DE4140988C2 - Erzeugung Planck'scher Schwarzkörperstrahlung mit einer punktförmigen Lichtquelle - Google Patents
Erzeugung Planck'scher Schwarzkörperstrahlung mit einer punktförmigen LichtquelleInfo
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Description
Die Erfindung geht aus von einem Verfahren zur Erzeugung
Planck′scher Schwarzkörperstrahlung gemäß dem Oberbegriff des
Anspruchs 1 und betrifft außerdem ein Verfahren zur optischen
Spektroskopie unter Verwendung einer derart erzeugten Schwarz
körperstrahlung.
Es ist bekannt, für spektroskopische Experimente, insbesondere
die Absorptionsspektroskopie, im optischen Bereich des elek
tromagnetischen Spektrums Gasentladungslampen, insbesondere
Xenon- oder Quecksilberdampflampen als Lichtquellen zu ver
wenden. Diese bekannten Lichtquellen haben jedoch verschiedene
Nachteile. Zum einen ist die erreichbare Leuchtdichte infolge
ihrer makroskopischen Ausdehnung (Größenordnung mm oder cm)
begrenzt. Zum zweiten sind gerade für die Untersuchung von
Festkörpern, insbesondere Halbleitern, Lichtquellen erwünscht,
deren Emission den optischen Bereich des elektromagnetischen
Spektrums, also vom infraroten bis in den ultravioletten
Bereich, möglichst vollständig und gleichmäßig abdeckt. Das
mit Gasentladungslampen erreichbare Lichtemissionsspektrum
deckt jedoch jeweils nicht den ganzen optischen Spektral
bereich mit hinreichender Intensität ab, so daß eine Messung
in einem bestimmten Spektralbereich oftmals mangels Licht
intensität nicht durchgeführt werden kann, und wenn überhaupt,
nicht mit der erforderlichen Genauigkeit. Zum dritten finden
sich im Emissionsspektrum unerwünschte Fluoreszenzlinien
elektronischer Übergänge der Atome des jeweils verwendeten
Leuchtmediums, die sich bei einer Messung ebenfalls störend
bemerkbar machen können.
Thermische Lichtquellen, wie Glühlampe, Nernststift u. dgl.
liefern zwar ein im wesentlichen kontinuierliches Spektrum,
die erzielbaren Leuchtdichten im sichtbaren und nahen ultra
violetten und infraroten Spektralbereich sind jedoch für viele
Zwecke unzureichend und kleine Abmessungen des Emissions
bereiches sind schwer zu erreichen.
In der DE-AS 11 12 785 und der DE-PS 4 43 970 sind Vorrich
tungen beschrieben, bei denen hitzebeständige Leuchtkörper in
einem hochfrequenten elektromagnetischen Feld erhitzt werden
und eine von ihrer Temperatur abhängige Planck′sche Schwarz
körperstrahlung emittieren. Bei der Anordnung nach der
DE-AS 11 12 785 wird in der Umgebung der Materialprobe ein
Überdruck erzeugt, der es erlaubt, den Leuchtkörper auf hohe
und überkritische Arbeitstemperaturen zu erhitzten, so daß
sich das Emissionsspektrum nach kürzeren Wellenlängen er
weitert. Der Nachteil dieser im Stand der Technik bekannten
Anordnungen ist jedoch, daß eine Verkleinerung der Abmessungen
des lichtemittierenden Bereichs zur Erzielung einer hohen
Leuchtdichte nicht durch einfache technische Maßnahmen reali
siert werden kann, da die Leuchtkörper stets als Ganzes
emittieren. Einer Verkleinerung der Leuchtkörper selbst stehen
wiederum praktische Erfordernisse (Handhabbarkeit der Proben)
entgegen.
Es ist daher Aufgabe der vorliegenden Erfindung, ein Verfahren
zur Erzeugung Planck′scher Schwarzkörperstrahlung mit hoher
Leuchtdichte anzugeben.
Diese Aufgabe wird durch ein Verfahren mit den kennzeichnenden
Merkmalen des Anspruchs 1 gelöst.
Mit der Erfindung wird ein neuartiges Verfahren zur Erzeugung
Planck′scher Strahlung vorgeschlagen, wobei die durch das
Verfahren geschaffene Lichtquelle selbst durch den Brennfleck
eines auf ein Target gerichteten Laserstrahls definiert ist.
Ein wesentlicher Vorteil des erfindungsgemäßen Verfahrens
liegt in den geringen lateralen Abmessungen der Lichtquelle,
die in der Größenordnung von 10 µm bis einige 10 µm liegen
können, so daß die Lichtquelle praktisch als punktförmig
angesehen werden kann. Weiterhin vorteilhaft ist die Flexi
bilität der Anordnung, da die Lichtquelle relativ leicht
räumlich verschoben werden kann. Ein weiterer Vorteil des
erfindungsgemäßen Verfahrens liegt in der Tatsache, daß Tem
peraturen erreicht werden können, die weit über denen her
kömmlicher Lichtquellen (ca. 2500 bis 3000°) liegen, die durch
den Schmelz- oder Siedepunkt des Materials dieser Lichtquellen
(z. B. Wolfram) begrenzt sind. Bei dem erfindungsgemäßen Ver
fahren werden Temperaturen weit oberhalb des kritischen
Punktes erreicht, indem die Quelle einem hohen Druck aus
gesetzt wird. Durch die höhere Betriebstemperatur der Quelle
erweitert sich der Spektralbereich der emittierten
Planck′schen Schwarzkörperstrahlung zu höheren Energien (ins
UV) hin.
Die Leuchtdichte steigt also zum einen durch die im Vergleich
zu herkömmlichen Lichtquellen erheblich kleineren lateralen
Abmessungen und zum anderen durch die höhere Emissionstem
peratur.
Die erreichbare Leuchtdichte übersteigt dadurch die herkömm
licher thermischer Lichtquellen um ein Mehrfaches.
Besondere Anwendungen oder vorteilhafte Ausgestaltungen des
vorliegenden Verfahrens sind Gegenstand von Unteransprüchen.
Im folgenden werden Ausführungsbeispiele der Erfindung anhand
der Zeichnungen näher erläutert. Es zeigen:
Fig. 1 eine Diamantstempel-Hochdruckapparatur zur Durchführung
des erfindungsgemäßen Verfahrens,
Fig. 2 eine schematische Anordnung eines Versuchsaufbaus zur
optischen Absorptions-(2A)- und Reflexionsspektroskopie
(2B) unter Verwendung von erfindungsgemäß erzeugter
Schwarzkörperstrahlung.
Die Lichtquelle besteht im wesentlichen aus einem Target,
vorzugsweise aus einem festen Material in einer Diamant- oder
Saphir-Hochdruckzelle, das durch Energiezufuhr, vorzugsweise
durch einen Laserstrahl, örtlich auf eine so hohe Temperatur
erhitzt wird, daß der erhitzte Emissionsbereich die gewünschte
kontinuierliche optische Stahlung emittiert.
Dadurch, daß das Target einem hohen Druck ausgesetzt wird,
können überkritische Temperaturen bis zu 6000 K (also weit
oberhalb des Schmelzpunktes des Targetmaterials) erreicht und
zeitlich konstant gehalten werden. Wenn als Targetmaterial ein
festes Material verwendet wird, kann auch der Schmelzpunkt des
Materials durch den hohen Druck so weit verschoben werden, daß
das Targetmaterial im Betrieb nicht schmilzt und die
Emissionstemperatur gleichwohl deutlich über der herkömmlicher
Lichtquellen (2500°-3000°) liegt. Das Targetmaterial kann aber
auch ein festes Material sein, das bei der Energiezufuhr
seinen Aggregatzustand ändert (schmilzt). Das Targetmaterial
kann auch ein flüssiges Material sein.
Die punktförmige Ausdehnung der Lichtquelle kann einmal
dadurch erreicht werden, daß ein Target mit den oben erwähnten
kleinen Abmessungen, also z. B. 10 µm bis zu einigen 10 µm,
verwendet wird und dadurch als Ganzes den Emissionsbereich
bildet, oder dadurch, daß nur einem entsprechend kleinen Teil
des Targets Energie zugeführt wird.
Fig. 1 stellt eine punktförmige Lichtquelle in einer Diamant
stempel-Hochdruckapparatur dar. Diamantstempel-Hochdruck
apparaturen werden seit einiger Zeit dazu verwendet, extrem
hohe hydrostatische Drucke für verschiedene Anwendungen zu
erzeugen. Wie Fig. 1 zeigt, wird der Druck dabei zwischen den
Stirnflächen 1a zweier Diamantkristalle 1 erzeugt, die
parallel zueinander in einem Abstand von einigen 10 µm
voneinander angeordnet sind. Zwischen den Diamantstempeln 1
befindet sich eine Flüssigkeit 2 (z. B. Methanol) als Druck
überträger. Als Dichtung wird zwischen die Diamantstempel eine
mit einem Loch versehene Metallscheibe 4 geklemmt. Die beiden
Diamantkristalle 1 sind jeweils an einem feststehenden und
einem beweglichen Kolben befestigt, wobei der bewegliche
Kolben an einem Ende eines Hebelarms angebracht ist, dessen
relative Lage durch eine Druckschraube in Verbindung mit
Federkräften manuell verändert werden kann (nicht gezeigt)
Ein Teil der ringförmigen Metallscheibe 4 wird in ihrem Außen
bereich durch den Druck herausgequetscht und dient somit als
Dichtung der Hochdruckkammer. Mit Hilfe dieser Anordnung
werden heutzutage routinemäßig Drucke von einigen 10¹⁰ Pa
erzeugt.
Ein entscheidender Vorteil dieser Apparatur für spektros
kopische Experimente ist die Lichtdurchlässigkeit der Diamant
kristalle 1 über den gesamten Bereich des sichtbaren
Spektrums. Dies wird in der Ausführungsform nach Fig. 1
dahingehend ausgenutzt, daß ein Target 3 im Inneren der Hoch
druckkammer angeordnet, d. h. in die druckübertragende Flüssig
keit 2 eingebettet wird. Ein Laserstrahl, vorzugsweise infra
roter Wellenlänge, z. B. 1064 nm, wird durch eine Sammellinse
(nicht gezeigt) gebündelt, durch einen der beiden Diamant
kristalle 1 in die Hochdruckkammer eingekoppelt und auf das
Target 3 gerichtet, so daß der Brennfleck des Laserstrahls auf
der Oberfläche des Targets 3 einen Emissionsbereich 3a für
thermische Strahlung bildet.
Die Laserstrahlquelle (nicht gezeigt) kann z. B. ein Neodym-YAG-Laser,
ein YLF-Laser, ein CO₂-Laser, ein Halbleiter-Laser
oder ein anderer Infrarot-Laser sein.
Das Target 3 kann z. B. ein metallhaltiges Salz oder ein
reines Salz oder ein Metall enthalten. Der Laserstrahl kann
in einer oberflächennahen Schicht des Targets 3 oder im
Target 3 absorbiert werden. Der durch den Laserstrahl
bestrahlte Bereich 3a des Targets 3 soll im folgenden als
Emissionsbereich 3a bezeichnet werden.
Das Target 3 kann z. B. aus Wolfram oder Molybdän oder einem
anderen Übergangsmetall oder deren Boriden, Carbiden oder
Nitriden bestehen. Wenn das Targetmaterial ein festes Material
ist, so ist es vorzugsweise in einen thermischen Isolator,
z. B. Kaliumbromid (KBr) eingebettet. Das Targetmaterial kann
dabei in Folienform oder in pulverisierter Form in den
Isolator eingebettet sein. Das Targetmaterial kann aber auch
aus dem Drucküberträger 2 bestehen.
Die Wahl eines Infrarot-Lasers in der Ausführungsform nach
Fig. 1 gewährleistet im allgemeinen, daß die zugeführte
optische Strahlungsenergie möglichst vollständig dem Wärme
system des Targets 3, d. h. des Emissionsbereiches 3a zu
geführt wird. Es kann aber auch ein Laser anderer Wellenlänge
verwendet werden, z. B. vorzugsweise in den Fällen, in denen
infrarotes Licht aufgrund von zu geringer Lichtabsorption zu
tief in das Material des Targets 3 eindringt.
Wegen der stets vorhandenen Wärmeverluste durch Wärmeleitung,
durch Konvektion und durch die für die vorliegende Erfindung
bedeutsame Wärmestrahlung steigt die Temperatur T des laser
beheizten Emissionsbereiches 3a mit zunehmender Bestrahlungs
dauer nicht immer weiter an, sondern erreicht sehr schnell
einen Sättigungswert, von wo an die Temperatur des Emissions
bereiches 3a bei zeitlich konstant gehaltener auffallender
Strahlungsleistung des Laserstrahls ebenfalls zeitlich
konstant bleibt. Der Emissionsbereich 3a emittiert eine von
seiner Temperatur T abhängige Planck′sche Wärmestrahlung.
Fig. 2 zeigt eine bevorzugte Ausführungsform einer Versuchs
anordnung zur optischen Absorptions- oder Reflexionsspektros
kopie unter Verwendung einer erfindungsgemäßen Lichtquelle.
Dabei wird ein Laserstrahl, vorzugsweise infraroter Wellen
länge, z. B. 1064 nm, durch eine Sammellinse 11 fokussiert und
durch einen Umlenkspiegel 12 auf das Target 3 gerichtet. Die
vom Emissionsbereich 3a des Targets 3 ausgehende Schwarz
körperstrahlung wird durch ein Reflexionsobjektiv, bestehend
aus einem nach innen gewölbten Spiegel 14 mit einer zentralen
Bohrung nach einem nach außen gewölbten Spiegel 15 in ein
Lichtbündel mit kleinem Strahlquerschnitt und kleiner
Divergenz gewandelt. Die Oberflächen der Spiegel 14, 15
haben vorzugsweise breitbandige Reflexionscharakteristik.
Alternativ kann auch (wie links im Bild gezeigt) bei
Materialien mit hoher Eindringtiefe. Des anregenden Laser
strahls die Anregung von hinten erfolgen.
Die Schwazkörperstrahlung kann dann entweder für ein
spektroskopisches Absorptionsexperiment (Fig. 2A) in dem eine
zu untersuchende Probe 16 durchstrahlt wird, oder für ein
spektroskopisches Reflexionsexperiment (Fig. 2B) bei der die
breitbandige Strahlung an der Probe 16 reflektiert wird,
genutzt werden.
Claims (18)
1. Verfahren zur Erzeugung Planck′scher Schwarzkörper
strahlung, bei welchem einer Lichtquelle (3a), in deren
Umgebung ein Überdruck herrscht, Energie in der Weise
zugeführt wird, daß sie sich erwärmt, eine zeitlich kon
stante Temperatur T einnimmt und eine von ihrer Temperatur T
abhängige Planck′sche Schwarzkörperstrahlung emittiert,
dadurch gekennzeichnet, daß die Lichtquelle (3a) ein räum
licher Bereich eines Targets (3) ist, und daß die Energie
zufuhr in der Weise erfolgt, daß ein Laserstrahl einer
Laserstrahlquelle auf das Target (3) gerichtet wird, und daß
die Wellenlänge der Laserstrahlung derart eingestellt wird,
daß die optische Strahlungsenergie des Laserstrahls vom
Target ganz oder teilweise in Wärmeenergie der Lichtquelle
(3a) umgewandelt wird, und daß der durch den Brennfleck des
Laserstrahls im oder auf dem Target (3) bestimmte räumliche
Bereich die Lichtquelle (3a) ist, und wobei die räumlichen
Abmessungen der Lichtquelle (3a) in der Größenordnung von
10 µm oder einigen 10 µm liegen.
2. Verfahren nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß
der Überdruck in der Umgebung des Targets durch eine Diamant- oder
Saphirstempel-Hochdruckapparatur erzeugt wird.
3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, daß
die Hochdruckapparatur eine Druckkammer (5) aufweist, die
mit einem Drucküberträger (2) gefüllt ist, wobei das Target
der Drucküberträger selbst oder ein davon verschiedenes
Material ist.
4. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das Targetmaterial ein festes
oder ein flüssiges Material ist.
5. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß
die Laserstrahlquelle ein Neodym-YAG-Laser, ein YLF-Laser,
CO₂-Laser, ein Halbleiter-Laser oder ein anderer Infrarot-Laser
ist.
6. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur T der Lichtquelle
(3a) überkritisch ist.
7. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Temperatur T der
Lichtquelle (3a) großer oder gleich 3000 K beträgt.
8. Verfahren nach Anspruch 7, dadurch gekennzeichnet,
daß die Temperatur T der Lichtquelle (3a) größer oder gleich
5000 K beträgt.
9. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das Target (3) ein reines Salz
oder ein metallhaltiges Salz oder ein Metall enthält.
10. Verfahren nach Anspruch 9, dadurch gekennzeichnet, daß
das Target (3) ein Übergangsmetall enthält.
11. Verfahren nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet,
daß das Übergangsmetall Wolfram oder Molybdän ist.
12. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das Target (3) Graphit enthält.
13. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das Target (3) Zirkondioxid
enthält.
14. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß das Target (3) in einem
thermischen Isolator eingebettet ist.
15. Verfahren nach Anspruch 14, dadurch gekennzeichnet,
daß der thermische Isolator Kaliumbromid (KBr) ist.
16. Verfahren nach einem der vorhergehenden Ansprüche,
dadurch gekennzeichnet, daß die Schwarzkörperstrahlung der
Lichtquelle (3a) zur spektroskopischen Analyse einer Probe
(16) verwendet wird.
17. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß
die Probe (16) von der Schwarzkörperstrahlung durchstrahlt
wird.
18. Verfahren nach Anspruch 16, dadurch gekennzeichnet, daß
die Probe (16) die Schwarzkörperstrahlung reflektiert.
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