DE4113111A1 - Vakuum-signaldurchfuehrung - Google Patents
Vakuum-signaldurchfuehrungInfo
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Description
Aus Microelectronic Engineering 9 (1989) S. 199-203 ist ein
als Kammsondenprojektor bezeichnetes Lithographiegerät bekannt,
dessen elektronenoptische Säule eine Steuereinheit zur Er
zeugung einer Vielzahl individuell austastbarer Elektronen
sonden enthält. Diese in Microelectronic Engineering 9 (1989)
S. 205-208 beschriebene Steuereinheit besteht aus einer eine
linienförmige Anordnung von bis zu 1024 Durchtrittsöffnungen
aufweisenden Aperturblende und einer Ablenkplatte mit einer
der Anzahl der erzeugten Elektronensonden entsprechenden An
zahl von Mikrokondensatoren. Die am Rand einer rechteckförmigen
Durchtrittsöffnung überhängend angeordneten Mikrokondensatoren
haben die Aufgabe, die einzelnen Elektronensonden innerhalb
individuell vorgebbarer Zeitintervalle auf eine Blende abzu
lenken und dadurch auszutasten.
Die zum Betrieb der Ablenkplatte erforderlichen Signale müssen
von der Ansteuerelektronik durch eine Kammerwand ins Vakuum
geleitet und an die Kontaktstellen der Mikrokondensatoren
herangeführt werden. Dies bereitet erhebliche Schwierigkeiten,
da die Ablenkplatte eine Fläche von nur etwa 100 cm2 aufweist
und die elektronenoptischen Komponenten des Kammsonden
projektors die Zuleitung der mehr als 1000 Signale behindern.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine einfach aufge
baute Vakuumdurchführung anzugeben, mit deren Hilfe man eine
große Anzahl von Signalen auf engstem Raum in eine evakuierte
Kammer leiten kann. Diese Aufgabe wird erfindungsgemäß durch
eine Vakuum-Signaldurchführung mit den in Patentanspruch 1 an
gegebenen Merkmalen gelöst.
Der mit der Erfindung erzielbare Vorteil besteht insbesondere
darin, daß die in einem Kammsondenprojektor vorhandene Ablenk
platte in einfacher Weise mit den für die Austastung der
Elektronensonden erforderlichen Ablenksignalen angesteuert
werden kann.
Die abhängigen Ansprüche betreffen vorteilhafte Weiterbildungen
der im folgenden anhand der Zeichnungen erläuterten Erfindung.
Hierbei zeigen
Fig. 1 den schematischen Aufbau der bekannten Ablenkplatte
Fig. 2 bis 4 Ausführungsbeispiele erfindungsgemäßer Vakuum-
Signaldurchführungen.
Wie eingangs erläutert, dient die in Fig. 1 schematisch darge
stellte Ablenkplatte eines Kammsondenprojektors der individuellen
Austastung der mit Hilfe einer Aperturblende erzeugten Elektronen
sonden PE, PE′. Die in einer evakuierten Kammer angeordnete
Ablenkplatte besteht aus einer eine schlitzförmige Durchtritts
öffnung S aufweisenden Siliziumscheibe SB und bis zu 1024
Ablenkelementen MK, MK′, deren Kontaktstellen MP, MP′ jeweils mit
der die Austastsignale erzeugenden Ansteuerelektronik ver
bunden werden müssen. Da die Ablenkplatte eine Fläche von nur
etwa 100 cm2 besitzt, bereitet es erhebliche Schwierigkeiten,
die Austastsignale durch die Kammerwand ins Vakuum zu leiten
und an die den Ablenkelementen MK, MK′ zugeordneten Kontakt
stellen MP, MP′ heranzuführen.
Zur Durchleitung der für den Betrieb der Ablenkelemente MK,
MK′ erforderlichen Austastsignale in die Kammer kann man ins
besondere das in Fig. 2 im Aufriß (Fig. 2a), in Draufsicht
(Fig. 2b) und in Seitenansicht (Fig. 2c) dargestellte Bauteil
verwenden. Es besteht aus einer Leiterplatte LP, einem die
Leiterplatte LP allseitig umschließenden Gießteil GT und einem
Vakuumflansch FL, der mit Hilfe der in Fig. 2a dargestellten
Schrauben SR an der Kammerwand KW befestigt ist. Da sich auf
gedruckten Leiterplatten selbst bei Anwendung konventioneller
Herstellungsverfahren mehr als 1000 Leiterbahnen LB auf einer
Breite von etwa 10 cm erzeugen lassen, besitzt die erfindungs
gemäße Vakuumdurchführung einen äußerst kompakten und
mechanisch stabilen Aufbau. Außerdem bietet sich die Möglich
keit, den Verlauf der Leiterbahnen LB der Struktur des zu
kontaktierenden Objektes in optimaler Weise anzupassen, insbe
sondere die Leiterbahnen LB im Bereich der Kammerwand KW zu
bündeln und in der Nähe der Ablenkelemente MK wieder auf
zufächern. Anstelle der in bekannten Technologien ausgeführten
Leiterplatte LP (Epoxie-Substrat, Dickschichttechnik auf
Keramik, Metallkernleiterplatte usw.) kann man auch eine Viel
schichtplatine als Signaldurchführung verwenden, wodurch sich
die Anzahl der Leiterbahnen LB bei unveränderter Größe der
Vakuumdurchführung nochmals deutlich erhöhen läßt.
Bei den bisher beschriebenen Ausführungsbeispielen erfolgt
die Vakuumabdichtung durch Eingießen der Leiterplatte LP oder
Vielschichtplatine in einen entsprechend präparierten Vakuum
flansch FL. Wie die Fig. 3 zeigt, kann man die Vakuum
dichtigkeit auch durch flächiges Anpressen von in einer Nut
der Kammerwand KW liegenden Dichtringen DR, DR′ bzw. durch An
bringen eines Dichtprofils in Gießtechnik an der Ober- und
Unterseite der Leiterplatte LP erzielen. Das Dichtprofil ist
hierbei vorteilhafterweise ebenfalls mit einer Nut zur Aufnahme
eines Dichtrings ausgestattet.
Die Leiterplatte und die Vielschichtplatine müssen nicht not
wendigerweise in eine Öffnung der Kammerwand KW eingepaßt werden
(s. Fig. 2b). Bei Verwendung von Dichtringen DR, DR′ oder
Dichtprofilen ist vielmehr die in Fig. 4 dargestellte
Konstruktion zu empfehlen, wo die Leiterplatte LP die Kammer
in einen oberen und einen unteren Teil trennt und allseitig
über die Kammerwand KW hinausragt.
Die Erfindung ist selbstverständlich nicht auf die beschriebenen
Ausführungsbeispiele beschränkt. So kann man die Erfindung
überall dort einsetzen, wo eine große Anzahl von Signalen auf
engstem Raum in eine Vakuumapparatur geführt werden müssen.
Claims (5)
1. Vakuum-Signaldurchführung,
gekennzeichnet durch eine in eine
evakuierte Kammer hineinragende und vakuumdicht gehalterte
Leiterplatte (LP) oder Vielschichtplatine.
2. Vakuum-Signaldurchführung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Leiterplatte (LP) oder Vielschichtplatine in einen
an der Kammer befestigten Flansch (FL) eingegossen ist.
3. Vakuum-Signaldurchführung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Leiterplatte (LP) oder Vielschichtplatine zwischen
einem ersten und einem zweiten Kammerteil angeordnet und durch
flächig angepreßte Dichtringe (DR, DR′) vakuumdicht gehaltert
ist.
4. Vakuum-Signaldurchführung nach Anspruch 1,
dadurch gekennzeichnet,
daß die Leiterplatte (LP) oder Vielschichtplatine zwischen
einem ersten und einem zweiten Kammerteil angeordnet und durch
ein Dichtprofil vakuumdicht gehaltert ist.
5. Vakuum-Signaldurchführung nach Anspruch 4,
dadurch gekennzeichnet,
daß das Dichtprofil einen Nut zur Aufnahme eines Dichtrings
(DR) aufweist.
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19914113111 DE4113111A1 (de) | 1991-04-22 | 1991-04-22 | Vakuum-signaldurchfuehrung |
PCT/DE1992/000281 WO1992019007A1 (de) | 1991-04-22 | 1992-04-08 | Vakuum-signaldurchführung |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE19914113111 DE4113111A1 (de) | 1991-04-22 | 1991-04-22 | Vakuum-signaldurchfuehrung |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
DE4113111A1 true DE4113111A1 (de) | 1992-10-29 |
Family
ID=6430111
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
DE19914113111 Withdrawn DE4113111A1 (de) | 1991-04-22 | 1991-04-22 | Vakuum-signaldurchfuehrung |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
DE (1) | DE4113111A1 (de) |
WO (1) | WO1992019007A1 (de) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE10310070A1 (de) * | 2003-03-07 | 2004-05-06 | Siemens Ag | Vakuumdurchführung |
US10559408B2 (en) | 2016-12-27 | 2020-02-11 | Asml Netherlands B.V. | Feedthrough device and signal conductor path arrangement |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP2734018A1 (de) | 2012-11-19 | 2014-05-21 | Particle Physics Inside Products B.V. | Elektrische vakuumkompatible Durchführungsstruktur und Detektoranordnung mit solch einer Durchführungsstruktur |
Family Cites Families (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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DE2819165A1 (de) * | 1978-05-02 | 1979-11-15 | Siemens Ag | Rasterelektronenmikroskop |
JPH02211391A (ja) * | 1989-02-08 | 1990-08-22 | Mitsubishi Electric Corp | 真空装置 |
US4982055A (en) * | 1989-11-29 | 1991-01-01 | Three E. Laboratories Inc. | Sealed electrical feedthrough device |
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1991
- 1991-04-22 DE DE19914113111 patent/DE4113111A1/de not_active Withdrawn
-
1992
- 1992-04-08 WO PCT/DE1992/000281 patent/WO1992019007A1/de active Application Filing
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US10559408B2 (en) | 2016-12-27 | 2020-02-11 | Asml Netherlands B.V. | Feedthrough device and signal conductor path arrangement |
US10916362B2 (en) | 2016-12-27 | 2021-02-09 | Asml Netherlands B.V. | Feedthrough device and signal conductor path arrangement |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
WO1992019007A1 (de) | 1992-10-29 |
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