesem Gaskreislauf (52) gasfrei zuläuft und in gereinigter Form als Reinwasser (31) gasfrei abläuft und daß das Gas im Gaskreislauf (52) nach Berührung mit dem Ab­ wasser (30) einem Filter (23, 24) zugeleitet wird und flüs­ sige und feste Schwebeteilchen aus dem Gas abgetrennt werden und
• - daß das Gas anschließend mit einer Fördervorrichtung (6) in einen Bestrahlungsreaktor (1) eingeleitet wird, wo das Gas mit einer Geschwindigkeit zwischen 0,1 bis 10 m/s durchge­ leitet wird und mit Elektronen aus einer Elektronenstrahl­ quelle (4) durch ein Elektronenstrahlfenster (29) mit einer Gesamtdosis zwischen 0,1 und 10 kGy bestrahlt wird, so daß nach Teilabsorption der Elektronen durch das Gas die Elek­ tronen noch eine Restenergie aufweisen, die zwischen 10 und 90% der gesamt absorbierbaren Dosis beträgt und
• - daß in dem am Boden oder an einer oder mehreren Seiten des Bestrahlungsreaktors fließenden Abwassers (3), das mit einem Teilstrom (34) über einen Abzweig (16) aus dem Abwasserkreis­ lauf (12) steuerbar entnommen wird, die zwischen 10 und 90% betragende, restliche Energie der Elektronen vollständig ab­ sorbiert wird und der bestrahlte Teilstrom anschließend mit einer Fördervorrichtung (5) dem Abwasserkreislauf (12) wie­ der zugeführt wird und
• - daß das Abwasser in einem mit Abwasser teilgefüllten Behäl­ ter (7) mit dem Gas des Gaskreislaufes (52) in Berührung gebracht wird, so daß der Abwasserkreislauf (12), dessen Abwasser-Volumenstrom das 1fache bis Vielfache des Abwasser-Zulaufstromes (30) beträgt, mit der Förder­ einrichtung (11) bewegt wird und in einen im mitt­ leren bis oberen Teilbereich des Behälters (7) befindlichen, unteren Flüssigkeitsverteiler (14) eingeleitet wird und das Abwasser von dort aus mit Schwerkraft in eine unter dem Flüssigkeitsverteiler (14) liegende Füllkörperschicht (15) strömt und rieselförmig dem bestrahlten Gas (2), das ober­ halb des Sumpfes (8) und unterhalb der Füllkörperschicht (15) des Behälters (7) eingeleitet wird, entgegenläuft und
• - daß das Abwasser mit einem Volumenstrom, der im wesentlichen dem Abwasser-Zulaufvolumenstrom (30) entspricht, als Rein­ wasser am Abzweig (16) aus dem Abwasser-Kreislauf (12) ab­ gezweigt wird und in einen Zusatzbehälter (17) eingeleitet wird, wo das Reinwasser in seinem größten Volumenanteil (18) von unten nach oben strömt und freiwerdendes Restgas im obe­ ren, flüssigkeitsfreien Teil (20) des Zusatzbehälters in den Gaskreislauf (52) zurückströmt und das Reinwasser anschlie­ ßend im kleineren Volumenanteil (19) des Zusatzbehälters (17), der durch einen Überlauf (33) vom größeren Volumenan­ teil abgetrennt ist, von oben nach unten strömt und über ein Regulierventil (42) steuerbar nach der Flüssigkeitshöhe aus dem Zusatzbehälter gasfrei als Reinwasser (31) abläuft und
• - daß das Abwasser (30) über den im obersten Teil des Behäl­ ters (7) befindlichen Flüssigkeitsverteiler (13), der über einer oberen Füllkörperschicht (10) angeordnet ist, dem Ab­ wasser-Kreislauf (12) gasfrei zuläuft.

9. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 8, da­ durch gekennzeichnet, daß dem Gas des Gaskreislaufes (52) aus einer steuerbaren Gasversorgung (50, 41) über einen Abzweig (53) Frischgas in der Menge zugeführt wird, daß der Druck im Gaskreislauf (52) annähernd konstant im Bereich des Atmos­ phärendrucks gesteuert wird.

10. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 9, da­ durch gekennzeichnet, daß das Gas des Gaskreislaufes (52) und das Frischgas (50) aus Atmosphärenluft oder synthetischer Luft oder aus mit Sauerstoff angereicherte Luft oder aus reinem Sauerstoff bestehen oder aus reinem oder aus mit Luft oder Sauerstoff vermischtem Kohlendioxid.

11. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 10, da­ durch gekennzeichnet, daß das Filter im Gaskreislauf (52) we­ nigstens aus 2 parallel geschalteten Filtern (23, 24) besteht, die wechselweise dem Gaskreislauf (52) zu- und abgeschaltet werden können und die im abgeschalteten Zustand mit Reinwasser aus dem Zusatzbehälter (17) mit den Sprühdüsen (25, 26) abge­ schlämmt werden und das Abschlämmwasser über die Abläufe (27, 28) einer separaten Behandlungsstufe zugeleitet wird.

12. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 11, da­ durch gekennzeichnet, daß die Füllstandshöhe der Flüssigkeit (3) im Reaktor (1) steuerbar ist, so, daß das Verhältnis aus absorbierter Dosis im Gas zu absorbierter Dosis in der Flüs­ sigkeit zwischen 1/10 und 10 variiert werden kann.

13. Verfahren nach einem oder mehreren der Ansprüche 1 bis 12, da­ durch gekennzeichnet, daß die Filter (23, 24) im Gaskreislauf (52) aus einem selbstabreinigenden Naß-Elektrofilter oder ei­ nem Kondensations-Elektrofilter bestehen und die elektro­ statisch abgeschiedenen Feuchtaerosole selbsttätig unter Schwerkraftwirkung in einen Ablauf (27) fließen.

14. Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens gemäß Ansprüchen 1 bis 13, gekennzeichnet durch einen Bestrahlungsreaktor (1) und Einrichtungen, die es gestatten gleichzeitig das zu reinigende Abwasser und einen im Kreislauf geführten Gasstrom an dem Elektronenaustrittsfenster des Elektronenstrahlers vorbei zuführen sowie Einrichtungen, mit denen es möglich ist, den ozonhaltigen Gasstrom mit dem zu reinigenden Abwasser in innige Berührung zu bringen.